JPS63243231A - 金属ニオブの製造方法 - Google Patents
金属ニオブの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はニオブのハロゲン化物の製造方法に関する。
[従来の技術・問題点コ
従来、金属ニオブを造る方法としては、原料中にニオブ
が単独で存在していることは少なく、殆どタンタルと共
存しているので、−mに溶媒抽出技術を使用して1種ま
たは2種以上の金属不純物例えばFe、Mn、Ti、S
n、Sb、W、Ni、Co、Cu、に、Na、NH4、
Zn、Mo、Si、AI、 Ca、■、Li、Th等の
イオンとタンタルイオンを分離し、次に、K C1、K
○■4あるいはNト!、とHFを含有している水溶液と
ニオブイオンを抽出・含有する有機溶媒と接触させるこ
とにより に、Nb0F&の結晶、(N H−)2N bOF s
結晶あるいはNH,ゝとHFを含有するニオブ沈澱物を
造り、更に、大気中で酸化してN b 20 sを造り
、これを炭素で還元するか、またはAIで還元する方法
やに2NbOF、の結晶等を溶融塩電解槽にて還元して
金属ニオブを得る方法がある。
が単独で存在していることは少なく、殆どタンタルと共
存しているので、−mに溶媒抽出技術を使用して1種ま
たは2種以上の金属不純物例えばFe、Mn、Ti、S
n、Sb、W、Ni、Co、Cu、に、Na、NH4、
Zn、Mo、Si、AI、 Ca、■、Li、Th等の
イオンとタンタルイオンを分離し、次に、K C1、K
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ニオブイオンを抽出・含有する有機溶媒と接触させるこ
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結晶あるいはNH,ゝとHFを含有するニオブ沈澱物を
造り、更に、大気中で酸化してN b 20 sを造り
、これを炭素で還元するか、またはAIで還元する方法
やに2NbOF、の結晶等を溶融塩電解槽にて還元して
金属ニオブを得る方法がある。
これらの従来法による金属ニオブには不純物の混入が多
く、エレクトロンビーム炉などで数回も精製しなければ
ならないという欠点があった。
く、エレクトロンビーム炉などで数回も精製しなければ
ならないという欠点があった。
[問題点を解決するための手段]
本発明は通常天然に存在する鉱物資源例えばタンタライ
ト、コロンバイi・、ストルベライト及びパイロクロア
と称される原料から、あるいは産業廃棄物例えば四塩化
チタンの製造の際の残渣、錫スラグ、タンタルコンデン
サーのスクラップ、超電導材料製造の際に発生するスク
ラップ等から一挙に高純度の金属ニオブを造る方法に関
するもので、従来法のように、溶媒抽出技術を利用して
Ta及びFe、Mn、Ti等の金属不純物を分離して精
製したNb2O5を一旦造り、これを炭素あるいは金属
A1を使用して金属ニオブを造る工程からなるように工
程が長く、収率が低下するという欠点を克服するもので
ある。
ト、コロンバイi・、ストルベライト及びパイロクロア
と称される原料から、あるいは産業廃棄物例えば四塩化
チタンの製造の際の残渣、錫スラグ、タンタルコンデン
サーのスクラップ、超電導材料製造の際に発生するスク
ラップ等から一挙に高純度の金属ニオブを造る方法に関
するもので、従来法のように、溶媒抽出技術を利用して
Ta及びFe、Mn、Ti等の金属不純物を分離して精
製したNb2O5を一旦造り、これを炭素あるいは金属
A1を使用して金属ニオブを造る工程からなるように工
程が長く、収率が低下するという欠点を克服するもので
ある。
従って、本発明は主としてニオブを含有し且つタンタル
を含む1種または2種以上の金属不純物イオンが共存す
るフッ酸及び硫酸の混合液からの金属ニオブの製造方法
において、 (a)前記混合液にケトンの群、中性りん酸エステルの
群、アルキルアミンの群及びアミドの群より選択された
1種または2ffi以上の有機溶媒であって、石油系炭
化水素で希釈された有機溶媒(A)を接触させて前記混
合液中からニオブとタンタルを優先的に抽出し、前記有
機溶媒(A>を水またはN H3とHFまたはに+とH
Fを含有する水溶液と接触させて有機溶媒(A)に抽出
・含有しているニオブとタンタルを水溶液側に逆抽出す
ると共に有機溶媒(A)を再生する第1工程; (b)逆抽出された主としてニオブを含有し且つタンタ
ルが共存する水溶液にケトンの群、中性りん酸エステル
の群、アルキルアミンの群及びアミドの群から選択され
た1種または2種以上の有機溶媒であって、石油系炭化
水素で希釈された有機溶媒(B)または吸着剤を接触さ
せて前記水溶液中のタンタルを優先的に吸着除去または
抽出除去する第2工程; (c)逆抽出されたタンタルイオンを除去したニオブを
含有する水溶液にNH,ガス及びNH4OHまたはKO
H及びKFを添加し、ニオブ、F′″及びNH4+また
はニオブ、F−及びに+を含有する沈澱物企造ることか
らなる第3工程;及び (d)第2工程で得られたニオブを含有する逆抽出液及
び/または第3工程で造られた沈澱物にH,SO4、H
Cl、HF、HI及びHBrの群より選択された1種ま
たは2種以上の酸を添加し、沈澱物を溶解し且つH+イ
オン濃度を調節した後、エステルの群、エーテルの群、
ケトンの群及びアルコールの群よりなる群より選択され
た1種または2種以上の含酸素有機溶媒(C)を接触さ
せることにより該水溶液中のニオブイオンをハロゲン化
金属錯体として含酸素有機溶媒(C)に抽出し、次に、
常圧状態または減圧状態で加熱・蒸発または加熱・蒸留
することにより含酸素有機溶媒(C)を再生すると共に
ニオブのハロゲン化物を製造する第4工程;及び (e)第4工程で得られたニオブのハロゲン化物に金属
Na、 Ca、 Pb及びZnの単体及び/またはこれ
らを主体とする合金と接触させることにより金属ニオブ
を造る第5工程よりなることを特徴とする金属ニオブの
製造方法を提供するにある。
を含む1種または2種以上の金属不純物イオンが共存す
るフッ酸及び硫酸の混合液からの金属ニオブの製造方法
において、 (a)前記混合液にケトンの群、中性りん酸エステルの
群、アルキルアミンの群及びアミドの群より選択された
1種または2ffi以上の有機溶媒であって、石油系炭
化水素で希釈された有機溶媒(A)を接触させて前記混
合液中からニオブとタンタルを優先的に抽出し、前記有
機溶媒(A>を水またはN H3とHFまたはに+とH
Fを含有する水溶液と接触させて有機溶媒(A)に抽出
・含有しているニオブとタンタルを水溶液側に逆抽出す
ると共に有機溶媒(A)を再生する第1工程; (b)逆抽出された主としてニオブを含有し且つタンタ
ルが共存する水溶液にケトンの群、中性りん酸エステル
の群、アルキルアミンの群及びアミドの群から選択され
た1種または2種以上の有機溶媒であって、石油系炭化
水素で希釈された有機溶媒(B)または吸着剤を接触さ
せて前記水溶液中のタンタルを優先的に吸着除去または
抽出除去する第2工程; (c)逆抽出されたタンタルイオンを除去したニオブを
含有する水溶液にNH,ガス及びNH4OHまたはKO
H及びKFを添加し、ニオブ、F′″及びNH4+また
はニオブ、F−及びに+を含有する沈澱物企造ることか
らなる第3工程;及び (d)第2工程で得られたニオブを含有する逆抽出液及
び/または第3工程で造られた沈澱物にH,SO4、H
