JPS63246363A - アゼチジノンの製法 - Google Patents
アゼチジノンの製法Info
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- JPS63246363A JPS63246363A JP63016031A JP1603188A JPS63246363A JP S63246363 A JPS63246363 A JP S63246363A JP 63016031 A JP63016031 A JP 63016031A JP 1603188 A JP1603188 A JP 1603188A JP S63246363 A JPS63246363 A JP S63246363A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/48—Compounds containing oxirane rings with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms, e.g. ester or nitrile radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D477/00—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring
- C07D477/02—Preparation
- C07D477/04—Preparation by forming the ring or condensed ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D499/00—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D499/88—Compounds with a double bond between positions 2 and 3 and a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Iron Core Of Rotating Electric Machines (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はβ−ラクタムの製法、評言すればカルバペネム
及びペネム抗生物質の合成に有用な中間体の製法に関す
る。
及びペネム抗生物質の合成に有用な中間体の製法に関す
る。
従来の技術
過去数年間に多くの研究者グループがカルバペネム、ペ
ネム、モノバクタム並ヒニペニシリンー及びセファロス
ポリン類縁物質の合成を研究した。これらの合成は、立
体化学を制御する能力並びに中心の中間体を便利にかつ
良好な収率で生成する能力に著しく左右される。そのよ
うな１つの群類であるアゼチジノン中間体は、式： 〔式中Ｒ８及びＲｂは種々の有機基を表わす〕を有する
。ＲｂＣ０−基はアゼチジノン環の４位で種々の基に変
換し得る。その後、代表的にそのような基は窒素原子で
又は該窒素原子の好適な置換基で環化されてカルバペネ
ム又はペネムを形成する。例えばヨーロッパ公開特許第
１８１８３１号に記載されているよ５に、式■の化合物
な過酸とのバイヤー・ヴイリガー（Ｂａｅｙｅｒ −Ｖ
ｌｌｌｌｇｅｒ ）反応にもたらして弐■の化合物を形
成し、その後この化合物をｐｈｃｏｏ−置換基の置換、
Ｎ−置換基の合成、環化及び脱保護を介して弐■のペネ
ムに変換する： １式の化合物は種々の方法で生成することができる。例
