JPS63264453A - アゼチジノン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式ｆｌ）を有する新規なアゼチジノン誘導
体およびその合成法に関するものである。

式中、Ｒ１は水素原子、水酸基の保護基を示し、保護基
としてはβ−ラクタム系抗生物質誘導体の反応に使用さ
れる水酸基の保護基なら特に限定はないが、好適にはホ
ルミル、アセチル、クロルアセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、ベンゾイルのようなアシル基；
トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、トリフ
ェニルシリルなどのシリル基：ベンジル、ｐ−ニトロベ
ンジルのようなアラルキル基：ベンジルオキシカルビニ
ル、ｐ−ブロムベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル、０−ニトロベンジルオキシ
カルボニル、アリルオキシカルビニル、２−クロルアリ
ルオキシカルボニル、２−メチルアリルオキシカルぜニ
ル、２１２１２−トリブロムエトキシカルボニル、２１
２．２−　）　！Ｊジクロルトキシカルボニル、ｔ−ブ
トキシカルがニル、２−（トリメチルシリル）エトキシ
カルボニル、などのアルコキシカルボニル基、テトラヒ
ドロピラニル、メトキシメチル、１−エトキシエチル、
２−（トリメチルシリル）エトキシメチルなどのエーテ
ル基である。Ｒ２は水素原子、メチル、エチル、プロピ
ル、イソゾロピルなどの炭素数１乃至３個の低級アルキ
ル基またはフェニル基を示し、Ｒ３は水素原子、炭素数
１乃至３個のメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
などのアルキル基またはフェニル基を示し、Ｘは酸素原
子または硫黄原子を示し、Ｙはイミノ基、アルキルイミ
ノ基（アルキル基としてメチル、エチル、を−ブチルな
どの炭素数１乃至４個のアルキル基、ベンツノー、ｐ−
ニトロベンジルなどのアラルキル基）、酸素原子または
硫黄原子を示し、Ｒ４はれた、直鎖もしくは分枝鎖置換
アルキル基としては（水酸基の保護基としては特に限定
はなく一般的なアルコール性水酸基の保護基を用いるこ
とができる。好ましくはメチル、エチル、プロピルなど
のアルキル基、ベンジル、ｐ−ニトロベンジルなどのア
ラルキル基、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ベン
ゾイルなトノアシル基、ヘンシルオキシカルボニル、ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルなどのアルコキシカ
ルボニル基、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシ
リルなどのトリアルキルシリル基である。）２−ヒドロ
キシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロ
キシ−１−メチルエチル基、もしくは３−ヒドロキシ−
１−メチルプロピル基などのヒドロキシアルキル基を示
す。アミノ基の保護された直鎖または分枝鎖置換アルキ
ル基としては（アミノ基の保護基としては特に限定はな
く一般的なアミンの保護基を用いることができる。好ま
しくはホルミル、アセチル、クロルアセチル、フロピオ
ニル、ヘンソイルナトのアシル基、ｔ−ブトキシカルボ
ニル、　　２，２．２−トリクロルエトキシカルボニル
、２−　（）　ＩＪメチルシリル）エトキシカルボニル
、ベンジルオキシカルビニル、ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、０−ニトロベンジルオキシカルボニルな
どのアルコキシカルボニル基である）２−アミノエチル
、２−アミノ−１−メチルエチル、２−アミノ−１−エ
チルエチル、３−アミノプロピル、３−アミノ−１−メ
チルプロピル、２−アミノ−２−メチルエチルもしくば
２−Ｎ−メチルアミノエチル、２−Ｎ−メチルアミノ−
１−メチルエチルなどのアミノアルキル基を示す。水酸
基がアミノアルキル基でイ昂飾された直鎖または分枝鎖
置換アルキル基、そのアミン基が保護されていてもよい
、アミン基の保護基は特に限定はないが好ましいものと
しては前述したものがあげられる。水酸基がアミノアル
キル基で修飾された置換アルキル基として好まし〈は２