Cl、HF、HI及びHBrの群より選択された1種ま
たは2種以上の酸を添加し、沈澱物を溶解し且つH+イ
オン濃度を調節した後、エステルの群、エーテルの群、
ケトンの群及びアルコールの群よりなる群より選択され
た1種または2種以上の含酸素有機溶媒(C)を接触さ
せることにより該水溶液中のニオブイオンをハロゲン化
金属錯体として含酸素有機溶媒(C)に抽出し、次に、
常圧状態または減圧状態で加熱・蒸発または加熱・蒸留
することにより含酸素有機溶媒(C)を再生すると共に
ニオブのハロゲン化物を製造する第4工程;及び (e)第4工程で得られたニオブのハロゲン化物に金属
Na、 Ca、 Pb及びZnの単体及び/またはこれ
らを主体とする合金と接触させることにより金属ニオブ
を造る第5工程よりなることを特徴とする金属ニオブの
製造方法を提供するにある。
[作 用]
タンクライト、コロンバイト、ストルベライト及びパイ
ロクロアと称される原料から、あるいは産業廃棄物例え
ば四塩化チタン製造残渣、錫スラグ、超電導ワイヤー加
工品スクラップ、あるいはニオブと鉄の合金等の固形物
をHF及びHF+H2S O<の混酸で溶解して得られ
た主としてニオブを含有し且つタンタル及び1種または
2種以上の金属不純物例えばFc、 Mn、Ti、 S
n、Sb、W、Ni、Co、Cu、に、Na、NH,、
Zn、Mo、Si、A1.Ca、V、Li、Th等のイ
オンが共存しているフッ酸と硫酸の混合液にケトンの群
、中性りん酸エステルの群、アルキルアミンの群及びア
ミドの群よりなる群から選択された1mまたは2種以上
の有機溶媒であって、石油系炭化水素で希釈された有機
溶媒(A)を接触させて該混合液中のニオブイオンとT
aイオンを優先的に抽出する。
ロクロアと称される原料から、あるいは産業廃棄物例え
ば四塩化チタン製造残渣、錫スラグ、超電導ワイヤー加
工品スクラップ、あるいはニオブと鉄の合金等の固形物
をHF及びHF+H2S O<の混酸で溶解して得られ
た主としてニオブを含有し且つタンタル及び1種または
2種以上の金属不純物例えばFc、 Mn、Ti、 S
n、Sb、W、Ni、Co、Cu、に、Na、NH,、
Zn、Mo、Si、A1.Ca、V、Li、Th等のイ
オンが共存しているフッ酸と硫酸の混合液にケトンの群
、中性りん酸エステルの群、アルキルアミンの群及びア
ミドの群よりなる群から選択された1mまたは2種以上
の有機溶媒であって、石油系炭化水素で希釈された有機
溶媒(A)を接触させて該混合液中のニオブイオンとT
aイオンを優先的に抽出する。
ここで、有機溶媒(A)に共抽出された1種または2種
以上の金篤不純物イオンの濃度が許容できない場合には
、該有機溶媒(A)を水またはNH,とHFを含有する
水溶液を接触させてニオブイオンやTaイオンより抽出
分配比の小さい金属イオンを選択的に有機相より水相に
移行させることができる0次に、有機溶媒(A>を水ま
たはN H’sとHFまたはに+とHFを含有する水溶
液と接触させて有機溶媒(A)に抽出・含有されている
ニオブ及びタンタルを水溶液側に逆抽出すると共に有機
溶媒(A)を再生する0以上の工程より、本発明の第1
工程はなる。
以上の金篤不純物イオンの濃度が許容できない場合には
、該有機溶媒(A)を水またはNH,とHFを含有する
水溶液を接触させてニオブイオンやTaイオンより抽出
分配比の小さい金属イオンを選択的に有機相より水相に
移行させることができる0次に、有機溶媒(A>を水ま
たはN H’sとHFまたはに+とHFを含有する水溶
液と接触させて有機溶媒(A)に抽出・含有されている
ニオブ及びタンタルを水溶液側に逆抽出すると共に有機
溶媒(A)を再生する0以上の工程より、本発明の第1
工程はなる。
本発明の第2工程は逆抽出された主としてニオブイオン
を含有し且つTaイオンが共存する水溶液にケトンの群
、中性りん酸エステルの群、アルキルアミンの群及びア
ミドの群よりなる群から選択された有機溶媒であって、
石油系炭化水素で希釈された有機溶媒(B)または吸着
剤を接触させて前記水溶液中のTaイオンを優先的に抽
出・除去または吸着・除去することよりなる。
を含有し且つTaイオンが共存する水溶液にケトンの群
、中性りん酸エステルの群、アルキルアミンの群及びア
ミドの群よりなる群から選択された有機溶媒であって、
石油系炭化水素で希釈された有機溶媒(B)または吸着
剤を接触させて前記水溶液中のTaイオンを優先的に抽
出・除去または吸着・除去することよりなる。
本発明の第3工程は逆抽出液よりTaイオンを除去した
水溶液に、N H3ガス及びNH4OHまたはKOH及
びKFを添加して次式に示すようにニオブ、F−及びN
H,!またはニオブ、F−及びに1を含有する沈澱物を
造ることよりなる。
水溶液に、N H3ガス及びNH4OHまたはKOH及
びKFを添加して次式に示すようにニオブ、F−及びN
H,!またはニオブ、F−及びに1を含有する沈澱物を
造ることよりなる。
pi(が低(、pFが小さい領域での沈ti物H2N
b OF s +2 N H)→(N H−)2 N
bo F s↓pHが高<、pFが大きい領域での沈澱
物H2N b OF s + N H2→(N H、)
N bo 2F 2↓第3工程で造られた上記にその1
例を示す沈澱物あるいは第2工程で得られたニオブイオ
ンを含有する逆抽出液にH,SO,、HCI、II、H
Br及びHFの群より選択された1種または2種以上の
酸を添加し、沈澱物を溶解し且つH+イオン濃度を調節
した後、エステルの群、エーテルの群、ケl−ンの群及
びアルコールの群よりなる群から選択された1種または
2種以上の含酸素有機溶媒(C)を接触させて前記溶液
中のニオブイオンをハロゲン化錯体として含酸素有機溶
媒(C)に抽出する。ここで、含酸素有機溶媒(C)に
共抽出された1種または2種以上の金應不純物イオンの
濃度が許容できない場合には、該含酸素有機溶iJX<
C>を水またはNH,とHFを含有する水溶液を接触さ
せてニオブイオンより抽出分配比の小さい金属イオンを
選択的に有機相より水相に移行させることができる。
b OF s +2 N H)→(N H−)2 N
bo F s↓pHが高<、pFが大きい領域での沈澱
物H2N b OF s + N H2→(N H、)
N bo 2F 2↓第3工程で造られた上記にその1
例を示す沈澱物あるいは第2工程で得られたニオブイオ
ンを含有する逆抽出液にH,SO,、HCI、II、H
Br及びHFの群より選択された1種または2種以上の
酸を添加し、沈澱物を溶解し且つH+イオン濃度を調節
した後、エステルの群、エーテルの群、ケl−ンの群及
びアルコールの群よりなる群から選択された1種または
2種以上の含酸素有機溶媒(C)を接触させて前記溶液
中のニオブイオンをハロゲン化錯体として含酸素有機溶
媒(C)に抽出する。ここで、含酸素有機溶媒(C)に
共抽出された1種または2種以上の金應不純物イオンの
濃度が許容できない場合には、該含酸素有機溶iJX<
C>を水またはNH,とHFを含有する水溶液を接触さ
せてニオブイオンより抽出分配比の小さい金属イオンを
選択的に有機相より水相に移行させることができる。
次に、含酸素有機溶媒(C)を常圧状態または減圧状君
で加熱・蒸発または加熱・蒸留して含酸素有機溶媒(C
)を再生すると共にニオブのハロゲン化物を造る0以上
の工程より、本発明の第4工程はなる。
で加熱・蒸発または加熱・蒸留して含酸素有機溶媒(C
)を再生すると共にニオブのハロゲン化物を造る0以上