えばヤナギサワ及びその他共著、’ Ｔｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ ’ 、 １０３７ （１９
８３年）、シオザキ及びその他共著、’ Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ ’ 。
ネム、モノバクタム並ヒニペニシリンー及びセファロス
ポリン類縁物質の合成を研究した。これらの合成は、立
体化学を制御する能力並びに中心の中間体を便利にかつ
良好な収率で生成する能力に著しく左右される。そのよ
うな１つの群類であるアゼチジノン中間体は、式： 〔式中Ｒ８及びＲｂは種々の有機基を表わす〕を有する
。ＲｂＣ０−基はアゼチジノン環の４位で種々の基に変
換し得る。その後、代表的にそのような基は窒素原子で
又は該窒素原子の好適な置換基で環化されてカルバペネ
ム又はペネムを形成する。例えばヨーロッパ公開特許第
１８１８３１号に記載されているよ５に、式■の化合物
な過酸とのバイヤー・ヴイリガー（Ｂａｅｙｅｒ −Ｖ
ｌｌｌｌｇｅｒ ）反応にもたらして弐■の化合物を形
成し、その後この化合物をｐｈｃｏｏ−置換基の置換、
Ｎ−置換基の合成、環化及び脱保護を介して弐■のペネ
ムに変換する： １式の化合物は種々の方法で生成することができる。例
えばヤナギサワ及びその他共著、’ Ｔｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ ’ 、 １０３７ （１９
８３年）、シオザキ及びその他共著、’ Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ ’ 。
２３９９（１９８３年）、Ｈａｎｅｓｓ ｆａｎ及びそ
の他共著、％Ｊ、Ａ、Ｃ，Ｓ、＃ 、（１０７）１４３
８（１９８５年）並びにマｌヤマ及びその他共著、’Ｂ
ｕ１１．Ｃ−ｈｅｍ 、 Ｓｏｃ 、 Ｊａｐａｎ 〃
（５８） 、 ３２６４ （１９８５年）の文献に記載
されている。一般にこれらの文献には、とりわけ式■及
び／又は■： 〔式中Ｒ１はアミン保護基である〕の化合物を介して１
式の化合物を生成することが記載されている。
の他共著、％Ｊ、Ａ、Ｃ，Ｓ、＃ 、（１０７）１４３
８（１９８５年）並びにマｌヤマ及びその他共著、’Ｂ
ｕ１１．Ｃ−ｈｅｍ 、 Ｓｏｃ 、 Ｊａｐａｎ 〃
（５８） 、 ３２６４ （１９８５年）の文献に記載
されている。一般にこれらの文献には、とりわけ式■及
び／又は■： 〔式中Ｒ１はアミン保護基である〕の化合物を介して１
式の化合物を生成することが記載されている。
発明が解決しようとする問題
本発明は、これらの種類の中間体の使用を避け、それ故
このような中間体を包含する方法に伴なう困難を避ける
方法を開示することである。
このような中間体を包含する方法に伴なう困難を避ける
方法を開示することである。
課題を解決するための手段
従って本発明は式■：
〔式中Ｒ１はアミン保護基でありかつＲ２はアルキル基
又はアリール基である〕の化合物を製造する方法を開示
することであり、これは式■：〔式中Ｒ１は前記のもの
を表わす〕の化合物を式■ ； 〔式中Ｒ２は前記のものを表わしかつしは分離する基で
ある〕の化合物と反応させることを包含する。
又はアリール基である〕の化合物を製造する方法を開示
することであり、これは式■：〔式中Ｒ１は前記のもの
を表わす〕の化合物を式■ ； 〔式中Ｒ２は前記のものを表わしかつしは分離する基で
ある〕の化合物と反応させることを包含する。
典型的にこの反応は塩基、例えば水素化ナトリウムの存
在において実施する。一般的にこの反応は極端ではない
温度、例えば−７０℃〜５０℃、最も有利には室温で実
