JPS6326352A - 蒸発源供給方法 - Google Patents
蒸発源供給方法Info
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- JPS6326352A JPS6326352A JP16812986A JP16812986A JPS6326352A JP S6326352 A JPS6326352 A JP S6326352A JP 16812986 A JP16812986 A JP 16812986A JP 16812986 A JP16812986 A JP 16812986A JP S6326352 A JPS6326352 A JP S6326352A
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- Japan
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- wire
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Links
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、イオンブレーティング、真空蒸着により、金
属ストリップなどの被処理物をドライプレーティングす
るに際し、蒸発物質を均一に蒸着させるための蒸発源供
給方法に関するものである。
属ストリップなどの被処理物をドライプレーティングす
るに際し、蒸発物質を均一に蒸着させるための蒸発源供
給方法に関するものである。
〈従来の技術とその問題点）
真空蒸着、イオンブレーティングにより、金属ストリッ
プなどの非処理物に蒸発物質を均一に蒸着するためには
、蒸発物質を常に同じ条件で供給しな（プればないない
。この蒸発源物質としては、塊状の蒸発源物質とワイヤ
状の蒸発源物質とがあり、蒸発源物質は塊状或いはワイ
ヤ状として供給される。しかし、蒸発源物質を塊状の状
態で供給すると、溶融しない蒸発源物質の細片が、溶融
した蒸発源物質が入っている容器内に落下してスプラッ
シュが発生し、金属ストリップなどの被処理物に蒸着物
質を均一に蒸着できなくなる。このスプラッシュを防止
するために、蒸発源物質をワイヤで供給しようとする場
合も次のような問題が生じる。
プなどの非処理物に蒸発物質を均一に蒸着するためには
、蒸発物質を常に同じ条件で供給しな（プればないない
。この蒸発源物質としては、塊状の蒸発源物質とワイヤ
状の蒸発源物質とがあり、蒸発源物質は塊状或いはワイ
ヤ状として供給される。しかし、蒸発源物質を塊状の状
態で供給すると、溶融しない蒸発源物質の細片が、溶融
した蒸発源物質が入っている容器内に落下してスプラッ
シュが発生し、金属ストリップなどの被処理物に蒸着物
質を均一に蒸着できなくなる。このスプラッシュを防止
するために、蒸発源物質をワイヤで供給しようとする場
合も次のような問題が生じる。
一例として、ホローカソード型電子ビームを用いてイオ
ンブレーティングするに際して、ワイヤ状の蒸発源物質
の溶融と蒸発を一台のホローカソードガンで行う場合、
ボローカソードガンから照射される電子ビームの径が比
較的小さいために、蒸発源物質のワイヤの径が電子ビー
ムの径によって制限される。即ち、第１図に示すように
蒸発源物質のワイヤ１の径が、ホローカソードガン２か
ら照射される電子ビーム３の径より大きいので、蒸発源
物質のワイヤ１の側部は溶融されずに残っている。この
溶融されずに残っているワイψ１の残部は切れて、るつ
ぼ４内の溶融した蒸発源物質中に落下してスプラッシュ
が生じる。このため、金属ストリップなどの被処理物５
の表面に形成される蒸着物質の膜が不均一となる原因と
なるので、蒸着源物質のワイヤ１は細線であることが好
ましいが、蒸発源物質のワイヤを細線化することは、非
常にコスト高となる。
ンブレーティングするに際して、ワイヤ状の蒸発源物質
の溶融と蒸発を一台のホローカソードガンで行う場合、
ボローカソードガンから照射される電子ビームの径が比
較的小さいために、蒸発源物質のワイヤの径が電子ビー
ムの径によって制限される。即ち、第１図に示すように
蒸発源物質のワイヤ１の径が、ホローカソードガン２か
ら照射される電子ビーム３の径より大きいので、蒸発源
物質のワイヤ１の側部は溶融されずに残っている。この
溶融されずに残っているワイψ１の残部は切れて、るつ
ぼ４内の溶融した蒸発源物質中に落下してスプラッシュ
が生じる。このため、金属ストリップなどの被処理物５
の表面に形成される蒸着物質の膜が不均一となる原因と