−（２−アミノエトキシ）エチル、２−（２−アミンエ
トキシ）−１−メチルエチル、２−（３−アミノプロポ
キシ）エチル、３−（２−アミンエトキシ）プロピル、
３−（２＝アミンエトキシ）−１−メチルプロピルなど
を示す。

アラルキル基としてはベンジル、ｐ−メトキシベンジル
、ｍ−ニトロベンジル、０−メチルベンジル、ｐ−ブロ
ムベンジルもしくはｐ−アミノベンジルなどを示し、ア
リール基としてはフェニル、１−ナフチル、２−ナフチ
ル、ｐ−二トロフェニル、ｍ−カル？キシフェニル、Ｑ
−ヒドロキシフェニル、ｐ−メトキシフェニルもＬ　（
ハｍ−エトキシカルボニルフェニルｅ示Ｌ、脂環式複素
環基としては環炭素銀に窒素原子、酸素原子、硫黄原子
、スルフィニル基、スルホニル基またはカルボニル基が
介在していてもよい置換若しくは非置換の４員環乃至８
員環を形成する環状脂肪族アミン残基を表わし、その環
炭素原子に結合する置換基はアルキル基、アルコキシア
ルキル基、７アノアルキル基、ハロゲノアルキル基、ア
ルコキシ基、水酸基、アミノ基、ハロゲン原子、アシル
オキシ基、アシルアミノ基、シアノ基、アット基、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基
、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキル
スルホニル基またはニトロ基からなる群から選択された
ものであり、その環窒素原子に結合する置換基はアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基
、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アシル基、フェナシル基、スルフォ基：アルコキシ
スルホニル基、アルキルスルホニル基、アルケニルスル
ホニル基、アルキニルスルホニル基、シクロアルキルス
ルホニル基、シクロアルキルアルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基：アラルキルスルホニル基、ヘテロ
アリールスルホニル基、ヘテロアラルキルスルホニル基
、級アルキル基を、Ｒ１）は水素原子又はイミノ基の保
護基を示す） または異なって水素原子または低級アルキル基を示し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子または低級アルキル基で置換さ
れていてもよいイミノ基を示す。）、アルコキシカルボ
ニル基またはアラルキルオキシカルｒニル基からなる群
から選択さ・　れだものであって、上記の窒素原子に結
合する置換基は更に低級アルキル基、低級アルコキシ基
、水酸基、アミノ基、ハロゲン原子、低級脂肪族アシル
オキシ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアン基、アジ
ド基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、
カルバモイル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルス
ルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基マ
同一または異なって水素原子または低級アルキル基金示
す。）からなる群から選択されたもので置換されていて
もよい。脂環式複素環基として好適には置換基を有して
もよいアゼチジニル、ヒロリシニル、ヒヘリジニル、モ
ルホリニル、テトラヒドロピリミジニル、チアゾリソニ
ル、オキサゾリジニル、ヘキサヒＰロピリミジニル、イ
ミダゾリジニルまたはオクタヒドロアゾシニルなどであ
ってその環炭素原子に結合する置換基は好適には例えば
メチル、エチル、プロピル、インプロピル、ブチル、イ
ソブチル、（８）−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イ
ンベンチルノヨうな直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アル
キル基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシルのようなシクロアルキル基、
例えばメトキシメチル、エトキシメチル、ｎ−プロポキ
シメチル、インプロポキシメチル、ｎ−ブトキシメチル
、メトキシエチル、３−メトキシプロピル、２−メトキ
シプロピル、４−エトキシブチルのような低級アルコキ
