JPS6325340Y2 - - Google Patents

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JPS6325340Y2
JPS6325340Y2 JP20190583U JP20190583U JPS6325340Y2 JP S6325340 Y2 JPS6325340 Y2 JP S6325340Y2 JP 20190583 U JP20190583 U JP 20190583U JP 20190583 U JP20190583 U JP 20190583U JP S6325340 Y2 JPS6325340 Y2 JP S6325340Y2
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JP
Japan
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valve
exhaust system
pressure
tmp3
pump
Prior art date
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JP20190583U
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JPS60110685U (ja
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  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は電子顕微鏡等に使用されるターボ分子
ポンプを用いた排気系の改良に関する。
ターボ分子ポンプ(以下TMPと略す)は排気
速度が大きく超高真空が能率良く得られるため電
子顕微鏡等の真空系に広く使用されている。第1
図はTMPを用いた従来の排気系の構成図である。
第中1は電子顕微鏡の鏡筒に代表される真空容器
であり、該真空容器1には主弁2を介してTMP
3が接続されている。4はTMP3に接続された
リザーバタンク(以下RTと略す)であり、該
RT4には油回転ポンプ(以下RPと略す)5が
接続されている。6はTMP3に設けられたリー
ク弁である。このような従来の排気系において
は、TMPの停止時にはTMPに使用されている軸
受油の真空容器内への流出を防止するためTMP
内を略大気圧に保つ必要がある。そのため、
TMP3にリーク弁6が設けられているが、該リ
ーク弁6によりTMP3だけでなくRT4及びRP
5も大気圧にリークされる構造になつていた。そ
のため、真空容器1内を再び排気する前段階とし
て、主弁2及びリーク弁6を閉状態としてTMP
3及びRP5を駆動してRT4を排気する際に、
RT4の容積がTMP3の容量よりも一般に大き
いため、RT4の排気に時間を要するという欠点
があつた。
第2図は第1図の排気系の欠点を解消するため
の改良した排気系で、第1図と同じ部分には同一
番号が付されている。第2図の排気系が第1図の
排気系と異る点は、TMP3とRT4の間に第1
調整弁7を配置し、又RT4とRP5の間には第
2調整弁8を配置し、更にRP5にはリーク弁9
を設けた点にある。この様に構成された排気系で
は、排気系を停止する場合は、第1調整弁7及び
2調整弁8を閉状態とし、RT4を高真空に保持
してリーク弁6及び9を開状態とすることにより
TMP3及びRP5を大気圧にリークすれば良い。
この場合、RT4が高真空に保されているため、
TMP3を再び起動させる場合は第1図の排気系
のようにRT4を排気するのに時間を要するとい
うことはない。しかし乍ら、第2図に示す排気系
の場合にはTMP3のリーク弁6のほかにRP5専
用のリーク弁9が必要になり装置が高価になる欠
点があつた。
本考案は以上の点に鑑みなされたもので、真空
容器に主弁を介して接続されたターボ分子ポンプ
と、該ターボ分子ポンプの背圧側に接続された油
回転ポンプ及びリザーバタンクと、該ターボ分子
ポンプをリークするリーク弁を備えた排気系にお
いて、前記リザーバタンクとターボ分子ポンプ又
は油回転ポンプとの間に開閉弁を設け、該リザー
バタンク内の圧力が前記ターボ分子ポンプ内の圧
力より高い場合には前記開閉弁を開状態にするよ
うに構成したことを特徴としている。
以下本考案の実施例を図面に基づき詳述する。
第3図は本考案の一実施例装置を示す構成図で
ある。第3図において、第1図及び第2図と同一
構成要素には同一番号を付してその説明を省略す
る。第3図の排気系が第2図の排気系と異るとこ
ろは、リーク弁9を削除し、第1調整弁7及び第
2調整弁11を迂回するバイパス排気管10を設
け、第2調整弁を第4図に示すような調整弁に変
えたことにある。この様に構成された排気系で
は、TMP3及びRP5をリークする場合は、第1
調整弁と第2調整弁を閉じてからリーク弁6を開
状態にすることにより行われるので、第2図の排
気系のようにリーク弁を2つ設ける必要はない。
又、TMP3を再起動する場合は、リーク弁6を
閉じてからバイパス排気管10によりTMP3内
をRP5により排気した後、一定時間(又は一定
圧力まで)後に第1調整弁7及び第2調整弁11
を開状態とすればよい。このように、RT4内は
第1調整弁7及び第2調整弁11を閉状態とする
ことにより常に高真空に保つことができるため、
TMP3を再起動する場合でも、第1図の排気系
のようにRT4を排気するのに時間を要すること
はない。
ところで、第3図の排気系で問題となるのは、
TMP3が停止時にRT4が大気圧もしくは比較
的高い圧力状態になつている場合である。このよ
うな状態でTMP3を再起動すると、TMP3の方
がRT4よりも低い圧力(高真空)となり、その