の工程より、本発明の第4工程はなる。
また、ニオブのハロゲン化錯体を抽出・含有する有機溶
媒(C)には物理的に混入している水及び/または抽出
・含有しているH2Oが存在するために、第4工程にお
いて、含酸素有機溶媒(C)を乾燥剤と接触させて含酸
素有機溶媒(C)を屹燥し、次に、常圧状態または減圧
状態で加熱・蒸発または加熱・蒸留することにより酸素
含有量の極めて少ないニオブのハロゲン化物を造ると共
に含酸素有機溶媒(C)を再生することもできる。
媒(C)には物理的に混入している水及び/または抽出
・含有しているH2Oが存在するために、第4工程にお
いて、含酸素有機溶媒(C)を乾燥剤と接触させて含酸
素有機溶媒(C)を屹燥し、次に、常圧状態または減圧
状態で加熱・蒸発または加熱・蒸留することにより酸素
含有量の極めて少ないニオブのハロゲン化物を造ると共
に含酸素有機溶媒(C)を再生することもできる。
第5工程においては、第4工程で得られたニオブのハロ
ゲン化物に金、[Na、Mg、Ca、Zn及び/または
pbまたはこれらを主体とする合金を接触させることに
よりニオブのハロゲン化物を還元すれば、金属ニオブが
得られる。
ゲン化物に金、[Na、Mg、Ca、Zn及び/または
pbまたはこれらを主体とする合金を接触させることに
よりニオブのハロゲン化物を還元すれば、金属ニオブが
得られる。
本発明の要旨とするところは、主としてニオブを含有し
且つTa及び他の金属不純物例えばFe、M n、Ti
、Sn、Sb、W、Ni、Co、Cu、K、Na、NH
=、Zn、 Mo、Si、 AI、 Ca、■、Li、
Th等のイオンが共存するH FとI−12S O、の
混合液に、クトンの群、中性りん酸エステルの群、アル
キルアミンの群及びアミドの群よりなる群から選択され
た1種または2種以上の有機溶媒であって、石油系炭化
水素で希釈された有機溶媒(A)を接触させ、混合液中
のニオブイオンとタンタルイオンを優先的に抽出する。
且つTa及び他の金属不純物例えばFe、M n、Ti
、Sn、Sb、W、Ni、Co、Cu、K、Na、NH
=、Zn、 Mo、Si、 AI、 Ca、■、Li、
Th等のイオンが共存するH FとI−12S O、の
混合液に、クトンの群、中性りん酸エステルの群、アル
キルアミンの群及びアミドの群よりなる群から選択され
た1種または2種以上の有機溶媒であって、石油系炭化
水素で希釈された有機溶媒(A)を接触させ、混合液中
のニオブイオンとタンタルイオンを優先的に抽出する。
TaF5−+H”+nOrg−HTaFs・norgN
bOF s2−+ 2 H”+nOrg−+H2NbO
F s ・norg抽出分配比はTa>Nbであるが、
上述のような他の金属不純物イオンの抽出分配比はNb
の抽出分配比に比較して10−3と、更に小さいために
、タンタルとニオブが優先的に抽出される。
bOF s2−+ 2 H”+nOrg−+H2NbO
F s ・norg抽出分配比はTa>Nbであるが、
上述のような他の金属不純物イオンの抽出分配比はNb
の抽出分配比に比較して10−3と、更に小さいために
、タンタルとニオブが優先的に抽出される。
共抽出される金属不純物イオンの濃度が許容できない場
合には、タンタルとニオブを抽出・含有している有機溶
媒(A)を水またはNHlとHFを含有している水溶液
と接触させて共抽出金属不純物イオンを選択的に有機相
から水相に移行させることができる。
合には、タンタルとニオブを抽出・含有している有機溶
媒(A)を水またはNHlとHFを含有している水溶液
と接触させて共抽出金属不純物イオンを選択的に有機相
から水相に移行させることができる。
ニオブより抽出分配比の小さい金属不純物イオンを除去
した後、有機溶媒(A)を再度水またはNH3とHFを
含有する水溶液と接触させて有機相のニオブとタンタル
の錯体を水相に逆抽出する。
した後、有機溶媒(A)を再度水またはNH3とHFを
含有する水溶液と接触させて有機相のニオブとタンタル
の錯体を水相に逆抽出する。
共抽出物の洗浄操作とニオブの逆抽出操作は、用いる水
溶液が同一であっても、両液の接触時の流量比率が異な
るために、水側の全HFfi度及びニオブ濃度が変化し
てニオブの逆抽出割合が変化することを利用したり、水
溶液のNH,濃度を変化させることにより両液接触後の
水側の遊離HF濃度が変化することを利用して行なうこ
とができる。
溶液が同一であっても、両液の接触時の流量比率が異な
るために、水側の全HFfi度及びニオブ濃度が変化し
てニオブの逆抽出割合が変化することを利用したり、水
溶液のNH,濃度を変化させることにより両液接触後の
水側の遊離HF濃度が変化することを利用して行なうこ
とができる。
H2NbOF5・nOrg”NHz”NH4F”HzO
→Nb0(OH)F<2−+2Nll<IIFz+nO
rg 本発明の第2工程においては、水相に逆抽出されなニオ
ブイオン含有液にはタンタルイオンも共存しているので
、この逆抽出液にケトンの群、中性りん酸エステルの群
、アルキルアミンの群及びアミドの群よりなる群より選
択された1種または2種以上の有機溶媒であって、石油
系炭化水素で希釈された有機溶媒(B)または吸着剤と
接触させることにより抽出分配比の大きいタンタルイオ
ンを除去する。この工程に使用することができる吸着剤
はケトンの群、中性りん酸エステルの群、アルキルアミ
ンの群及びアミドの群より選択された1種または2種以
上の抽出剤を多孔質固体に吸着または架橋させることに
より得られるものである。
→Nb0(OH)F<2−+2Nll<IIFz+nO
rg 本発明の第2工程においては、水相に逆抽出されなニオ
ブイオン含有液にはタンタルイオンも共存しているので
、この逆抽出液にケトンの群、中性りん酸エステルの群
、アルキルアミンの群及びアミドの群よりなる群より選
択された1種または2種以上の有機溶媒であって、石油
系炭化水素で希釈された有機溶媒(B)または吸着剤と
接触させることにより抽出分配比の大きいタンタルイオ
ンを除去する。この工程に使用することができる吸着剤
はケトンの群、中性りん酸エステルの群、アルキルアミ
ンの群及びアミドの群より選択された1種または2種以
上の抽出剤を多孔質固体に吸着または架橋させることに
より得られるものである。
このような吸着剤は例えば特公昭61−67000号公
報に記載されており、該吸着剤は水溶液中の微量の金属
イオンを吸着・除去する目的においては、溶媒抽出技法
のように水相側に抽出剤が微量溶解する方法とは異なり
、極めて効率的な方法を提供する。
報に記載されており、該吸着剤は水溶液中の微量の金属
イオンを吸着・除去する目的においては、溶媒抽出技法
のように水相側に抽出剤が微量溶解する方法とは異なり
、極めて効率的な方法を提供する。
吸着剤に一旦N bo F 、2−イオンが吸着されて
も、抽出分配比の大きいTaF、−イオンと会合すると
、Nb0F、”−イオンが押し出され、TaF、−イオ
ンと1換される。
も、抽出分配比の大きいTaF、−イオンと会合すると
、Nb0F、”−イオンが押し出され、TaF、−イオ
ンと1換される。
使用済吸着剤の再生方法は有機溶媒の逆抽出法と同一で
あって、NH,と)IFを含有する水溶液を該吸着剤に
通すことにより容易に行なうことができる。
あって、NH,と)IFを含有する水溶液を該吸着剤に
通すことにより容易に行なうことができる。
次に、水相側に逆抽出され、Taを除去されたNb含有
水溶液にN H3ガスまたはN H、OHまたはKOH