シアルキル基、例えばメトキシエチルブニル）チｋ、エ
トキシカルボニルメチル、ｔ−ブトキシカルビニルメチ
ル、ベンジルオキシカルがニルエチル、メトキシカルボ
ニルプロピルなどのアルコキシカルゲニルアルキル基、
例えばシアノメチル、シアノエチル、３−シアノプロピ
ル、２−シアノプロピル、４−シアノブチルのようなシ
アン低級アルキル基、−例えばトリフルオロメチル、２
−フルオロエチル、２，２．２−トリフルオロメチル、
２−クロロエチル、２−７”ロモエチル、３−フルオロ
プロピル、２−フルオロプロピル、４−クロロブチル、
３−フルオロブチルのようなハロゲノ低級アルキル基、
例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキ
シ、ブトキシ、イソブトキシ、富−ブトキシ、１−ブト
キシのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルコキシ
基、水酸基、アミノ基、例えば弗素、塩素、臭素、沃素
のようなハロゲン原子、例えばアセトキシ、プロピオニ
ルオキシ、ブチリルオキシ、インブチリルオキシのよう
な低級脂肪族アシルオキシ基、例えばアセチルアミノ、
プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、インブチリルア
ミノのような低級脂肪族アシルアミノ基、シアン基、ア
ソド基、カルボキシル基、例エバメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロポヤシカルボニル、イソプロ
ポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、インブトキシ
カルボニル、冠−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシ力
／ｌ／　、１？ニルノヨウナ低級アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、例えばメチルチオ、エチルチオ、
プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブ
チルチオのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキ
ルチオ基、例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィ
ニル、フロビルスルフィニル、イソプロピルスルフィニ
ル、ブチルスルフィニル、イソジチルスルフィニルのよ
うな直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキルスルフィニ
ル基、ｆｌはメチルスルホニル、エチルスルホニル、フ
ロビルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルス
ルホニル、インブチルスルホニルのような直鎖状若しく
は分枝鎖状の低級アルキルスルホニル基またはニトロ基
からなる群から選択されたものであり、その環窒素原子
に結合する置換基は好適には例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、式−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチルのような直錯
状若しくは分枝鎖状の低級アルキル基、例えばビニル、
アリル、１−プロペニル、イソプロペニル、２−ブテニ
ル、２−ペンテニルのような低級アルケニル基、例、ｌ
’エチニル、２−プロピニル、２−ブチニル、４−ペン
チニルのような低級アルキニル基、例えばシクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
シクロヘプチルのようなシクロ低級アルキル基、例えば
シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペ
ンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチル
メチル、２−シクロペンチルエチル、２−シクロヘキシ
ルエチル、３−シクロにメチルプロピル、２−シクロペ
ンチルプロピル、３−シクロヘキシルプロピル、２−シ
クロヘキシルゾロビル、４−シクロペンチルブチル、３
−シクロヘキシルブチルのような低級シクロアルキルア
ルキル基、例えばフェニル、ナフチルのようなアリール