施する。一般に、この反応は溶剤、例えばトルエン、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン及び
メチルｔ−ブチルエーテル中で実施する。
在において実施する。一般的にこの反応は極端ではない
温度、例えば−７０℃〜５０℃、最も有利には室温で実
施する。一般に、この反応は溶剤、例えばトルエン、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン及び
メチルｔ−ブチルエーテル中で実施する。
この反応は式Ｘ：
〔式中Ｒ１及びＲ２は前記のものを表わす〕の化合物を
介して進行する。所望の場合、式Ｘの化合物を単離する
ことができる。式Ｘの中間体は、更に塩基、例えば水酸
化リチウムで攪拌しながら室温で処理することにより完
全に１式の化合物に変換することができる。
介して進行する。所望の場合、式Ｘの化合物を単離する
ことができる。式Ｘの中間体は、更に塩基、例えば水酸
化リチウムで攪拌しながら室温で処理することにより完
全に１式の化合物に変換することができる。
アミノ保護基Ｒ１の例としては、アリール（例えばフェ
ニル、置換フェニル、例えばｐ−メトキシ−フェニル）
；アリール低級アルキル（例えばベンジル、置換ベンジ
ル、例えばｐ−メトキシベンジル及び２，４−ジメトキ
シベンジル、トリフェニルメチル）；シーアニシルメチ
ル及びフリルメチル；アシル（例えば低級アルコキシカ
ルボニル及びアリール低級アルコキシカルボニル（例え
ばｔ−ブトキシカルボニル及びベンジルオキシカルボニ
ル）；トリ低級アルキルシリル（例えばトリメチルシリ
ル、ｔ−ブチル−ジメチルシリル）が含まれる。
ニル、置換フェニル、例えばｐ−メトキシ−フェニル）
；アリール低級アルキル（例えばベンジル、置換ベンジ
ル、例えばｐ−メトキシベンジル及び２，４−ジメトキ
シベンジル、トリフェニルメチル）；シーアニシルメチ
ル及びフリルメチル；アシル（例えば低級アルコキシカ
ルボニル及びアリール低級アルコキシカルボニル（例え
ばｔ−ブトキシカルボニル及びベンジルオキシカルボニ
ル）；トリ低級アルキルシリル（例えばトリメチルシリ
ル、ｔ−ブチル−ジメチルシリル）が含まれる。
分離する基りの例にはハロゲン、殊に臭素が含まれる。
Ｒ２の例としては、Ｃ４〜６−アルキル、例えばメチル
、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル及びブチル、殊
にｔ−ブチル、場合により置換されている、例えばＣ４
〜６−アルキル、Ｃ１〜６−アルコキシ、ハロゲン又は
Ｃ２〜６−アルコキシカルボニルにより置換されている
フェニルが含まれる。
、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル及びブチル、殊
にｔ−ブチル、場合により置換されている、例えばＣ４
〜６−アルキル、Ｃ１〜６−アルコキシ、ハロゲン又は
Ｃ２〜６−アルコキシカルボニルにより置換されている
フェニルが含まれる。
■式の化合物は、例えばヤナギサワ及びその他共著’Ｔ
ｅｔ、Ｌｅｔｔ、’ 、１０１７（１９８３年）の一般
的な化学的方法から知られているか又は生成することが
できる。
ｅｔ、Ｌｅｔｔ、’ 、１０１７（１９８３年）の一般
的な化学的方法から知られているか又は生成することが
できる。
実施例
次に本発明を実施例により詳説する。その際に次の略語
を使用する： ＨＰＬＣｗ 高性能液体クロマトグラフィＮＭＲ−核
磁気共鳴スペクトル ＴＨＦ −テトラヒドロフラン ＦＡＢ ＝ 高速原子衝突（ｆａｓｔ ａｔｏｍ
