JPS63252576A - 薬液供給装置 - Google Patents
薬液供給装置Info
- Publication number
- JPS63252576A JPS63252576A JP62085106A JP8510687A JPS63252576A JP S63252576 A JPS63252576 A JP S63252576A JP 62085106 A JP62085106 A JP 62085106A JP 8510687 A JP8510687 A JP 8510687A JP S63252576 A JPS63252576 A JP S63252576A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chemical liquid
- filter
- chemical
- container
- contact type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はフォトレジスト等の薬液をスピナ等へ滴下さ
せながら供給する薬液供給装置に関するものである。
せながら供給する薬液供給装置に関するものである。
半導体装置を製造するに際して写真蝕刻技術が広く用い
られる。通常容器に収納されたフォトレジストをフィル
タを介して抽出し、これをノズルから滴下しながら半導
体ウェハ上に供給し、スピナによってウェハを回転させ
ることにより所定の厚さにフォトレジストを塗布するこ
とが広く採用されている。このようにレジスト等の薬液
を供給するための装置は種々知らせているが、たとえば
特開昭６０−１１７７２７号公報には、薬液の供給ライ
ン中に薬液フィルタを装備して、その薬液フィルタ中に
残存する薬液の量を測定するための測定装置を具備した
構造が開示されている。
られる。通常容器に収納されたフォトレジストをフィル
タを介して抽出し、これをノズルから滴下しながら半導
体ウェハ上に供給し、スピナによってウェハを回転させ
ることにより所定の厚さにフォトレジストを塗布するこ
とが広く採用されている。このようにレジスト等の薬液
を供給するための装置は種々知らせているが、たとえば
特開昭６０−１１７７２７号公報には、薬液の供給ライ
ン中に薬液フィルタを装備して、その薬液フィルタ中に
残存する薬液の量を測定するための測定装置を具備した
構造が開示されている。
一般に、薬液の収納容器や薬液フィルタ中に残存する薬
液の量を監視し、薬液がなくなってしまった場合にはこ
れを作業者に警報し、速かに薬液の補充を行なうことが
自動塗布ライン等においては必要とされる。
液の量を監視し、薬液がなくなってしまった場合にはこ
れを作業者に警報し、速かに薬液の補充を行なうことが
自動塗布ライン等においては必要とされる。
前述した公報中に開示されている薬液フィルタ内の薬液
の残量検出器は、薬液フィルタと結合されフィルタ内の
液体の液面の高さを測定するように構成されている。
の残量検出器は、薬液フィルタと結合されフィルタ内の
液体の液面の高さを測定するように構成されている。
したがって、薬液か無くなってしまった時に、薬液の交
換に当りフィルタびんを取り除いて再び装着し所定の薬
液をフィルタ内に充填した時には、再度残量検出器を調
整して薬液面が所定の高さに保たれるようにする必要が
あった。
換に当りフィルタびんを取り除いて再び装着し所定の薬
液をフィルタ内に充填した時には、再度残量検出器を調
整して薬液面が所定の高さに保たれるようにする必要が
あった。
従来の薬液供給装置はこのようにフィルタ交換時に残量
検出器の再調整を必要とし、調整時間を多大に要すると
いう問題点があった。
検出器の再調整を必要とし、調整時間を多大に要すると
いう問題点があった。
この発明は上述したような問題点を解消するためになさ
れたもので、薬液フィルタ中に薬液が無くなりこれを補
充するために薬液フィルタを交換した場合でもフィルタ
中の薬液の残量を検出するための残量検出器を再調整す
る必要のない構成をもつ薬液供給装置を提供することを
目的とする。
れたもので、薬液フィルタ中に薬液が無くなりこれを補
充するために薬液フィルタを交換した場合でもフィルタ
中の薬液の残量を検出するための残量検出器を再調整す
る必要のない構成をもつ薬液供給装置を提供することを
目的とする。
（問題点を解決するための手段〕
この発明に係る薬液供給装置は、容器に収納された薬液
を薬液フィルタを介して抽出し、ノズルから滴下供給す
るようにした薬液供給装置において、前記薬液フィルタ
内に残存する薬液の存在を検知する非接触型センサを前
記薬液フィルタに近接させて設けたものである。
を薬液フィルタを介して抽出し、ノズルから滴下供給す
るようにした薬液供給装置において、前記薬液フィルタ
内に残存する薬液の存在を検知する非接触型センサを前
記薬液フィルタに近接させて設けたものである。
この発明における非接触型センサは、薬液フィルタと一
体化されて構成されていないため、薬液フィルタ交換時
にもセンサを再調整する必要がなくなる。
体化されて構成されていないため、薬液フィルタ交換時
にもセンサを再調整する必要がなくなる。
（実施例）
以下本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。図は本発明の一実施例を示す薬液供給装置の構成図で
ある。（１）は薬液容器であり、フォトレジスト等の薬
液が収納されている。薬液容器（１）としてはガロンび
ん、キャニスタ−および薬液タンク等積々の形態のもの
が考えられる。
。図は本発明の一実施例を示す薬液供給装置の構成図で
ある。（１）は薬液容器であり、フォトレジスト等の薬
液が収納されている。薬液容器（１）としてはガロンび
ん、キャニスタ−および薬液タンク等積々の形態のもの
が考えられる。
薬液容器（１）には窒素ガス配管（２）と薬液供給配管
（３） とが差し込まれており、窒素ガス配管（２）に
より窒素等の不活性ガスを容器（１）内に導入し、液面
をガス圧により押し込むことにより薬液供給配管（３）
に容器（１）内の薬液を吐出する。
（３） とが差し込まれており、窒素ガス配管（２）に
より窒素等の不活性ガスを容器（１）内に導入し、液面
をガス圧により押し込むことにより薬液供給配管（３）
に容器（１）内の薬液を吐出する。
このようにして薬液供給配管（３ａ）を通った薬液は薬
液フィルタ（４） にいったん収納され、さらに配管（
３ｂ）を通り薬液制御弁（７）により所定のタイミング
で制御されて配管（３Ｃ）を通ってノズル（８）から滴
