JPS63256584A - 化粧セラミツク体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、表面が化粧された化粧セラミック体の製造方
法に関するものであり、内・外装パネル用建材、琺瑯食
器、陶磁器製の住設機器、等に利用される化粧セラミッ
ク体を得る方法を提供するものである。

〔従来の技術〕

従来、化粧セラミツ表体を製造する方法として、（１）
素焼き前あるいは素焼き後のセラミック体に手描きで絵
付けを行なう方法、（２）素焼き前のセラミック体に熱
転写紙を用いて熱転写を施し、次いで焼成を行なう方法
、および（３）紙／水溶性樹脂による剥離層／焼成イン
キ層の構造を持つ転写シートを、インキ層を上にして水
面に浮かべてインキ層と紙とを分離し、セラミック体の
表面にインキ層を転写し、乾燥、焼成を行なう方法等が
ある。

しかし、上記の従来の化粧セラミック体の製造方法のう
ちの（１）の手描きを利用する方法は熟練を要するばか
りでなく、量産性が極めて悪いという欠点を有しており
、（２）の熱転写紙を用いる方法においては、熱転写紙
の保管時にブロッキング現象が生じ易（これに伴なうト
ラブルが発生する上、熱転写機が必要となって装置が大
型化する等の欠点を有するものである。加えて（２）の
方法においては、一般にセラミック体の大板はフラット
性が少ないために転写抜けが生ずるという難点を生じや
す（、また、熱転写紙とセラミック体との間の密着性を
向上させるために熱転写紙におけるヒートシール層を厚
くすると、焼成によって得られた塗膜に割れが発生する
等の欠点がある。更に、１３）の水圧転写法を利用する
方法は、肉厚の薄い焼成インキによる印刷層のみを転写
するものであるためにサイズの大きな被転写体に対して
の適用が不可能であるという欠点がある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明において解決しようとするのは、従来の化粧セラ
ミック体の製造方法において存在する、量産性が悪い、
熱転写紙のブロッキング及びそれに伴なうトラブルの発
生がある、熱転写機を必要とし、装置が大型化する、セ
ラミックの大板において転写抜けが発生しやすいヒート
シール層を厚くすると塗膜に割れが発生する、および、
水圧転写方法においては大サイズのものに適用できない
、等の欠点が同時には解決できなかった点である。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等によれば１、焼成インキ層をセラミック体に
転写するために接着剤層の材料として粘着剤を用いるこ
とにより、簡易に転写を行なうことができることが見い
出されており、このことを利用して従来技術の欠点がこ
とごとく解消、されることが判明した。

この発明は、 「　焼成により昇華する性質を有する離型性基体シート
に、焼成により被転写体のセラミック基材と一体化する
焼成インキ層、および焼成により昇華する性質を有する
粘着剤層を順次形成した転写シートをその粘着剤層を利
用してセラミック基材に貼着し、次いで離型性基体シー
トを剥離し、しかる後、セラミック基材を焼成すること
を特徴とする化粧セラミック体の製造方法」 を要舌とするものである。

〔作用〕

本発明においては、転写シートの転写を粘着剤層を利用
して行なうので、転写層をセラミック基材の表面に置き
、軽く押圧すれば、貼着でき、そののち、基体シートの
みを容易に剥がすことができる。

（実施例〕 本発明において使用する、焼成により昇華する性質を有
する離型性基体シートとは、５００〜６００℃で昇華す
る有機質シートであり、窒素成分を含むものは炭化させ
る原因となるので一般的には窒素成分を含有しないもの
が好ましく、例えば、セロファン、ポリプロピレンフィ
ルム、ポリエチレンフィルム、あるいはポリエステルフ
ィルム等が利用される。

また、例えばＰｖＣフィルム等のハロゲン原子を゛含む
ものは、ハロゲンイオンが還元剤として働く結果、炭化
を起こさせる原因となる可能性があるうえ、ハロゲン化
炭化水素が発生して炉内のヒーター等の゛金属部を腐食
する要因ともなるので好ましくない。

離型性基体シートは厚さが薄いもの程好ましい。

また、離型性基体シートは、離型性層を表面に設けであ
るシートであってもよい。

離型性基体シートに適用される焼成インキは昇華性ベヒ
クル、焼成顔料および溶剤を必ず含むものであり、それ
を用いて一最の印刷法もしくはコーティング法により焼
成インキ層を形成することができ、層の厚みは１０μ以
下程度である。

なお、前記焼成インキ中にガラス質が含有さ・れている
場合には、グラビア印刷法は避けた方がよく、またグラ
ビア印刷法やオフセット印刷法はインキ塗布量が少なす
ぎるという点でも好ましくない、更に、グラビア印刷法
を利用し、かつ表面にガラス質を具備する化粧セラミッ
ク体を得たい場合には、釉薬にガラス質を添加するのが
好ましい。

焼成インキに含有される昇華性ベヒクルは、例えば、ア
クリル酸エステル系樹脂、メタクリル酸系樹脂、これら
の共重合樹脂、ブチラール樹脂、セルロース系樹脂、ア
ルキッド樹脂、ポリエチレンオキサイド樹脂、フェノー
ル樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂
、メラミン−アルキッド樹脂、ビニル系樹脂、マレイン
酸樹脂等である。