及びKFを添加することにより、次式に示すように水酸
化物に近いNH,+とF−またはに+とF−を含有する
沈澱が生ずる。
水溶液にN H3ガスまたはN H、OHまたはKOH
及びKFを添加することにより、次式に示すように水酸
化物に近いNH,+とF−またはに+とF−を含有する
沈澱が生ずる。
Nb0(011)F、”′÷4N+13+1(20+3
11+→Mho(Oll)、F↓+38I1.FNH,
ガスを添加する前に、大量の水を加え、水溶液中のHF
濃度を希薄にすれば、ニオブイオンを水酸化物に近い形
態で沈澱させることができる。
11+→Mho(Oll)、F↓+38I1.FNH,
ガスを添加する前に、大量の水を加え、水溶液中のHF
濃度を希薄にすれば、ニオブイオンを水酸化物に近い形
態で沈澱させることができる。
Nb0(011)2F−+N11.+H20→Nb0(
011)、↓+NI1.F以上の工程より、本発明の第
3工程はなる。
011)、↓+NI1.F以上の工程より、本発明の第
3工程はなる。
更に高純度のニオブのハロゲン化物を製造するためには
、第1工程〜第3工程の操作を1回以上反復することに
より不純物を更に除去することができる。
、第1工程〜第3工程の操作を1回以上反復することに
より不純物を更に除去することができる。
次に、第2工程で得られたニオブ含有逆抽出液及びニオ
ブ含有沈澱物をH2SO4、HCl、Hl、HBr及び
HFの中から選択された1種または2種以上の酸を加え
て沈澱物を溶解し且つH+イオン濃度を調節する。
ブ含有沈澱物をH2SO4、HCl、Hl、HBr及び
HFの中から選択された1種または2種以上の酸を加え
て沈澱物を溶解し且つH+イオン濃度を調節する。
(NI+、)、Nb0(OH)F、÷2HF+H2SO
,→NbF−÷21120+(8114)2SO,+H
“ N11.Nb0(011) 2F+511F+1/21
12SO,→NbF、−+31120+t/z(No、
)zso<÷211+ NbO(011) 2 +611C1→N b C1−
+ 411.0 + I+ ”本発明の第4工程におい
ては、ニオブのハロゲン化錯イオンを含有する水溶液に
、エステルの群、エーテルの群、ケトンの群及びアルコ
ールの群よりなる群から選択された1種または2種以上
の含酸素有機溶媒(C)を接触させることにより、次式
に示すようにニオブをハロゲン化錯体として抽出する。
,→NbF−÷21120+(8114)2SO,+H
“ N11.Nb0(011) 2F+511F+1/21
12SO,→NbF、−+31120+t/z(No、
)zso<÷211+ NbO(011) 2 +611C1→N b C1−
+ 411.0 + I+ ”本発明の第4工程におい
ては、ニオブのハロゲン化錯イオンを含有する水溶液に
、エステルの群、エーテルの群、ケトンの群及びアルコ
ールの群よりなる群から選択された1種または2種以上
の含酸素有機溶媒(C)を接触させることにより、次式
に示すようにニオブをハロゲン化錯体として抽出する。
NbFs−+H”+nOrg−+HNbF6・norg
NbC4’s−+H”+nOrg→HNbC1s ・n
org式中、orgは上述の含酸素有機溶媒(C)を示
す。
NbC4’s−+H”+nOrg→HNbC1s ・n
org式中、orgは上述の含酸素有機溶媒(C)を示
す。
二こで、共抽出される金属不純物イオンの濃度が許容で
きない場合には、ニオブのハロゲン化錯体を抽出・含有
している含酸素有機溶媒(C)を水またはNH,とHF
を含有している水溶液と接触させて共抽出金属不純物イ
オンを選択的に有機相から水相に移行させることができ
る。
きない場合には、ニオブのハロゲン化錯体を抽出・含有
している含酸素有機溶媒(C)を水またはNH,とHF
を含有している水溶液と接触させて共抽出金属不純物イ
オンを選択的に有機相から水相に移行させることができ
る。
次に、ニオブのハロゲン化錯体を抽出・含有する含酸素
有機溶媒(C)を常圧状態あるいは減圧状態で、加熱・
蒸発または加熱・蒸留することにより、ニオブのハロゲ
ン化物を製造することができる。
有機溶媒(C)を常圧状態あるいは減圧状態で、加熱・
蒸発または加熱・蒸留することにより、ニオブのハロゲ
ン化物を製造することができる。
コンデンサーに凝縮される、再生された含酸素有機溶媒
(C)は再度ニオブ抽出用に循環使用することができる
。
(C)は再度ニオブ抽出用に循環使用することができる
。
第4工程において、ニオブを抽出・含有する含酸素有機
溶媒(C)を加熱・蒸発または加熱・蒸留する前に、必
要によっては含酸素有機溶媒(C)中に物理的に混入し
ている水及び/または抽出されなR20を乾燥剤と接触
させて乾燥・除去し、NbF s、NbCl5等のニオ
ブのハロゲン化物に含まれる酸素を極めて微量に低下す
ることができる。
溶媒(C)を加熱・蒸発または加熱・蒸留する前に、必
要によっては含酸素有機溶媒(C)中に物理的に混入し
ている水及び/または抽出されなR20を乾燥剤と接触
させて乾燥・除去し、NbF s、NbCl5等のニオ
ブのハロゲン化物に含まれる酸素を極めて微量に低下す
ることができる。
加熱・蒸発または加熱・蒸留に使用する温度によっては
、含酸素有機溶媒(C)の酸化を防止するため、あるい
は生成するニオブのハロゲン化物の酸化を防止するため
に適宜不活性ガスを導入することができる。
、含酸素有機溶媒(C)の酸化を防止するため、あるい
は生成するニオブのハロゲン化物の酸化を防止するため
に適宜不活性ガスを導入することができる。
第4工程で製造されたニオブのハロゲン化物を金5Na
、Mg、Ca、Zn及びpbの群より3択された金属の
単体及び/まなはこれらを主体とする合金と接触させる
ことにより次式に示すように金属ニオブを造ることがで
きる。
、Mg、Ca、Zn及びpbの群より3択された金属の
単体及び/まなはこれらを主体とする合金と接触させる
ことにより次式に示すように金属ニオブを造ることがで
きる。
NbFs+5Na−Nb+5NaF
NbC1,+ 2.5 M’;t→Nb+ 2.5 M
9CINbF s+ 2.5 Ca−+Nb+ 2.5
CaF 2NbC1s+2.5Zn−Nb+2.5Z
nC1゜NbFe合金、5Pb→Nb+2.5PbF2
還元剤としての各金属(Na、Mg、Ca、Zn及びp
b)の単体及びこれらを主体とする合金は赤熱状態のも
の、ガス状のもの及び液体状のものを使用することがで
きる。
9CINbF s+ 2.5 Ca−+Nb+ 2.5
CaF 2NbC1s+2.5Zn−Nb+2.5Z
nC1゜NbFe合金、5Pb→Nb+2.5PbF2
還元剤としての各金属(Na、Mg、Ca、Zn及びp
b)の単体及びこれらを主体とする合金は赤熱状態のも
の、ガス状のもの及び液体状のものを使用することがで
きる。
また、ニオブのハロゲン化物も気体状のもの、液体状の
もの及び固体状のもので反応工程に供給することができ
る。
もの及び固体状のもので反応工程に供給することができ
る。
反応は250℃以上で行なわれ、酸化物の生成を抑制す
るためにArガス等の不活性ガス雰囲気で行なうことが
でき、適宜少量のH2ガスを混合することができる。
るためにArガス等の不活性ガス雰囲気で行なうことが
でき、適宜少量のH2ガスを混合することができる。
本発明で出発原料となる主としてニオブを含有し且つT
a及びIF!または2種以上の金属不純物イオンが共存
する水溶液は次のようにして造ることができる。