なるので、蒸着源物質のワイヤ１は細線であることが好
ましいが、蒸発源物質のワイヤを細線化することは、非
常にコスト高となる。
本発明の目的は、金属ストリップなどの被処理物にドラ
イプレーティング、即ち真空蒸着またはイオンブレーテ
ィングをする際に、任意の形状の蒸発源物質をホローカ
ソードガンにより溶融、蒸発させることにより、金属ス
トリップなどの表面に蒸発物質の膜を均一に蒸着させる
ことにある。
イプレーティング、即ち真空蒸着またはイオンブレーテ
ィングをする際に、任意の形状の蒸発源物質をホローカ
ソードガンにより溶融、蒸発させることにより、金属ス
トリップなどの表面に蒸発物質の膜を均一に蒸着させる
ことにある。
（問題点を解決するための手段）
本発明では、ホローカソードガンにより蒸発源物質を溶
融、蒸発させてドライプレーティングするに当り、前記
蒸発源物質を回転させつつ送ることを特徴とする蒸発源
供給方法、とすることで前述した問題点を解決した。
融、蒸発させてドライプレーティングするに当り、前記
蒸発源物質を回転させつつ送ることを特徴とする蒸発源
供給方法、とすることで前述した問題点を解決した。
以下に本発明の一実施例を、イオンブレーティングを例
にとり第２図に基き説明する。
にとり第２図に基き説明する。
蒸発源物質のワイヤ１を巻いであるワイヤストッカ６は
、電動機７に連結された軸８により軸支されて、軸８を
中心に回転可能となっている。更に、ワイヤストッカ６
は支持金具９を中心に回転自在に支持されており、蒸発
源物質のワイヤ１は、ワイヤストッカ６の前方に設けた
一対のフィードロール１０．１０のフィード機構および
ガイドバイブ１１により、るつぼ４上に導かれる。この
ガイドバイブは、蒸発源物質のワイヤ１をるつぼ４の設
定位置に案内する役目を果している。
、電動機７に連結された軸８により軸支されて、軸８を
中心に回転可能となっている。更に、ワイヤストッカ６
は支持金具９を中心に回転自在に支持されており、蒸発
源物質のワイヤ１は、ワイヤストッカ６の前方に設けた
一対のフィードロール１０．１０のフィード機構および
ガイドバイブ１１により、るつぼ４上に導かれる。この
ガイドバイブは、蒸発源物質のワイヤ１をるつぼ４の設
定位置に案内する役目を果している。
上述したようにワイヤストッカ６は、電動機７により軸
８を中心に回転しており、蒸発源物質のワイヤ１はワイ
ヤ１を送る方向を軸として回転しつつ、フィールドロー
ル１０．１０によりガイドバイブ１１を通過し、るつぼ
４上に回転した状態で供給される。この回転している蒸
発源物質のワイヤ１上にはホローカソードガン２が設け
られており、ホローカソードガン２からの電子ビーム３
の一部が蒸発源物質のワイヤ１の先端を覆うように照射
される。この照射される電子ビームにより、回転＝３− している蒸発源物質のワイヤ１の周囲から蒸発源物質の
ワイヤを完全に溶融することが可能となる。
８を中心に回転しており、蒸発源物質のワイヤ１はワイ
ヤ１を送る方向を軸として回転しつつ、フィールドロー
ル１０．１０によりガイドバイブ１１を通過し、るつぼ
４上に回転した状態で供給される。この回転している蒸
発源物質のワイヤ１上にはホローカソードガン２が設け
られており、ホローカソードガン２からの電子ビーム３
の一部が蒸発源物質のワイヤ１の先端を覆うように照射
される。この照射される電子ビームにより、回転＝３− している蒸発源物質のワイヤ１の周囲から蒸発源物質の
ワイヤを完全に溶融することが可能となる。
また、電子ビームの一部は、るつぼ４中の蒸発源物質に
照射され、蒸発物質は一部イオン化して、被処理物の金
属ストリップ５上に均一な蒸発物質の膜を形成する。
照射され、蒸発物質は一部イオン化して、被処理物の金
属ストリップ５上に均一な蒸発物質の膜を形成する。
更に、本発明の他の実施例について、第３図に基ぎ説明
する。
する。
不定の形状の蒸発源物質１は、蒸発源物質の挿入方向の
軸を中心に回転するチャック１２により固定され、るつ
ぼ４上に回転した状態で供給される。
軸を中心に回転するチャック１２により固定され、るつ
ぼ４上に回転した状態で供給される。
ホローカソードガン２から照射される電子ご−ム３の一
部により、蒸発源物質１は常に完全に溶融させた。また
、電子ビーム３の一部は、るつぼ４中の蒸発源物質に照
射され、被処理物の金属ストリップ５上に均一な蒸発物
質の膜が形成される。
部により、蒸発源物質１は常に完全に溶融させた。また
、電子ビーム３の一部は、るつぼ４中の蒸発源物質に照
射され、被処理物の金属ストリップ５上に均一な蒸発物
質の膜が形成される。