ｂｏｍｂａｒ−ｄｍ扉ｎｔ） ４ｏ〜６ｏ６．。−２＝うえ、。〜５Ｑ’ＣＯ５＄ｚ−
’チル ＮＭＲスペクトルは２００ Ｍ＆で測定しかつδ値ｐｐ
ｍで表わす。δ値の表示中で、ｓ＝１重線、ｄ＝２重線
、ｔ−３重線、ｑ＝養重線、ｍ−多重線、ｂｒ ＝広幅
、Ｊ−結合定数を表わす。
を使用する： ＨＰＬＣｗ 高性能液体クロマトグラフィＮＭＲ−核
磁気共鳴スペクトル ＴＨＦ −テトラヒドロフラン ＦＡＢ ＝ 高速原子衝突（ｆａｓｔ ａｔｏｍ
ｂｏｍｂａｒ−ｄｍ扉ｎｔ） ４ｏ〜６ｏ６．。−２＝うえ、。〜５Ｑ’ＣＯ５＄ｚ−
’チル ＮＭＲスペクトルは２００ Ｍ＆で測定しかつδ値ｐｐ
ｍで表わす。δ値の表示中で、ｓ＝１重線、ｄ＝２重線
、ｔ−３重線、ｑ＝養重線、ｍ−多重線、ｂｒ ＝広幅
、Ｊ−結合定数を表わす。
例１
無水ＴＨＦ（４，０Ｉｊ）中の２８，３Ｒ−２、３−エ
ポキシブチル酸−ｐ−メトキシフェニルアミド（２０７
ｑ）の溶液にアルゴン下に６０％−水素化ナトリウム分
散液（４０１’ＩＰ）を添加した。混合物を１０分間周
囲温度で攪拌した。その後、無水ＴＨＦ（３，０１１４
）中の臭化フェナシルの溶液を迅速に前記の攪拌反応混
合物に添加した。反応混合物を更に１．５時間周囲温度
で攪拌し、その後エーテル（３０ＷＬｌ）で稀釈しかつ
０．５モル−Ｈα（３０１ＦＩｌ−０及びエーテル（３
０７ｄ）の攪拌混合物に注いだ。層を分離しかつ有機抽
出物を水（４０ｍ）及び飽和水性塩化す） ＩＪウム（
３０ｄ）で洗った。有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾
燥させ、濾過しかつ蒸発乾固させた。残渣を酢酸エチル
／ジクロロメタンの段階的な傾斜溶離（酢酸エチル／ジ
クロロメタン１：９が１：１に増加）を適用してシリカ
（珪酸ゲル６０）上でフラッシュクロマトグラフィによ
り精製した。相応するフラクションを蒸発乾固させて残
渣を得、これをジクロロメタン／４０〜６０ベトロール
から結晶させると固体（５７，０〜）が生じ、これは（
３Ｓ、４Ｓ、ｌ’Ｒ）Ｎ−ｐ−メトキシフェニル−３−
（１’−ヒドロキシエチ／Ｉ／）−４−ベンゾイルアゼ
チジン−２−オン（９３％）及び（３Ｓ、４Ｒ，ｌ／Ｒ
）Ｎ−ｐ−メトキシフェニル−３−（１’−ヒドロキシ
エチル）−４−ベンゾイルアゼチジン−２−オン（７％
）の混合物であった。
ポキシブチル酸−ｐ−メトキシフェニルアミド（２０７
ｑ）の溶液にアルゴン下に６０％−水素化ナトリウム分
散液（４０１’ＩＰ）を添加した。混合物を１０分間周
囲温度で攪拌した。その後、無水ＴＨＦ（３，０１１４
）中の臭化フェナシルの溶液を迅速に前記の攪拌反応混
合物に添加した。反応混合物を更に１．５時間周囲温度
で攪拌し、その後エーテル（３０ＷＬｌ）で稀釈しかつ
０．５モル−Ｈα（３０１ＦＩｌ−０及びエーテル（３
０７ｄ）の攪拌混合物に注いだ。層を分離しかつ有機抽
出物を水（４０ｍ）及び飽和水性塩化す） ＩＪウム（
３０ｄ）で洗った。有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾
燥させ、濾過しかつ蒸発乾固させた。残渣を酢酸エチル
／ジクロロメタンの段階的な傾斜溶離（酢酸エチル／ジ
クロロメタン１：９が１：１に増加）を適用してシリカ
（珪酸ゲル６０）上でフラッシュクロマトグラフィによ
り精製した。相応するフラクションを蒸発乾固させて残
渣を得、これをジクロロメタン／４０〜６０ベトロール
から結晶させると固体（５７，０〜）が生じ、これは（
３Ｓ、４Ｓ、ｌ’Ｒ）Ｎ−ｐ−メトキシフェニル−３−
（１’−ヒドロキシエチ／Ｉ／）−４−ベンゾイルアゼ