また、焼成インキ中の溶剤としては、セラミック基材の
表面を浸蝕するようなことのないような溶剤、例えば、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等、あるいは
これらの混合液である、ガソリン、石油、ベンジン、ミ
ネラルスビリフト、石油ナフサ等の脂肪族炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、エチ
ルベンゼン等の芳香族炭化水素類、トリクロルエチレン
、パークロルエチレン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類、メチルアルコール、カチルアル
コール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、アミ
ルアルコール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコ
ール等のｍ個アルコール類、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソ
ホロン等のケトン類、エチルエーテル、イソプロピルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のニーチ
ル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート
、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート
、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート
、ジエチレングリコールモツプチルエーテルアセテート
等の酢酸エステル類、酪酸エステル類等のエステル類、
ニトロ炭化水素類、ニトリル類、アミン類、その他アセ
タール類、酸類、フラン類等の単独あるいは混合溶剤等
が使用できる。

また、焼成インキ中の焼成顔料としては、例えば、 Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ（７）Ｍ化物−・−曲一曲聞−・・−
・聞・・曲間・褐色Ｚｎ　、　Ｃｏ　、　Ａ　Ｉ（７）
　酸化物−曲＝−・・−曲・・・而−・−・・−曲−・
・曲青色Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒの酸化物−曲間
−１・・聞−・−緑色Ｔｉ、Ｂａ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、
Ｃｄ　の酸化物・−曲一山・曲黄色Ｃｄ、Ｓｅ、Ｓ　の
酸化物・−・−・−・・−・・・−・−−−−−−−−
・−・−曲間一赤色Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｏの酸
化物・−・曲回−曲間・曲黒色をはじめ、ＣｄＳ　、　
ＣａＯ等の焼成顔料が使用されるが、高温度焼成用とし
ては、青（Ｃｏ）、緑（Ｃｒ）、茶（Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ
、Ｃｏ、Ｓｂ）　％黄（Ｔｔ＋Ｓｂ）　、黒（Ｆｅ、Ｍ
ｎ）が使用される。

更に、ガラス質としては、例えばＰｂＯ７８％、Ｓｌｏ
ｗ　１０％、Ｂ１０５１２％からなる低融点ガラスや、
ＰｂＯ−Ｂ、Ｏ，系、ＰｂＯＢｔｕｓ　　Ｓｉ０ｇ系、
ｐｂＯ−ＺｎＯ−Ｂｔｕｓ系、Ｓｎｏｗ−Ｔｉｌｔ　　
Ｓｉｎｇ　　ＰｂＯ−ＣａＯ系等のガラスから粒径２〜
３０μ程度のものが使用される。

焼成インキ層上に形成される粘着剤層は焼成により昇華
する性質を有する粘着性物質あるいは再湿により粘着性
をｉびる再湿性糊を主成分として構成され、粘着性物質
は、通常、アクリル系樹脂あるいはアクリル系を主体と
する樹脂で構成される。また、粘着剤層には、焼成時の
収縮による塗膜割れを防止する意味でガラスフリットを
添加してあってもよい、なお、粘着剤層が、アクリル系
樹脂のみで構成される場合には、昇華速度が速すぎるた
めに化粧用接着シートにおける焼成インキ層が突き破ら
れて柄抜けとなる恐れがあるので、アクリル系樹脂と相
溶性があって昇華速度の遅い別の樹脂を混合して使用す
ることが好ましい。

粘着剤層の厚さは厚すぎると焼成時に縮みが発生するの
で、数μ程度とするのが好ましい。

以上のほか、転写シートを構成する離型性基体シート、
焼成インキ用ベヒクル、接着剤層等は、いずれも窒素成
分を含むことのないようにすることは勿論のこと、エポ
キシ系やシリコーンのような極めて優れた耐熱性を有す
るものをも含むことのないように留意すべきである。

また、釉薬を使うときは、釉薬塗装時にはじかれる原因
ともなるので、シリコーンを含有することのないように
すべきである。

転写対象であるセラミック基材は、例えば、琺瑯成形品
、無機質板、軽量コンクリート板、ガラス板、陶器、磁
器等の製品、更にはそれらの表面に焼成塗膜を有する前
記製品等である。

なお、セラミック基材に適用される転写シートは、スリ
ッターや打抜きで予め所定の形にした上で使用すること
もできる。

・焼成インキ層が転写されたセラミック基材を焼成する
工程は、暢還元雰囲気で行なうと有機物質の炭化が発生
し易く黒化の要因となるため、酸化雰囲気で行なうのが
好ましい、焼成時間および温度については、長時間かつ
低温にするほど樹脂の縮みによる柄抜けが少なくなる。

また焼成温度は、転写シートの種類によって、即ち焼成
インキ層の材質や粘着剤層の材質によって異なるが、高
温（７００〜１０００℃）での焼成を一度に行なうより
も、２〜３分間の低温（４００〜６００℃）焼成で有機
物質を飛ばした後、引続いてもしくは一旦冷却後に、数
十秒間の高温焼成（６００〜１３００℃）を行なう２段
階法により、セラミック基材の表面と焼成インキ層との
一体化を行なうのが好ましい。