以上の例は、金属ストリップなどの被処理物をイオンブ
レーティングする場合であるが、真空蒸着により金属ス
トリップなどの被処理物に蒸発物質の膜を形成する際に
、蒸発源物質を供給する場合にも適用できる。
レーティングする場合であるが、真空蒸着により金属ス
トリップなどの被処理物に蒸発物質の膜を形成する際に
、蒸発源物質を供給する場合にも適用できる。
（発明の効果）
以上説明したように本発明法によれば、任意の形状の蒸
発源物質でも蒸発源物質を完全に溶融することが可能と
なり、未溶融の蒸発源物質が切れて、溶融状態の蒸発源
物質が入っている容器中に落下して生じるスプラッシュ
を防止できるため、金属ストリップなどの表面に蒸発物
質の均一な膜が形成できる。また、−台のホローカソー
ドガンを設ければ、蒸発源物質の溶融と蒸発が可能とな
り、イオンブレーティングまたは真空蒸着で能率良く金
属ストリップなどの被処理物に蒸発物質の膜を形成でき
る。
発源物質でも蒸発源物質を完全に溶融することが可能と
なり、未溶融の蒸発源物質が切れて、溶融状態の蒸発源
物質が入っている容器中に落下して生じるスプラッシュ
を防止できるため、金属ストリップなどの表面に蒸発物
質の均一な膜が形成できる。また、−台のホローカソー
ドガンを設ければ、蒸発源物質の溶融と蒸発が可能とな
り、イオンブレーティングまたは真空蒸着で能率良く金
属ストリップなどの被処理物に蒸発物質の膜を形成でき
る。
第１図は、従来法による蒸発源物質のワイヤを溶融する
状態を示す図である。 第２図は、本発明法による蒸発源物質のワイヤの供給と
その溶融状態を示す図である。 第３図は、本発明法による不定形状の蒸発源物質の供給
とその溶融状態を示す他の例である。 １・・・蒸発源物質のワイヤ ２・・・ホローカソードガン
状態を示す図である。 第２図は、本発明法による蒸発源物質のワイヤの供給と
その溶融状態を示す図である。 第３図は、本発明法による不定形状の蒸発源物質の供給
とその溶融状態を示す他の例である。 １・・・蒸発源物質のワイヤ ２・・・ホローカソードガン
Claims (1)
- １、ホローカソードガンにより蒸発源物質を溶融、蒸発
させてドライプレーティングするに当り、前記蒸発源物
質を回転させつつ送ることを特徴とする蒸発源供給方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16812986A JPS6326352A (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 蒸発源供給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16812986A JPS6326352A (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 蒸発源供給方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6326352A true JPS6326352A (ja) | 1988-02-03 |
Family
ID=15862376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16812986A Pending JPS6326352A (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 蒸発源供給方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6326352A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0320462A (ja) * | 1989-06-19 | 1991-01-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸着材料供給方法及びその装置 |
-
1986
- 1986-07-18 JP JP16812986A patent/JPS6326352A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0320462A (ja) * | 1989-06-19 | 1991-01-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸着材料供給方法及びその装置 |
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