チジン−２−オン（９３％）及び（３Ｓ、４Ｒ，ｌ／Ｒ
）Ｎ−ｐ−メトキシフェニル−３−（１’−ヒドロキシ
エチル）−４−ベンゾイルアゼチジン−２−オン（７％
）の混合物であった。
３ Ｓ ＊ ４ Ｓ ｔ ＰＲ（） ラ” ス）異性体
ハＣＤｃｌＳ中で次のＮＭＲを有していた： １．３５（ｄ、３日）、３．２３ （ｄｄ、 ＬＨ）、
３゜７５（ｓ、３Ｈ）、４．３７（ｍ、ＬＨ）、５．５
３ （ｄ 、Ｊ＝２．０＆、ＬＨ）、６．８３（ｄ、２
Ｈ）、７．２２（ｄ、２Ｈ）、７，６（ｍ、３Ｈ）、８
．２２（ｍ、２Ｈ）。
ハＣＤｃｌＳ中で次のＮＭＲを有していた： １．３５（ｄ、３日）、３．２３ （ｄｄ、 ＬＨ）、
３゜７５（ｓ、３Ｈ）、４．３７（ｍ、ＬＨ）、５．５
３ （ｄ 、Ｊ＝２．０＆、ＬＨ）、６．８３（ｄ、２
Ｈ）、７．２２（ｄ、２Ｈ）、７，６（ｍ、３Ｈ）、８
．２２（ｍ、２Ｈ）。
質量スペクトルＭ＋Ｉ（（ＦＡＢ）＝３２６゜（シス）
異性体はＣＤＣｌ、中で次のＮＭＲを有していた： １．５５（ｄ、３Ｈ）、３．６５（ｓ、３Ｈ）、屯９５
（ｍ、ＬＨ）、５．６２ （ｄ 、 Ｊ＝５．０＆ 、
ＬＨ）、６．＋７（ｄ、２Ｈ）、６．７４（ｄ、２Ｈ
）、７．２２（ｍ、３Ｈ）、８．０８（ｍ、２Ｈ）。
異性体はＣＤＣｌ、中で次のＮＭＲを有していた： １．５５（ｄ、３Ｈ）、３．６５（ｓ、３Ｈ）、屯９５
（ｍ、ＬＨ）、５．６２ （ｄ 、 Ｊ＝５．０＆ 、
ＬＨ）、６．＋７（ｄ、２Ｈ）、６．７４（ｄ、２Ｈ
）、７．２２（ｍ、３Ｈ）、８．０８（ｍ、２Ｈ）。
例２
無水ＴＨＦ（８，０ｍ）中の２Ｒ，３Ｒ−２、３−エボ
キクブチル酸−ｐ−メトキシフェニルアミド（４１４■
）の溶液にアルゴン下に６０％−水素化ナトリウム分散
液（８０１１ｖ）を加えた。
キクブチル酸−ｐ−メトキシフェニルアミド（４１４■
）の溶液にアルゴン下に６０％−水素化ナトリウム分散
液（８０１１ｖ）を加えた。
混合物を周囲温度で１ｏ分間攪拌した。無水ＴＨＦ（４
，０ゴ）中の１−ブロモビナコロン（０，３９４ｆ）の
溶液を迅速に攪拌反応混合物に加えた。更に１６６時間
周囲温で攪拌し、その後エーテル（５０ｄ）及び水（３
０ｍ）で稀釈しかつ層を分配した。相を分離しかつ有機
抽出物を水（４０ｍ）及び水性飽和塩化ナトリウム（３
０１ｒＬｌ）で洗った。有機層を無水硫酸ナトリウム上
で乾燥し、濾過しかつ蒸発乾固した。残渣な、段階的な
傾斜溶液の酢酸エチル／ジクロロメタン（１ニアから酢
酸エチル１００％に上昇）を使ってシリカ（珪酸ゲル６
０）上で７ラツシユクロマトグラフイにより精製して２
つのフラクションＡ（１７０η）及びＢ（３２０η）を
得た。クラクションＡをエーテル／４０〜６０ベトロー
ルから結晶させると（３Ｓ 、 ４３ 。
，０ゴ）中の１−ブロモビナコロン（０，３９４ｆ）の
溶液を迅速に攪拌反応混合物に加えた。更に１６６時間
周囲温で攪拌し、その後エーテル（５０ｄ）及び水（３
０ｍ）で稀釈しかつ層を分配した。相を分離しかつ有機
抽出物を水（４０ｍ）及び水性飽和塩化ナトリウム（３
０１ｒＬｌ）で洗った。有機層を無水硫酸ナトリウム上
で乾燥し、濾過しかつ蒸発乾固した。残渣な、段階的な
傾斜溶液の酢酸エチル／ジクロロメタン（１ニアから酢
酸エチル１００％に上昇）を使ってシリカ（珪酸ゲル６
０）上で７ラツシユクロマトグラフイにより精製して２
つのフラクションＡ（１７０η）及びＢ（３２０η）を
得た。クラクションＡをエーテル／４０〜６０ベトロー
ルから結晶させると（３Ｓ 、 ４３ 。
１’Ｒ）Ｎ−ｐ−メトキシフェニル−３−（１’−ヒド
ロキシエチル）−４−ピバロリルアゼテジンー２−オン
（５２〜）融点８２〜８４℃が生成した。
ロキシエチル）−４−ピバロリルアゼテジンー２−オン