基、例えばベンノル、フェネチル、３−フェニルプロピ
ルのヨウなアラルキル基、例えばホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、アクリロイル
、メタアクリロイル、クロトノイル、インクロトノイル
、プロピオロイル、メチルプロピオロイルのような低級
脂肪族アシル基、例えばシクロプロパンカルボニル、シ
クロブタンカルボニル、シクロペンタンカルボニル、シ
クロヘキサンカルビニルのような低級シクロアルカンカ
ルボニル基、例えばシクロプロピルアセチル、シクロブ
チルアセチル、シクロペンチルアセチル、シクロヘキシ
ルアセチル、３−シクロベニ／チルプロピオニル、３−
シクロヘキシルプロピオニル、４−シクロペンチルブチ
リル、４−シクロヘキシルブチリルのような低級シクロ
アルキルアルカノイル基、例えばベンゾイル、１−ナフ
トイル、２−ナフトイルのような芳香族アシル基、例工
ばフェニルアセチル、１−ナフチルアセチル、３−フェ
ニルプロピオニル、ヒドラトロボイル、シンナモイル、
フェニルプロピオロイルのような芳香族アシル基、例え
ばフロイル、テノイル、ニコチノイル、インニコチノイ
ル、４−チアゾールカルボニル、５−ピペリシンカルボ
ニル、２−ピペジンカルビニルノヨうな複素環アシル基
、例えば２−チェニルアセチル、３−（２−チェニル）
フロピオニル、４−チアゾリルアセチル、２−ピリジル
アセチル、４−ビリゾルアセチル、５−ピリミジルアセ
チルのような複素環脂肪族アシル基、例えば１−アノリ
ジンカルボニル、１−アゼチジンカルボニル、３−アゼ
チジンカルボニル、１−ピロリノンカルボニル、２−ピ
ロリジンカルボニル、３−ピロリジンカルボニル、１−
ピペリシンカルボニル、２−ピペリジンカルビニル、４
−ピペリシンカルボニル、４−モルホリンカルボニルの
ようなヘテロシクリルカルボニル基若しくは例えば１−
アジリノニルアセチル、１−アゼチノニルアセチル、３
−アゼチノニルアセチル、１−ピロリジニルアセチル、
２−ピロリジニルアセチル、３−ピロリジニルアセチル
　３−（２−ピＯＩＪジニル）プロピオニル、ピペリジ
ノアセチル、２−ピペリジニルアセチル、４−ピペリジ
ニルアセチル、モルホリノアセチルのようなヘテロシク
リル脂肪族アシル基等のアシル基、７エナシル基、スル
フオ基、例えばメトキシスルホニル、エトキシスルホニ
ル、フェニルスルホニル、インプロポキシスル不ニルの
ヨウナ低級アルコキシスルホニル基、例えばメチルスル
ホニル、エチルスルホニル、フロビルスルホニル、イソ
プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、インブチルス
ルホニルのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキ
ルスルホニル基、例エバアリルスルホニル、インプロペ
ニルスルホニル、２−ブテニルスルホニルのような低級
アルケニルスルホニル基、例え（ｄエチニルスルホニル
、２−プロビニルスルホニル、２−ブチ二ｋ　ス／Ｉ／
　ホニルノヨウナ低級アルキニルスルホニル基、例）Ｊ
ｄシクロプロピルスルホニル、シクロブチルスルホニル
、シクロペンチルスルホニル、シクロへキシルスルホニ
ルのヨウナ低級シクロアルキルスルホニルｔｓ、例Ｌｔ
ｄシクロプロピルメチルスルホニル、シクロペンチルエ
チルスルホニル、シクロにメチルメチルスルホニル、シ
クロヘキシルメチルスルホニル、２−シクロペンチルエ
チルスルホニル、２−シフヘキシルエチルスルホニル、
３−シクロペンチルプロピルスルホニル、２−シクロペ
ンチルプロピルスルホニルのような低級シクロアルキル
スルホニル、ｆ、ｆｉばフェニルスルホニル、１−１−
７チルスルホニル、２−ナフチルスルホニルのようなア
リールスルホニル基、例えばベンジルスルホニル、フェ
ネチルスルホニル、３−フェニルプロピルスルホニル、
２−フェニルプロピルスルホニルのようなアラルキルス
ルホニル基、例工ｉ’ｆ　２−　ｆエチルスルホニル、
４−チアソリルスルホニル、２−ピリノルスルホニ、ル
、４−ピリジルスルホニルのヨウナヘテロアリールスル
ホニル基、例ｔば２−チェニルメチルスルホニル、３−
（２−−ＩＦ−エニル）フロビルスルホニル、４−チア
ゾリルメチルスルホニル、２−ビ＋Ｊ　、、／ルメチル
スルホニル、４−ピリジルメチルスルホニルのようなヘ
テロアラルキルスルホニル基、ＨＩＯ 式−〇＝Ｎ−Ｒ１）基（式中、ＨＩＯは水素原子または