a及びIF!または2種以上の金属不純物イオンが共存
する水溶液は次のようにして造ることができる。
−mに、タンクライト、コロンバイト、ストルベライト
、錫スラグ、NbTaFe合金及びNbFe合金の如き
資源あるいは超電導ワイヤー加工不良品等の電子材料廃
棄物をフッ酸単独またはフッ酸と硫酸の如き混酸によっ
て溶解し、得られた溶液中のTaイオンを抽出・分離す
ることにより造ることができる。
、錫スラグ、NbTaFe合金及びNbFe合金の如き
資源あるいは超電導ワイヤー加工不良品等の電子材料廃
棄物をフッ酸単独またはフッ酸と硫酸の如き混酸によっ
て溶解し、得られた溶液中のTaイオンを抽出・分離す
ることにより造ることができる。
本発明で使用することができる有機溶媒(A)及び(B
)は次の群より選択される。
)は次の群より選択される。
■ケトンの群:
□・〉0=0
(式中、R及びR′はアルキル基、アリール基を示し、
炭素原子数が3〜18個のものが使用される)で表され
るケトン類、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、メチルプロピルケトン及びその類似ケトン。
炭素原子数が3〜18個のものが使用される)で表され
るケトン類、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、メチルプロピルケトン及びその類似ケトン。
■中性りん酸エステルの群:
(式中、Rはアルキル基を示し、炭素原子数4〜18個
のものを使用する)。
のものを使用する)。
■アルキルアミンの群:
RNH−5R2N H−及びR3NH(式中、Rはアル
キル基を示し、炭素原子数が4〜24個のものを使用す
る)で示される第1級〜第3級アミン。
キル基を示し、炭素原子数が4〜24個のものを使用す
る)で示される第1級〜第3級アミン。
■アミドの群:
(式中、Rはアルキル基を示し、炭素原子数が4〜25
個のものが使用される)。
個のものが使用される)。
本発明で使用される有機溶媒の希釈剤は石油系炭化水素
で、芳香族のもの、脂肪族のものを使用することができ
る。勿論、これらの混合物を使用することもできる。
で、芳香族のもの、脂肪族のものを使用することができ
る。勿論、これらの混合物を使用することもできる。
抽出剤すなわち有8!溶!(A)は上述の各群がら選択
され、1種の場合も、2種以上の場合もあるが、2種以
上の場合には対象とする水溶液の性状や不純物の種類と
その共存割合によって混合比を決定することができる。
され、1種の場合も、2種以上の場合もあるが、2種以
上の場合には対象とする水溶液の性状や不純物の種類と
その共存割合によって混合比を決定することができる。
抽出剤の濃度も同様であり、一般に2〜100%(容積
比)に調節して使用される。
比)に調節して使用される。
本発明で使用される含酸素有機溶媒(C)は次の群より
選択される。
選択される。
■ケトンの群:
R
8・〉0=0
(式中、R及びR′はアルキル基、アリール基を示し、
炭素原子数が3〜18個のものが使用される)で表され
るケトン類、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、メチルプロピルケトン及びその類似ケトン。
炭素原子数が3〜18個のものが使用される)で表され
るケトン類、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、メチルプロピルケトン及びその類似ケトン。
■エステルの群:
りん酸エステル及び酢酸エステルから選択される。
■エーテルの群:
脂肪族単一エーテル、脂肪族混成エーテル、脂肪族不飽
和エーテル及び芳香族エーテルの中より選択することが
できる。
和エーテル及び芳香族エーテルの中より選択することが
できる。
■アルコールの群:
炭素原子数4〜22個の各種(ノルマル、第2、第3)
アルコール。
アルコール。
本発明で使用される副生ハロゲン化アンモニウムの固形
物を洗浄するための溶剤は次の群より選択される。
物を洗浄するための溶剤は次の群より選択される。
■石油系炭化水素系では、石油エーテル、石油ベンゼン
、ヘキソン等の沸点が100℃以下で、表面張力が20
℃で30ダイン/cva以下のものが含まれる。
、ヘキソン等の沸点が100℃以下で、表面張力が20
℃で30ダイン/cva以下のものが含まれる。
■芳香族炭化水素系では、ベンゼン等が使用される。
本発明で使用される乾燥剤とは含酸素有機溶媒(C)に
物理的に混入した水及びニオブのハロゲン化錯体と共に
抽出されたH2Oを除き、乾燥するために使用するもの
で、無水芒硝、無水塩化カルシウム、無水硫酸マグネシ
ウム、無水塩化マグネシウム、無水塩化カリウム、付活
アルミナ、過塩素酸マグネシウム、五酸化リン、無水炭
酸カリウム、酸化バリウム及び合成ゼオライト等のモレ
キュラーシープを使用することができる。
物理的に混入した水及びニオブのハロゲン化錯体と共に
抽出されたH2Oを除き、乾燥するために使用するもの
で、無水芒硝、無水塩化カルシウム、無水硫酸マグネシ
ウム、無水塩化マグネシウム、無水塩化カリウム、付活
アルミナ、過塩素酸マグネシウム、五酸化リン、無水炭
酸カリウム、酸化バリウム及び合成ゼオライト等のモレ
キュラーシープを使用することができる。
本発明の任意工程である乾燥工程は含酸素有機溶媒(C
)中に物理的に混入している水及びニオブのハロゲン化
錯体と共に抽出されたH z Oを除去して最終生成物
であるニオブのハロゲン化物中の酸素含有量を最低量ま
で減少させるための工程である。しかし、ある程度の含
酸素有機溶媒(C)中に存在する水は次工程の常圧状態
または減圧状態での加熱・蒸発または加熱・蒸留工程で
除去することもできる。なお、この乾燥工程は含酸素有
機溶媒(C)を上述のような物質と接触させるものであ
るために、水を除去する代わりに若干の不純物が含酸素
有機溶媒(C)中に混入する場合もあり、最終生成物で
あるニオブのハロゲン化物において、所望とされる酸素
含有量並びに不純物含有量等を考慮して乾燥工程を行な
うことが望ましい。
)中に物理的に混入している水及びニオブのハロゲン化
錯体と共に抽出されたH z Oを除去して最終生成物
であるニオブのハロゲン化物中の酸素含有量を最低量ま
で減少させるための工程である。しかし、ある程度の含
酸素有機溶媒(C)中に存在する水は次工程の常圧状態
または減圧状態での加熱・蒸発または加熱・蒸留工程で
除去することもできる。なお、この乾燥工程は含酸素有
機溶媒(C)を上述のような物質と接触させるものであ
るために、水を除去する代わりに若干の不純物が含酸素
有機溶媒(C)中に混入する場合もあり、最終生成物で
あるニオブのハロゲン化物において、所望とされる酸素
含有量並びに不純物含有量等を考慮して乾燥工程を行な
うことが望ましい。
本発明で使用する不活性ガスとはN2ガスまたはArガ
スであり、含酸素有機溶媒(C)を加熱・蒸発または加
熱・蒸留する際に含酸素有機溶媒(C)の酸化を防止し
たり、生成したタンタルのハロゲン化物が変質しないよ
うに用いることができる。
スであり、含酸素有機溶媒(C)を加熱・蒸発または加
熱・蒸留する際に含酸素有機溶媒(C)の酸化を防止し
たり、生成したタンタルのハロゲン化物が変質しないよ
うに用いることができる。
更に、ニオブのハロゲン化物を250’C以上の温度で
金属Na、MI?、Ca、Zn及びpbと接触させ、金