（５２〜）融点８２〜８４℃が生成した。
この化合物はＣＤｃｔ５中で次のＮＭＲを有していた。
１．３２ （ｓ、９Ｈ）、１．＋６（ｄ、３Ｈ）、３．
０６（ｄｄ、ＬＨ）、３．７７（ｓ、３Ｈ）、牛、２７
（ｍ、ＬＨ）、４．９８ （ｄ 、Ｊ＝２．０１ｂ、ｌ
Ｈ）、６．８６（ｄ、２Ｈ）、７．１７（ｄ、２Ｈ）。
０６（ｄｄ、ＬＨ）、３．７７（ｓ、３Ｈ）、牛、２７
（ｍ、ＬＨ）、４．９８ （ｄ 、Ｊ＝２．０１ｂ、ｌ
Ｈ）、６．８６（ｄ、２Ｈ）、７．１７（ｄ、２Ｈ）。
５１ｆｉ、ｔ、ベクトルＭ＋Ｈ（ＦＡＢ） ＝３０６゜
フラクションＢは前記のアゼチジン−２−オンと（２Ｒ
，３Ｒ）−２，３−エポキシブチル酸Ｎ−ｐ−メトキシ
−フェニルＮ−（３，３−ジメチルブタン−２−オンコ
アミド、ＮＭＲ（ＣＤα３）： １．２８（Ｓ、９Ｈ）、１．４５（ｄ、３Ｈ）、３゜０
５（ｍ、ＬＨ）、３．３２（ｄ、ＬＨ）、３．８５（ｓ
、３Ｈ）、４．３４（ｄ、ＬＨ）、杢、８５（ｄ 、Ｌ
Ｈ）、６．９（ｄ、２Ｈ）、７．３（ｄ。
フラクションＢは前記のアゼチジン−２−オンと（２Ｒ
，３Ｒ）−２，３−エポキシブチル酸Ｎ−ｐ−メトキシ
−フェニルＮ−（３，３−ジメチルブタン−２−オンコ
アミド、ＮＭＲ（ＣＤα３）： １．２８（Ｓ、９Ｈ）、１．４５（ｄ、３Ｈ）、３゜０
５（ｍ、ＬＨ）、３．３２（ｄ、ＬＨ）、３．８５（ｓ
、３Ｈ）、４．３４（ｄ、ＬＨ）、杢、８５（ｄ 、Ｌ
Ｈ）、６．９（ｄ、２Ｈ）、７．３（ｄ。
ＬＨ）。
との混合物であった。
フラクション日を次のようにして完全に前記のアゼチジ
ノン−２−オンに変換した。フラクシ５ｙＢ（３０４Ｗ
）をＴＨＦ （３，０ｒｎｌ ）及び水（１，０ｒｎｌ
）中に溶解しかツＬｉ０Ｈ−Ｈ２０（４２〜）を加え、
かつ混合物を周囲温度で２０時間攪拌した。反応混合物
をエーテル（５０１ｄ）及び水（３０ｍ）で稀釈しかつ
分配した。層を分離しかつ有機層を水（３０ｍ）及び飽
和塩化ナトリウム（３０１ｄ）で洗った。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過しかつ蒸発乾固した。残
渣を酢酸エチル／ジクロロメタン（１：６からｌ：３．
３に増加）で段階的な傾斜溶離を適用してフラッシュク
ロマトグラフィにより精製した。適するフラクションを
蒸発乾固し、残渣をエーテル／４０〜６０ベトロールか
ら結晶させると融点８３．５〜８４．５℃の生成物（５
９ｍｙ）が得られた。これは前記の７ゼチジンー２−オ
ンに相当した。
ノン−２−オンに変換した。フラクシ５ｙＢ（３０４Ｗ
）をＴＨＦ （３，０ｒｎｌ ）及び水（１，０ｒｎｌ
）中に溶解しかツＬｉ０Ｈ−Ｈ２０（４２〜）を加え、
かつ混合物を周囲温度で２０時間攪拌した。反応混合物
をエーテル（５０１ｄ）及び水（３０ｍ）で稀釈しかつ
分配した。層を分離しかつ有機層を水（３０ｍ）及び飽
和塩化ナトリウム（３０１ｄ）で洗った。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過しかつ蒸発乾固した。残
渣を酢酸エチル／ジクロロメタン（１：６からｌ：３．
３に増加）で段階的な傾斜溶離を適用してフラッシュク
ロマトグラフィにより精製した。適するフラクションを
蒸発乾固し、残渣をエーテル／４０〜６０ベトロールか
ら結晶させると融点８３．５〜８４．５℃の生成物（５
９ｍｙ）が得られた。これは前記の７ゼチジンー２−オ
ンに相当した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式VII： ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） 〔式中Ｒ＾１はアミノ保護基でありかつＲ＾２はアルキ