〔発明の効果〕

本発明の化粧セラミック体の製造方法は、焼成インキ層
と粘着剤層とを有する転写シートを使用してセラミック
基材に転写し、焼成するものであるから、化粧されるセ
ラミック基材のサイズに関係な（実施することができ、
転写機の必要がないので装置が簡略化される等の利点が
ある。

また、転写シートには、打抜き加工やスリット加工等の
適用が可能なため、意匠的に高度な化粧が施せるという
利点がある。

更に、本発明の方法は、転写シートを、乾燥前のセラミ
ック基材に対しても、乾燥状態のセラミック基材に対し
ても、いずれに対しても行なえるという利点をもをする
ものである。

〔具体的な実施例〕

以下、本発明の化粧セラミック体の製造方法の具体的な
構成を実施例にて説明する。

ポリエチレンテレフタレートフィルム（ダイヤホイル側
型、Ｓタイプ）の片面に、アクリル樹脂系ブライマー（
昭和インクａｌ製、ＳＬＭブライマー）を４５μｍの版
深のベタ版によりグラビア印刷してプライマ一層を設け
た。

ブライマ一層の上に、グラビア印刷法によりアクリル樹
脂／エチルセルロース樹脂−２／１の混合樹脂をベヒク
ルとする黄色焼成インキ（焼成後、黄色となるインキ、
顔料は下記）を用いて印刷し、焼成インキ層を形成した
。

−菫」己１見」−乙邊一 アクリル樹脂　　　・・・・・・−・・−・・−・・−
・　　６重量部エチルセルロース樹脂−・−・−・・・
・・・・−３重１部クロム酸化物　　　・−・−−−−
−−−−・・・−・−・−１０重量部ガラスフリット　
　・−・・−・−・−・−・・−・・　１０重量部溶　
　剤　　　　　・・・・・・・・−・−・−−一−−−
・　７０重量部更に、焼成インキ層を含む表面全面に、
既に剥離紙上にアクリル系樹脂を主成分とする厚さ３μ
の接着剤層をコーティング法により形成した粘着テープ
を当てて剥離紙付きの転写シートを得た後、更にこれを
幅５ｃｍにスリットしてストライブ杖のテープとした。

！立上上り盈且 厚さ２＋ｎ＋、　６０ｃｍ平方のセラミック板（フレバ
ーン社製、ブリセラ）の素焼き品を８０℃で２時間乾燥
し、そののち、釉薬（日本フリット■製）を塗布し、１
０００℃で１時間焼いたものをセラミック基材として準
備した。

亙エエ旦 上記セラミック基材の一部に、作成したストライプテー
プを該テープにおける剥離紙を１、除、去しながら粘着
性物質による粘着剤層を利用して貼着し、貼着後、ポエ
チレンテレフクレートフィルムを剥がした。

皇基工星 次いで、電気炉を利用した酸化雰囲気中で、４００℃に
て１０分間焼成した後、引き続いて８５０℃にて時間の
焼成を行なった。

かくして得られたセラミック板には黄色のストライプ模
様を有し、意匠効果の高いセラミック体となった。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）焼成により昇華する性質を有する離型性基体シー
   トに、焼成により被転写体のセラミック基材と一体化す
   る焼成インキ層、および焼成により昇華する性質を有す
   る粘着剤層を順次形成した転写シートをその粘着剤層を
   利用してセラミック基材に貼着し、次いで離型性基体シ
   ートを剥離し、しかる後、セラミック基材を焼成するこ
   とを特徴とする化粧セラミック体の製造方法。
2. （２）離型性基体シートが、セロファン、ポリプロピレ
   ンフィルム、ポリエチレンフィルム、ナイロンフィルム
   、あるいはポリエステルフィルムであることを特徴とす
   る特許請求の範囲第（１）項記載の化粧セラミック体の
   製造方法。
3. （３）転写シートにおける粘着剤層が厚さ５μ以下であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第（１）記載の化粧
   セラミック体の製造方法。
4. （４）転写シートにおける粘着剤層がガラスフリットを
   含有することを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記
   載の化粧セラミック体の製造方法。
5. （５）セラミック基材の焼成を酸化雰囲気中で行なうこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の化粧セ
   ラミック体の製造方法。
6. （６）セラミック基材の焼成を、有機物質の昇華温度で
   行なう第１段焼成と、焼成インキ層の溶着温度で行なう
   第２段焼成とにより行なうことを特徴とする特許請求の
   範囲第（１）項記載の化粧セラミック体の製造方法。
7. （７）転写シートとして、離型性基体シートと焼成イン
   キ層との間に、焼成により透明となる釉薬層を有するも
   のを使用することを特徴とする特許請求の範囲第（１）
   項記載の化粧セラミック体の製造方法。
8. （８）第１段焼成後のセラミック基材の表面に、焼成に
   より透明となる釉薬層を形成し、次いで第２段焼成を行
   なうことを特徴とする特許請求の範囲第（７）項記載の
   化粧セラミック体の製造方法。