属ニオブを造る工程に適宜゛使用することができる不活
性ガスはArガスである。気体状の還元用金属、気体状
のニオブのハロゲン化物は通常A「ガスを伴って装置に
導入される。
金属Na、MI?、Ca、Zn及びpbと接触させ、金
属ニオブを造る工程に適宜゛使用することができる不活
性ガスはArガスである。気体状の還元用金属、気体状
のニオブのハロゲン化物は通常A「ガスを伴って装置に
導入される。
本発明で還元剤として使用する金属はNa、My、Ca
、Pb及びZnの単−金属及び/またはこれらを主体と
する合金で、気体状、液体状及び赤熱した固体状の形態
で使用することができる。
、Pb及びZnの単−金属及び/またはこれらを主体と
する合金で、気体状、液体状及び赤熱した固体状の形態
で使用することができる。
また、還元工程で使用されるニオブのハロゲン化物は気
体状、液体状及び固体状のいずれの形態でも使用するこ
とができる。
体状、液体状及び固体状のいずれの形態でも使用するこ
とができる。
以下、本発明を図面に基づき説明するが、本発明はこれ
に限定されるものではないことを理解されたい。
に限定されるものではないことを理解されたい。
第1図は本発明操作の基本型を示すフローシートであり
、主としてニオブを含み且つTa及び1種または2種以
上の金属不純物例えばFe、Mn、Ti、Sn、Sb、
W、Ni、Co、Cu、に、Na、N H4、Zn、
Mo、 Si、 AI、Ca、V、Li、Th等のイオ
ンが共存しているフッ酸と硫酸の混合液をニオブ抽出工
程(A)に導き、有llI!溶媒(A)と接触させるこ
とにより、該混合液中のニオブとタンタルをフッ化物錯
体として優先的に抽出する。
、主としてニオブを含み且つTa及び1種または2種以
上の金属不純物例えばFe、Mn、Ti、Sn、Sb、
W、Ni、Co、Cu、に、Na、N H4、Zn、
Mo、 Si、 AI、Ca、V、Li、Th等のイオ
ンが共存しているフッ酸と硫酸の混合液をニオブ抽出工
程(A)に導き、有llI!溶媒(A)と接触させるこ
とにより、該混合液中のニオブとタンタルをフッ化物錯
体として優先的に抽出する。
次に、ニオブを抽出・含有する有機溶媒(A)に微量共
抽出される金属不純物イオンの濃度が許容できない場合
には、これらの不純物を選択的に除去する洗浄工程(B
)に該有機溶媒(A)を導き、水またはN H3とHF
を含有する水溶液(イ)と接触させて有機相から水相に
金属不純物イオンを移行させる0次に、有機溶媒(A)
をニオブの逆抽出工程(C)に導き、水またはN H3
とHFあるいはに+とHFを含有する溶液(ロ)と接触
させることによりニオブのフッ化物錯体を有機相から水
相に移行せしめると共に有機溶媒(A)を再生する。再
生された有機溶媒(A)はニオブの抽出工程(A)ヘリ
サイクルされる。
抽出される金属不純物イオンの濃度が許容できない場合
には、これらの不純物を選択的に除去する洗浄工程(B
)に該有機溶媒(A)を導き、水またはN H3とHF
を含有する水溶液(イ)と接触させて有機相から水相に
金属不純物イオンを移行させる0次に、有機溶媒(A)
をニオブの逆抽出工程(C)に導き、水またはN H3
とHFあるいはに+とHFを含有する溶液(ロ)と接触
させることによりニオブのフッ化物錯体を有機相から水
相に移行せしめると共に有機溶媒(A)を再生する。再
生された有機溶媒(A)はニオブの抽出工程(A)ヘリ
サイクルされる。
水相側に移行したニオブはタンダルを含有しているので
、タンタルを優先的に抽出させるタンタル抽出工程(D
)において、ケトンの群、中性りん酸エステルの群、ア
ミンの群及びアミドの群からなる群から選択された1種
または2種以上の有機溶媒であって、石油系炭化水素で
希釈された有機溶媒(B)または上述の吸着剤と接触さ
せることにより逆抽出液より優先的にTaを抽出・除去
または吸着・除去する。
、タンタルを優先的に抽出させるタンタル抽出工程(D
)において、ケトンの群、中性りん酸エステルの群、ア
ミンの群及びアミドの群からなる群から選択された1種
または2種以上の有機溶媒であって、石油系炭化水素で
希釈された有機溶媒(B)または上述の吸着剤と接触さ
せることにより逆抽出液より優先的にTaを抽出・除去
または吸着・除去する。
次に、タンタルを除去したニオブ逆抽出液を中和−濾過
工程(E)4.:導き、N H3及びNH4OHまたは
KOH及びKF(ハ)を添加することによりニオブ、N
H4”及びF−またはニオブ、K1及びF−を含有す
る沈澱物を造る。
工程(E)4.:導き、N H3及びNH4OHまたは
KOH及びKF(ハ)を添加することによりニオブ、N
H4”及びF−またはニオブ、K1及びF−を含有す
る沈澱物を造る。
次に、タンタル抽出工程(D)で得られたニオブのフッ
化物錯体を含有する逆抽出液あるいは中和・濾過工程(
E)で得られたニオブ含有沈澱物を溶解・H+イオン濃
度調節工程(F)において、H2SO,、HCl、HF
、HI及び/またはHB r(ニ)を添加して溶解し且
つH+イオン濃度を調節し、N[lOF、’−イオンを
NbF、−イオンに変換し、次に、抽出工程(G)にお
いて、含酸素有機溶媒(C)と接触さぜることによりN
bF6−イオン含有溶液中のニオブのハロゲン化錯体は
含酸素有機溶媒(C)に抽出される。
化物錯体を含有する逆抽出液あるいは中和・濾過工程(
E)で得られたニオブ含有沈澱物を溶解・H+イオン濃
度調節工程(F)において、H2SO,、HCl、HF
、HI及び/またはHB r(ニ)を添加して溶解し且
つH+イオン濃度を調節し、N[lOF、’−イオンを
NbF、−イオンに変換し、次に、抽出工程(G)にお
いて、含酸素有機溶媒(C)と接触さぜることによりN
bF6−イオン含有溶液中のニオブのハロゲン化錯体は
含酸素有機溶媒(C)に抽出される。
次に、含酸素有機溶媒(C)を加熱・蒸発または加熱・
蒸留工程(H)へ導入し、常圧状態または減圧状態で適
宜不活性ガスを導入しながら加熱・蒸発または加熱・蒸
留することにより含酸素有機溶媒(C)が再生されると
共にニオブのハロゲン化物(J)が製造される。
蒸留工程(H)へ導入し、常圧状態または減圧状態で適
宜不活性ガスを導入しながら加熱・蒸発または加熱・蒸
留することにより含酸素有機溶媒(C)が再生されると
共にニオブのハロゲン化物(J)が製造される。
ニオブのハロゲン化物(J)を還元工程(L)に導入し
、還元M(ト)と接触させることにより金属ニオブ(M
>と還元剤及びハロゲンの結合品(N)が製造される。
、還元M(ト)と接触させることにより金属ニオブ(M
>と還元剤及びハロゲンの結合品(N)が製造される。
第2図は金属ニオブを造る方法としては第1図のフロー
シートと同一であるが、抽出工程(G)を出たニオブを
抽出 含有している含酸素有機溶媒(C)を乾燥剤くべ
)と接触させることよりなる乾燥工程(K)が組み込ま
れたものである。
シートと同一であるが、抽出工程(G)を出たニオブを
抽出 含有している含酸素有機溶媒(C)を乾燥剤くべ
)と接触させることよりなる乾燥工程(K)が組み込ま
れたものである。
[実 施 例コ
以下に実施例を挙げ、本発明を更に説明する。
及11
以下の試験に使用するニオブ含有液はタンタライトとコ
ロンバイトを混合してHFとH2SO,の混酸で溶解し
た後、該溶液よりタンタルイオンを選択的に抽出し、次
に、H,S○、を添加することにより調製した。得られ
たニオブ含有液の組成を以下の第1表に記載する。