ル基又はアリール基である〕の化合物を製造する方法に
おいて、式VIII： ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） 〔式中Ｒ＾１は前記のものを表わす〕の化合物を式IX： ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） 〔式中Ｒ＾２は前記のものを表わしかつＬは分離する基
である〕の化合物と反応させることを特徴とするアゼチ
ジノンの製法。 ２、Ｒ＾２がＣ＿１＿〜＿６−アルキル基か又はＣ＿１
＿〜＿６−アルキル、Ｃ＿１＿〜＿６−アルコキシ、ハ
ロゲン又はＣ＿２＿〜＿６−アルコキシカルボニルによ
り置換されていてよいフェニル基である請求項１記載の
方法。 ３、Ｒ＾２がフェニル基である請求項２記載の方法。 ４、Ｒ＾１がｐ−メトキシフェニル基である請求項１か
ら３までのいずれか１項記載の方法。 ５、式Ｘ： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） 〔式中Ｒ＾１はアミノ保護基でありかつＲ＾２はアルキ
ル基又はアリール基である〕の化合物を製造する方法に
おいて、請求項１に定義されているようなVIII式の化合
物を請求項１に定義されているようなIX式の化合物と反
応させることを特徴とするＸ式の化合物の製法。 ６、式Ｘ I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） 〔式中Ｘは硫黄原子か又は−ＣＲ＾３Ｒ＾４−基であり
、その際Ｒ＾３及びＲ＾４はカルバペネム分野で公知の
置換基であり、かつＲＣはカルバペネム及び／又はペネ
ム分野で公知の置換基である〕の化合物を製造する方法
において、VIII式の化合物をIX式の化合物と反応させる
工程を特徴とするＸ I 式の化合物の製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB878702139A GB8702139D0 (en) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | Process |
| GB8702139 | 1987-01-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63246363A true JPS63246363A (ja) | 1988-10-13 |
Family
ID=10611502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63016031A Pending JPS63246363A (ja) | 1987-01-30 | 1988-01-28 | アゼチジノンの製法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JPS63246363A (ja) |
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| DE (1) | DE3850977T2 (ja) |
| GB (1) | GB8702139D0 (ja) |
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| DE3850977D1 (de) | 1994-09-15 |
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