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピルのよう
な低級アルキル基を、Ｒ１）は水素原子または例えばア
リルオキシカルボニル、２−メチルアリルオキシカルボ
ニル、２−クロルアリルオキシカルボニル、２，２．２
−　トリクロルエトキシカルゼニル、２，２．２−　ト
ＩＪブロムエトキシカルボニルのようなアルコキシカル
ボニル基マタは例工！ｄ　ｐ−ニトロペンノルオキシカ
ルボニル、０−ニトロペンノルオキシカルボニルのヨウ
１アラルキルオキシカルボニル基を示す。）たは異なっ
て水素原子または例えばメチル、工チル、プロピル、イ
ソプロピルのような低級アルキル基を示し、Ｚは酸素原
子、硫黄原子または例えばメチル、エチル、プロピル、
インプロピルのような低級アルキル基で置換されていて
もよいイミノ基を示す。）、例えばメトキシカルボニル
、エトキシカルビニル、ブトキシカルボ二ｋ、２，２．
２−　トＩＪ　クロルエトキシカルボニル、２．．２．
２−　トＩＪブロムエトキシカルボニルのような低級ア
ルコキシカルボニル基または例えばペンノルオキシカル
ボニル、フェネチルオキシカルボニ、ル、ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル、０−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルのようなアラルキルオキシカルボニル基からな
る群から選択されたものであって、上記の窒素原子如結
合する置換基は好適には列えばメチル、エチル、プロピ
ル、インプロピルのような低級アルキル基、例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシのような
低級アルコキシ基、水酸基、アミン基、例えば弗素、塩
素、臭素のようなハロゲン原子、例えばアセトキシ、プ
ロピオニ、ルオキシ、ブチリルオキシ、インブチリルオ
キシのような低級脂肪族アシルオキシ基、例えばアセチ
ルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イン
ブチリルアミノのような低級脂肪族アシルアミノ基、シ
アノ基、アシド基、カルボキシル基、例えばメトキシカ
ルビニル、エトキシカルビニル、プロポキシカルボニル
、インプロポキシカルボニルのようなｒ氏級アルコキシ
カルボニル基、カルバモイル基、例えばメチルチオ、エ
チルチオ、フロヒルチオ、イソプロピルチオのような低
級アルキルチオ基、例エバメチルスルフィニル、エチル
スルフィニル、プロピルスルフィニル、インプロピルス
ルフィニルのヨウナ低級アルキルスルフィニル基、例エ
バメチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスル
ホニル、イソプロピルスルホニルのような低級アルキル
スルホニル基、ニトロ基は同一または異なって水素原子
または例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
のような低級アルキル基を示す。）からなる群から選釈
されたものでさらに置換されていてもよい。

脂環式複素環置換アルキル基として複素環は前述した脂
環式１素環であってその環炭素原子、窒素原子に結合す
る置換基は前述したものと同意義を示し、アルキル基は
メチル、１−ｉ換エチル、２−置換エチル、１−置換プ
ロピルなどの低級アルキル基である。

芳香族複素環基としては置換基を有してもよいピリジル
、ピリミジニル、トリアノニル、チェニル、フリル、チ
アゾリルまたはイミダゾリルなどであり、その置換基と
してはメチル、エチル、プロピルなどのアルキル基、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシなどのアルコキシ基、ア
ミン基、メチルアミン、エチルアミノ、プロピルアミノ
などのアルキルアミノ基、ツメチルアミン、ノエチルア
ミノなどのノアルキルアミノ基、水酸基、アセトキシ、
プロピオニルオキンなどの低級アルカノイルオキ７基、
ニトロ基、弗素、塩素、臭素などのハロゲン原子、たと
えハメトキシカルボニル、ｐ−ニトロベ／−）ルオキシ
力ルボニル、ｔ−ブトヤシカルボニルなどのアルコキシ
カルボニル基である。

Ｒ５は水素原子、アミド基の保護基としてカルボキシ基
が保鏝されたオキサロ基（カルボキシ基の保護基として
は特に限定はなくβ−ラクタム系攬生物質で用いられる
カルボキシ基の保護基を示す。好ましくはメチル、エチ
ル、ｔ−ブチルなどの低級アルキル基、ベンツヒドリル