ロンバイトを混合してHFとH2SO,の混酸で溶解し
た後、該溶液よりタンタルイオンを選択的に抽出し、次
に、H,S○、を添加することにより調製した。得られ
たニオブ含有液の組成を以下の第1表に記載する。
第ニー 1−−一六一 (単位:g/l>Nb2O56
2,7 Ta20. 0.06 Fe 8 、I Mn 5.9 Ti 1.6 Sn 0.4 Sb O,07 W 0.03 Si 3.7 An Q、9 H2S0. 380.4 HP 91.3 上述のニオブ含有液を使用し、抽出条件○/A= 1/
1 、振どう時間5分間の同一条件を使用して第2表に
示す4種頚の抽出剤を用いた場合の抽出分配比を求めた
。得られた結果を以下の第2表に記載する。
2,7 Ta20. 0.06 Fe 8 、I Mn 5.9 Ti 1.6 Sn 0.4 Sb O,07 W 0.03 Si 3.7 An Q、9 H2S0. 380.4 HP 91.3 上述のニオブ含有液を使用し、抽出条件○/A= 1/
1 、振どう時間5分間の同一条件を使用して第2表に
示す4種頚の抽出剤を用いた場合の抽出分配比を求めた
。得られた結果を以下の第2表に記載する。
抽出分配比(DIE)は次式によって算出される。
+r2so、x度が上昇するに従い、金属不純物イオン
の抽出分配比が上昇し、Nbz○、との分離が困雅にな
るために、H2S O423度が重要となる。
の抽出分配比が上昇し、Nbz○、との分離が困雅にな
るために、H2S O423度が重要となる。
金・・4.の、−ラ
第2表に記載するように、ニオブとタンタルの他に金属
不純物イオンが微量抽出されている。有i溶媒にO/A
=10/1の割合で0.2モル/lのN H、Fを含有
する溶液を接触させて金属不純物を除去した。得られた
結果を以下の第3表に記載する。
不純物イオンが微量抽出されている。有i溶媒にO/A
=10/1の割合で0.2モル/lのN H、Fを含有
する溶液を接触させて金属不純物を除去した。得られた
結果を以下の第3表に記載する。
上述の第3表にはT 1120 sの洗浄結果を記載し
ていないが、洗浄前のタンタル含有Ji0.03y/l
が洗浄後には0.025g/lとなり、殆ど差がなかっ
た。
ていないが、洗浄前のタンタル含有Ji0.03y/l
が洗浄後には0.025g/lとなり、殆ど差がなかっ
た。
また、実装置では、洗浄操作を向流多段接触を行なうた
めに、NbzOsより抽出分配比の小さい金属不純物イ
オンは水相に移り、有機相にはNb2O,とT II
20 sのみが残留する。
めに、NbzOsより抽出分配比の小さい金属不純物イ
オンは水相に移り、有機相にはNb2O,とT II
20 sのみが残留する。
ニ プ ・
次に、2.0モル/1のNH,F水溶液をNb2O。
とTlI2O3を抽出・含有する有機溶媒と接触させて
有機相のNb2O,を逆抽出する試験を行なった。
有機相のNb2O,を逆抽出する試験を行なった。
得られた結果を第4表に記載する。
第4表の水相に示すように、逆抽出液中のNb、O,と
TlI2O3の含有率が1/1000程度となっている
ので、T a 20 sを選択的に除去する必要がある
。
TlI2O3の含有率が1/1000程度となっている
ので、T a 20 sを選択的に除去する必要がある
。
Nb O5からのTaOの ・微量含有する金
属イオンを除去するためには、溶解度の小さい抽出剤を
使用することが好ましい。
属イオンを除去するためには、溶解度の小さい抽出剤を
使用することが好ましい。
本試験では、以下の第5表に記載する溶媒または吸着剤
を使用してTa205の除去を行なった。有機溶媒によ
る抽出条件はO/A=1/10.振どう時間5分間であ
った。なお、吸着剤は多孔質粒子に重量比として10%
の有機溶媒を担持させ、予めNb0F、’−イオンを抽
出ぜさたものである。
を使用してTa205の除去を行なった。有機溶媒によ
る抽出条件はO/A=1/10.振どう時間5分間であ
った。なお、吸着剤は多孔質粒子に重量比として10%
の有機溶媒を担持させ、予めNb0F、’−イオンを抽
出ぜさたものである。
[−二組 (単位:ti/1>
lJI Nb2O5Ta205 IIFN
lls 112S04抽出前液 76.3 0.0
8 110.2 34.1 <0.00130STOP
O”り17シシ71.9 0.006 105.
7 34.1 <0.001101TOA十りa’
i> 72.1 0.002 101.2
34.0 <o、oot吸着剤 76.2 <
0.001 118.7 34.1 <0.001実装
置では、抽出操作が自流多段接触となるために、第5表
に記載するTa205濃度より更に低くすることができ
ることを理解されたい。
lls 112S04抽出前液 76.3 0.0
8 110.2 34.1 <0.00130STOP
O”り17シシ71.9 0.006 105.
7 34.1 <0.001101TOA十りa’
i> 72.1 0.002 101.2
34.0 <o、oot吸着剤 76.2 <
0.001 118.7 34.1 <0.001実装
置では、抽出操作が自流多段接触となるために、第5表
に記載するTa205濃度より更に低くすることができ
ることを理解されたい。
1の
Ta205除去後のNb2o5逆抽出液に10%N H
3含有液を添加して逆抽出液を中和し、得られた沈澱物
を乾燥し、分析した結果を第6表に記載する。
3含有液を添加して逆抽出液を中和し、得られた沈澱物
を乾燥し、分析した結果を第6表に記載する。
=6 (単位:重量%)
Nb20. 73.18
T ax Os < O、OOIFe
<0.001 Mn <0.001 Ti <0.001 Sn <0.001 W <0.001 NH,8,59 HF 3.28 第6表の分析結果が希望する製品純度を満足しない場合
には、再溶解するか、逆抽出液を中和せずに、H2SO
,を添加して!(ゝイオン濃度を高め、前記した操作を
1回以上反復することによりNb2O,純度を向上させ
ることができることを理解されたい。
<0.001 Mn <0.001 Ti <0.001 Sn <0.001 W <0.001 NH,8,59 HF 3.28 第6表の分析結果が希望する製品純度を満足しない場合
には、再溶解するか、逆抽出液を中和せずに、H2SO
,を添加して!(ゝイオン濃度を高め、前記した操作を
1回以上反復することによりNb2O,純度を向上させ
ることができることを理解されたい。
N亙己ムJILL成コー
第6表にその1例を示す沈澱物あるいは第5表に示すT
a2O,を除去した溶液に、H2S O4とHFあるい
は■]2S04とHClを添加して第7表に記載する組
成をもつ溶液を調製し、ニオブの塩化物及びフッ化物錯
体製造用の原料とした。
a2O,を除去した溶液に、H2S O4とHFあるい
は■]2S04とHClを添加して第7表に記載する組
成をもつ溶液を調製し、ニオブの塩化物及びフッ化物錯
体製造用の原料とした。
第二一−ニし一一一退、(単位g/1)7iiLjL(
仁I N b205 143.6 117.
3N H、17,38,4 HF 350.3 2.1HC
1264,8 H2S O+ 256.8 ’15
0゜0素 ′ CによるNb、O5の −抽出に
は、100%シクロヘキサノンと100%メチルイソブ
チルケトンを使用した。抽出条件はO/A=115、振
どう時間5分間とし、得られた結果を第8表に記載する
。
仁I N b205 143.6 117.