下供給される。
液フィルタ（４） にいったん収納され、さらに配管（
３ｂ）を通り薬液制御弁（７）により所定のタイミング
で制御されて配管（３Ｃ）を通ってノズル（８）から滴
下供給される。
この滴下供給される薬液はスピンチャック（１０）上に
吸着されて回転する半導体ウェハ（９）上に供給され半
導体ウェハ（９）上に塗布される。薬液容器（１）の交
換や薬液フィルタ（４）の交換時に配管中にあるエアを
抜くため、薬液フィルタ（４）にはエア抜き配管（５）
とコック（５ａ）とが設けられている。薬液フィルタ（
４）内に残存する薬液の量を検出するために非接触型セ
ンサ（６） を薬液フィルタ（４）に近接させて配置す
る。この非接触型センサ（６）は薬液フィルタ（４）と
の間の静電容量を検出するような構成にしておけば、フ
ィルタ内の薬液の量に応じて静電容量が変化し薬液の残
量を容易に検出することが可能である。
吸着されて回転する半導体ウェハ（９）上に供給され半
導体ウェハ（９）上に塗布される。薬液容器（１）の交
換や薬液フィルタ（４）の交換時に配管中にあるエアを
抜くため、薬液フィルタ（４）にはエア抜き配管（５）
とコック（５ａ）とが設けられている。薬液フィルタ（
４）内に残存する薬液の量を検出するために非接触型セ
ンサ（６） を薬液フィルタ（４）に近接させて配置す
る。この非接触型センサ（６）は薬液フィルタ（４）と
の間の静電容量を検出するような構成にしておけば、フ
ィルタ内の薬液の量に応じて静電容量が変化し薬液の残
量を容易に検出することが可能である。
通常の動作時には薬液容器（１）内の薬液（１１）が所
定の量だけ薬液フィルタ（４）に供給された状態で装置
が動作している。しかし容器（１）内の薬液が無くなる
と、これに伴って薬液フィルタ（４）内の残存溶液が減
少し非接触型センサ（６）が動作する。非接触型センサ
（６）が動作すると、これに接続された図示しないブザ
ー等の警報でこれを作業者に通知すると同時にスピナ等
の塗布装置を停止させる。
定の量だけ薬液フィルタ（４）に供給された状態で装置
が動作している。しかし容器（１）内の薬液が無くなる
と、これに伴って薬液フィルタ（４）内の残存溶液が減
少し非接触型センサ（６）が動作する。非接触型センサ
（６）が動作すると、これに接続された図示しないブザ
ー等の警報でこれを作業者に通知すると同時にスピナ等
の塗布装置を停止させる。
そして容器（１）と薬液フィルタ（４）とを交換し、必
要な薬液を補充して再び装置に装着し通常の動作を開始
させる。
要な薬液を補充して再び装置に装着し通常の動作を開始
させる。
薬液フィルタ（４）内の残存薬液を検出するための非接
触型センサ（６）がフィルタと一体に組み込まれていな
いため、フィルタの交換時に非接触型センサ（６）を再
調整する必要がないため短時間で装置を再起動すること
が可能である。
触型センサ（６）がフィルタと一体に組み込まれていな
いため、フィルタの交換時に非接触型センサ（６）を再
調整する必要がないため短時間で装置を再起動すること
が可能である。
〔発明の効果〕
以上説明したようにこの発明ではフィルタ内の残存薬液
を検知するためのセンサを非接触型としてフィルタの近
傍に配置するような構成を採用したことから、フィルタ
交換時にセンサを再調整する必要が無くなるため作業効
率を改善することができるという効果がある。
を検知するためのセンサを非接触型としてフィルタの近
傍に配置するような構成を採用したことから、フィルタ
交換時にセンサを再調整する必要が無くなるため作業効
率を改善することができるという効果がある。
図はこの発明の一実施例に係る薬液供給装置の構成図で
ある。 （１）は薬液容器、 （３）は薬液供給配管、（４）
は薬液フィルタ、（６）は非接触型センサ、（８）はノ
ズル、 （９）は半導体ウェハ。
ある。 （１）は薬液容器、 （３）は薬液供給配管、（４）
は薬液フィルタ、（６）は非接触型センサ、（８）はノ
ズル、 （９）は半導体ウェハ。
Claims (1)
- 容器に収納された薬液を薬液フィルタを介して抽出し、
ノズルから滴下供給するようにした薬液供給装置におい
て、前記薬液フィルタ内に残存する薬液の存在を検知す
る非接触型センサを前記薬液フィルタに近接させて設け
たことを特徴とする薬液供給装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62085106A JPS63252576A (ja) | 1987-04-07 | 1987-04-07 | 薬液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62085106A JPS63252576A (ja) | 1987-04-07 | 1987-04-07 | 薬液供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63252576A true JPS63252576A (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=13849363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62085106A Pending JPS63252576A (ja) | 1987-04-07 | 1987-04-07 | 薬液供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63252576A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004056131A (ja) * | 2003-07-03 | 2004-02-19 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | レジスト塗布装置 |
-
1987
- 1987-04-07 JP JP62085106A patent/JPS63252576A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004056131A (ja) * | 2003-07-03 | 2004-02-19 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | レジスト塗布装置 |
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