基、ベンジル、ｐ−ニトロベンシル、０−ニトロベンジ
ルなどのアラルキル基、アリル、２−クロルアリル、２
−メチルアリルなどのアルケニル基、２，２．２−トリ
クロルエチルＮ　　２＋２＋２−　トリブロムエチルな
どのハロゲン化アルキル基、２−（トリメチルシリル）
エチル基などである。）、カルボキシ基の保護された（
カルボキシ基）保護基は前述したオキサロ基の場合のカ
ルボキン基の保護基を示す。）カルボキシメチル基、１
−カルボキシ−２−メチル−１−プロ被ニル基、■−カ
ルボキシ−２−メチル−２−プロペニル基など；更にア
ゼチジノン環のアミド基の保護基としては特に限定はな
く一般的なアミド基の保５基を示し、好ましくはトリメ
チルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリルなどのトリアル
キルシリル基、トリフェニルシリルなどのトリアリール
シリル基である。　　　・ 一般式（ｌｌの立体配位に関しては特に限定はないが好
適Ｃてはチェナマイシンの５．６．８位と同様な配位を
有するものに導ける立体配位を有するアゼチジノン誘導
体である。Ｒ４に不斉炭素のある場合その立体配位は特
して限定はない。

一般式（ｌｉｅ有するアゼチジノンのうち特（（好適に
はＲ１はｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、
１−エトキシエチル、クロルアセチル、トリメチルシリ
ル、ノセラニトロペンジルオキシカルポニル、アリルオ
キシカルボニル、２゜２．２−ＩＪクロルエトキシカル
ボニ、ル、ｔ−ブトキシカルボニル基であり、Ｒ２およ
びＲ３は水素原子であり、ＸおよびＹは酸素原子または
硫黄原子テ；ｌ＋’）、　Ｒ４はベンジル、フェニル、
２−（ｐ−二トロベンジルオキシ力ル？ニルオキン）エ
チル、２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−
メチルエチル、２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルビ
ニル）アミノエチル、２−アセトアミＰエチル、２−ア
セトアミド−１−メチルエチル、２−［：２−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルビニル）エトキシツー１−メチ
ルエチル、１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）ピロリジン−３−イル、１−アセチルピロリジン−３
−イル、１−［、Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）アセトイミドイル〕ピロリジン−３−イル、１
−　（Ｎ　−（ｐ　−ニトロベンジルオキシカルボニル
）ホルムイミドイル〕ピロリノン−３−イル、３．４，
５．６−テトラヒドロ−２−メチル−１，３−ピリミジ
ン−５−イル、３，４，５．６−テトラヒドロ−２−メ
チル−３−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルビニル）１
．３−ピリミジン−５−イル、１−［１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルビニル）ピロリジン−３−イル］エ
チル、１−（１−アセチルピロリジン−３−イル）エチ
ル、１−１：１−ＣＮ−（１）−ニトロベンジルオキシ
カルビニル）ホルムイミドイル〕ピロリジン−３−イル
〕エチル、１−（ｉ−（Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルビニル）アセトイミドイル〕ピロリジン−３−イ
ル〕エチル、１−（４−ＣＮ−（ｐ−二トロベンジルオ
キシカルボニル）ホルムイミドイル３モルホリン−２−
イル〕エチル、１−（４−（Ｎ−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルビニル）アセトイミドイル３モルホリン−２
−イル〕エチル、１−［：４−（ｐ−二トロペンジルオ
キシカルボニル）モルホリン−２−イル〕エチル、１−
（４−アセチルモルホリン−２−イル）エチル、ピリジ
ン−２−イル、ピリジン−３−イル、ピリジン−４−イ
ル、２−チェニル、３−チェニル、１，２．４−　トリ
アゾール−３−イル、チアゾール−２−イルなどであり
、Ｒ５は水素源子、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルメチル、ｐ−ニトロベンノルオキシオキサリル、２−