3N H、17,38,4 HF 350.3 2.1HC
1264,8 H2S O+ 256.8 ’15
0゜0素 ′ CによるNb、O5の −抽出に
は、100%シクロヘキサノンと100%メチルイソブ
チルケトンを使用した。抽出条件はO/A=115、振
どう時間5分間とし、得られた結果を第8表に記載する
。
第一 8−一一宍エ (単位g/l)使用した有機溶
媒ニジクロヘキサノン Nb2O5Ta2es IIF llCl N
Il* 112SO−有機相62.1 <0.001
53.3−− <0.1 0.2水相 131.I
N、D、 297.1−−17.3 254.1
使用した有機溶媒:メチルイソブチルケトンNbzOs
Ta205 IIFIIC1NII* lI
2SO4有橘相 54.4 <0.001 0.6 8
5.9 <0.1 <0.01水相 106.4 N
、D、 6.1 247.6 8.4150.4Fe
、Mn、Ti、Si、Sb、Co、Cu、Ca、W、K
、Na、Zn及びANの各金属の抽出量はいずれもO,
0O1f/1以下であった。
媒ニジクロヘキサノン Nb2O5Ta2es IIF llCl N
Il* 112SO−有機相62.1 <0.001
53.3−− <0.1 0.2水相 131.I
N、D、 297.1−−17.3 254.1
使用した有機溶媒:メチルイソブチルケトンNbzOs
Ta205 IIFIIC1NII* lI
2SO4有橘相 54.4 <0.001 0.6 8
5.9 <0.1 <0.01水相 106.4 N
、D、 6.1 247.6 8.4150.4Fe
、Mn、Ti、Si、Sb、Co、Cu、Ca、W、K
、Na、Zn及びANの各金属の抽出量はいずれもO,
0O1f/1以下であった。
しかし、実装置において不手際がら金属不純物イオンが
多く抽出された場合には、第1工程の洗浄工程(B)と
同様に水またはNH,とHPを含有する溶液を水相に移
行させて有機溶媒中にニオブイオンのみが残留するよう
に操作を行なうことが必要となる。
多く抽出された場合には、第1工程の洗浄工程(B)と
同様に水またはNH,とHPを含有する溶液を水相に移
行させて有機溶媒中にニオブイオンのみが残留するよう
に操作を行なうことが必要となる。
筑・ まt・は口熱・2 ・
実験容器内にArガスを導入して大気を追い出し、加熱
・蒸発または加熱・蒸留試験を行なった。
・蒸発または加熱・蒸留試験を行なった。
なお、含酸素有機溶媒は肉眼で水滴が見えないものを使
用した。得られた結果を以下の第9表に記載する。
用した。得られた結果を以下の第9表に記載する。
還部J督【
上述のようにして造られたニオブのハロゲン化物を使用
して還元試験を行なった。得られた結果を第10表に記
載する。
して還元試験を行なった。得られた結果を第10表に記
載する。
[発明の効果〕
本発明方法により金属ニオブを製造すれば、従来法に比
鮫して工程が簡素化され、原料の制限もなくなり、省エ
ネルギーな製造方法で良品質な金属ニオブを遣ることが
できる。
鮫して工程が簡素化され、原料の制限もなくなり、省エ
ネルギーな製造方法で良品質な金属ニオブを遣ることが
できる。
第1図は本発明操作の基本型を示すフローシートであり
、第2図は第1図に記載する基本型の操作に乾燥工程を
加えた操作を示すフローシートである。 図中: A・・・ニオブ抽出工程: B・・・洗浄工程; C・・・逆抽出工程; D・・・タンタル抽出工程; E・・・中和・濾過工程; F・・・溶解・トI+イオン濃度調節工程;G・・・抽
出工程; H・・・加熱・蒸発または加熱・蒸留工程;J・・・ニ
オブのハロゲン化物 K・・・乾燥工程; し・・・還元工程; M・・・金属ニオブ; N・・・還元剤とハロゲンの結合品; イ・・・水またはN H3とHFを含有する水溶液:口
・・・水またはNH,とHFあるいはに+と)(Fを含
有する溶液; バーN H3及びNH4OHまり!i K OH及びK
F。 :・、・H2S O4、H(1、HF、HI及び/また
はHBr; ホ・・・不活性ガス; へ・・・乾燥剤; ト・・・還元剤。
、第2図は第1図に記載する基本型の操作に乾燥工程を
加えた操作を示すフローシートである。 図中: A・・・ニオブ抽出工程: B・・・洗浄工程; C・・・逆抽出工程; D・・・タンタル抽出工程; E・・・中和・濾過工程; F・・・溶解・トI+イオン濃度調節工程;G・・・抽
出工程; H・・・加熱・蒸発または加熱・蒸留工程;J・・・ニ
オブのハロゲン化物 K・・・乾燥工程; し・・・還元工程; M・・・金属ニオブ; N・・・還元剤とハロゲンの結合品; イ・・・水またはN H3とHFを含有する水溶液:口
・・・水またはNH,とHFあるいはに+と)(Fを含
有する溶液; バーN H3及びNH4OHまり!i K OH及びK
F。 :・、・H2S O4、H(1、HF、HI及び/また
はHBr; ホ・・・不活性ガス; へ・・・乾燥剤; ト・・・還元剤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、主としてニオブを含有し且つタンタルを含む1種ま
たは2種以上の金属不純物イオンが共存するフッ酸及び
硫酸の混合液からの金属ニオブのの製造方法において、 (a)前記混合液にケトンの群、中性りん酸エステルの
群、アルキルアミンの群及びアミドの群より選択された
1種または2種以上の有機溶媒であって、石油系炭化水
素で希釈された有機溶媒(A)を接触させて前記混合液
中からニオブとタンタルを優先的に抽出し、前記有機溶
媒(A)を水またはNH_3とHFまたはK^+とHF
を含有する水溶液と接触させて有機溶媒(A)に抽出・
含有しているニオブとタンタルを水溶液側に逆抽出する
と共に有機溶媒(A)を再生する第1工程; (b)逆抽出された主としてニオブを含有し且つタンタ
ルが共存する水溶液にケトンの群、中性りん酸エステル
の群、アルキルアミンの群及びアミドの群から選択され
た1種または2種以上の有機溶媒であって、石油系炭化
水素で希釈された有機溶媒(B)または吸着剤を接触さ
せて前記水溶液中のタンタルを優先的に抽出・除去また
は吸着・除去する第2工程; (c)逆抽出されたタンタルイオンを除去したニオブを
含有する水溶液にNH_3ガス及びNH_4OHまたは
KOH及びKFを添加し、ニオブ、F^−及びNH_4
^+またはニオブ、F^−及びK^+を含有する沈澱物
を造ることからなる第3工程; (d)第2工程で得られたニオブを含有する逆抽出液及
び/または第3工程で造られた沈澱物にH_2SO_4
、HCl、HF、HI及びHBrの群より選択された1
種または2種以上の酸を添加し、沈澱物を溶解し且つH
^+イオン濃度を調節した後、エステルの群、エーテル
の群、ケトンの群及びアルコールの群からなる群から選
択された1種または2種以上の含酸素有機溶媒(C)を
接触させることにより該水溶液中のニオブイオンをハロ
ゲン化金属錯体として含酸素有機溶媒(C)に抽出し、
次に、常圧状態または減圧状態で加熱・蒸発または加熱
・蒸留することにより含酸素有機溶媒(C)を再生する
と共にニオブのハロゲン化物を製造する第4工程;及び (e)第4工程で得られたニオブのハロゲン化物に金属
Na、Ca、Pb及びZnの単体及び/またはこれらを
主体とする合金と接触させることにより金属ニオブを造
る第5工程よりなることを特徴とする金属ニオブの製造
方法。 2、第4工程で得られたニオブのハロゲン化錯体を抽出
・含有している含酸素有機溶媒(C)を乾燥剤と接触さ
せて含酸素有機溶媒(C)中に物理的に含有されている
水及び抽出・含有しているH_2Oを除去・乾燥する特
許請求の範囲第1項記載の製造方法。 3、第2工程で得られたニオブを含有している逆抽出液
あるいは第3工程で造られた沈澱物に、フッ酸及び硫酸
を添加して沈澱物を溶解し且つH^+イオン濃度を調節
した後、第1工程より第3工程までの操作を1回以上反
復することによりニオブのハロゲン化物の純度を向上さ
せる特許請求の範囲第1項記載の製造方法。 4、第2工程におけるニオブ含有液中に微量含まれるタ
ンタルイオンを除去に、アキルキアミンの群、中性りん
酸エステルの群及びアセトアミドの群よりなる各群から
選択された抽出剤を多孔質粒子に吸着または架橋せしめ
た吸着剤を使用する特許請求の範囲第1項記載の製造方
法。 5、ニオブのハロゲン化錯体を抽出・含有している有機
溶媒(A)及び含酸素有機溶媒(C)に水またはNH_
3とHFを含有する溶液を接触させて1種または2種以
上の金属不純物イオンを選択的に除去する特許請求の範
囲第1項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7611487A JPS63243231A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 金属ニオブの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7611487A JPS63243231A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 金属ニオブの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63243231A true JPS63243231A (ja) | 1988-10-11 |
Family
ID=13595872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7611487A Pending JPS63243231A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 金属ニオブの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63243231A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012132107A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | 三井金属鉱業株式会社 | ニオブの分離精製方法及び製造方法 |
| CN105129851A (zh) * | 2015-08-20 | 2015-12-09 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 一种高纯氧化铌的制备方法 |
-
1987
- 1987-03-31 JP JP7611487A patent/JPS63243231A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012132107A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | 三井金属鉱業株式会社 | ニオブの分離精製方法及び製造方法 |
| JP2012211048A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-01 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | ニオブの分離精製方法及び製造方法 |
| CN105129851A (zh) * | 2015-08-20 | 2015-12-09 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 一种高纯氧化铌的制备方法 |
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