圧力差も大きくなるため、第1調整弁7及び第2
調整弁11を開状態にすると、TMP3の背圧が
急上昇してTMP3のロータに衝撃を与えること
となる。そのため、本考案においては、RT4と
RP5の間に配置される第2調整弁11を例えば
第4図に示す如く構成する。第4図に示した第2
調整弁11の弁体20は、弁体20と一体となつ
たピストン21に設けられたスプリング22によ
つて常に押圧され上流側の真空側ポートaと下流
側の大気側ポートbを遮断する様構成され(ノー
マルクローズの状態)、コイル23が図示しない
電源により励磁された場合、ピストン21がスプ
リング22の押圧力に抗して矢印Aの方向に移動
し、真空側ポートaと大気側ポートbは連通す
る。又、真空側ポートa(上流側)が大気圧側ポ
ートb(下流側)よりも圧力が高い場合にも、そ
の圧力差によつてピストン21はスプリング22
の押圧力に抗して矢印A方向に自動的に移動する
ようスプリング22の押圧力が調整されている。
そのため、第4図において真空側ポートaに接続
されたRT4の圧力が高く、大気圧側bに接続さ
れたTMP3の圧力がRT4の圧力より低い(高
真空)場合は、その圧力差によりピストン21は
スプリング22の押圧力に抗して矢印A方向に自
動的に移動し、真空側ポートaと大気側ポートb
が連通する。従つて、RT4も同時に排気される
ためTMP3とRT4の圧力差が大きくなること
が防止できる。従つて、TMP3を再起動させる
ときにTMP3の背圧が急上昇することはない。
又、RT4が高真空に排気されRP5が大気圧の
場合は、スプリング22の押圧力と圧力差が加わ
り弁体20を矢印A方向とは逆の方向に押圧する
ため真空側ポートaと大気側ポートbは遮断され
RT4は高真空に保たれる。
第5図は本考案の変形であり、第5図の排気系
ではTMP3とRT4の間に第2調整弁11を使
用し、RP5をTMP3の背圧側と第2調整弁11
の間に接続してある。この様な排気系において
も、RT4の圧力がTMP3の圧力より高い場合
は第2調整弁11は開状態となりRT4はRP5
により排気され、RT4の圧力がTMP3の圧力
より低い場合は、第2調整弁11は閉状態となり
RT4は高真空に保たれる。そのため、この状態
でTMP3及びRP5を起動して、真空容器1を本
引するために主弁2を開状態としてもTMP3の
背圧が急上昇することはない。
以上の様に本考案は、TMPの背圧側にRTが
設けられた排気系において、予備排気時間を短縮
させると共に廉価な排気系を提供する。
【図面の簡単な説明】
第1図及第2図は従来の排気系を説明するため
の構成図、第3図は本考案の一実施例の構成図、
第4図は一実施例に使用される調整弁の一実施例
の概略図、第5図は他の実施例の構成図である。 1:真空容器、2:主弁、3:ターボ分子ポン
プ、4:リザーバタンク、5:油回転ポンプ、
6:リーク弁、7:第1調整弁、8,11:第2
調整弁、9:リーク弁、10:バイパス排気管。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空容器に主弁を介して接続されたターボ分子
    ポンプと、該ターボ分子ポンプの背圧側に接続さ
    れた油回転ポンプ及びリザーバタンクと、該ター
    ボ分子ポンプをリークするリーク弁を備えた排気
    系において、前記リザーバタンクとターボ分子ポ
    ンプ又は油回転ポンプとの間に開閉弁を設け、該
    リザーバタンク内の圧力が前記ターボ分子ポンプ
    内の圧力より高い場合には前記開閉弁を開状態に
    するように構成したことを特徴とするターボ分子
    ポンプを用いた排気系。
JP20190583U 1983-12-28 1983-12-28 タ−ボ分子ポンプを用いた排気系 Granted JPS60110685U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20190583U JPS60110685U (ja) 1983-12-28 1983-12-28 タ−ボ分子ポンプを用いた排気系

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20190583U JPS60110685U (ja) 1983-12-28 1983-12-28 タ−ボ分子ポンプを用いた排気系

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60110685U JPS60110685U (ja) 1985-07-26
JPS6325340Y2 true JPS6325340Y2 (ja) 1988-07-11

Family

ID=30764124

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20190583U Granted JPS60110685U (ja) 1983-12-28 1983-12-28 タ−ボ分子ポンプを用いた排気系

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0720395Y2 (ja) * 1988-02-03 1995-05-15 株式会社大阪真空機器製作所 真空排気装置
JP4168642B2 (ja) * 2002-02-28 2008-10-22 東京エレクトロン株式会社 被処理体収納容器体及び処理システム

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60110685U (ja) 1985-07-26

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