メチル−１−（ｐ−ニトロペンノルオキシカルボニル）
−１−７’ロペニル、２−メチル−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルビニル）−２−プロペニル、２−メチ
ル−１−（を−フトキシカルボニル）−１−プロペニル
、２−メチル−（０−ニトロベンジルオキシカルボニル
）−１−プロペニル、２−メチル−１−ノフェニルメチ
ルオキシカルボニル−１−プロペニル、２−メチル−１
−アリルオキシカルボニル−２−プロペニル、２−メチ
ル−１−（２，２゜２−　）　ＩＪ　クロルエチルオキ
シカルボニル）−２−フロベニル、２−メチル−１−）
　ＩＪメチルシリルオキシカルボニル−２−プロペニル
、ｔ−ブチルジメチルシリル基などである。

一般式（Ｉｌ　を有する化合物は一般式（Ｉｌｌ　’−
ｒ有する化合物に （式中、Ｒ１およびＲ５は前述したものと同意義を示し
、Ｒ６は脱流基であり、ホルミルオキシ、アセトキシ、
プロピオニルオキシなどの低級アシルオキシ基；ヘンジ
イルオキシ、ナフトイルオキシ、ｐ−メトキシベンゾイ
ルオキシなどのアリールカルボニルオキシ基；メチルス
ルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、ベンゼンス
ルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシなどの
スルホニルオキシ基ニアセチルチオ、プロピオニ、ルチ
オ、ベンゾイルチオ、０−メチルベンゾイルチオなどの
アシルチオ基：塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子
を示す。）一般式口を有する化合物全反応させること罠
より製造される。

ＲＲＲ５ｉＣＲＲＣ−ＹＲＱｌ［ｌ （式中、ｐ、２　、　Ｒ５、Ｘ　、　ｙ　、　Ｒ’ハ前
述Ｌり０　（Ｄト同意義を示す。Ｒ７、Ｈ８およびＲ９
は同一または異なるメチル、エチル、ｔ−ブチル、フェ
ニル基を示す。） 化合物（Ｉｌｌと（ＩＩＤの反応はトリフルオロメタン
スルホン酸トリアルヤルシリルエステルたとえばトリフ
ルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルエステル、ま
たは三弗化ホウ素エーテル錯体、ヨウ化亜鉛、四塩化チ
タン、塩化第二錫、塩化アルミニウムなどからえらばれ
た触媒の存在下に、非プロトン性の溶媒たとえばヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム
、１．２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、アセトニトリルまたはジエチルエーテル中で反
応を行う。反応温度は一２０℃〜８０℃であり、反応時
間は１時間〜７日間である。Ｒ５がトリメチルシリル基
の場合は反応終了後、水で処理することによりあるいは
アルコール中フッ化カリで処理することにより、容易ｉ
ＣＮ−シリル基を脱離せしめることができる。

また一般式（Ｉ）（でおいてＲ１が水竣基の保護基の場
合、常法に従って保護基を除去することによりＲ１が水
素原子のものを得ることができる。

α−シリル酢酸エステル印と４位へテロ置換アゼチジノ
ン化合物（ｎｌＴｈ）リフルオロメタンスルホン酸トリ
メチルシリルエステルの存在下に反応せしめ、アゼチジ
ノンの４位に酢酸エステル基を導入するこの新しい方法
は以下に示す特徴を有する。最近（Ａ、Ｇ、Ｍ、Ｂａｒ
ｒｅ’ｕｔ　ａｎｄ　？−Ｑ＋ｘａｙｌｅ　。

Ｃｈｅｍ、　Ｃｏｍｍ、　１９８１　、１０７６　）　
４−アセトキシアゼチジノン化合物にシリルエノールエ
ーテルあるいは０−シリルケテンアセタール全反応せし
め、アゼチジノンの４位に炭素−炭素粘合を生成せしめ
る新しい方法が開発された、この反応−で用いられるシ
リルエノールエーテルあるいは０−シリルケテンアセタ
ールはケトンあるいはエステルを強塩基で処理して脱プ
ロトン化し、ついでトリメチルクロル７ランでシリル化
して得られるものである。

この方法では出発物のケトンあるいはエステルがその分
子ウシで塩基に不安定な官能基を有する場合、目的とす
るシリルエノールエーテルあるいは０−シリルケテンア
セタールを合成することは通常、困難である。また一般
に７リルニノールエーテルあるいはＱ−ノリルケテンア
セタールは容易（（加水分解を受けてもとのケトン、エ
ステルに戻りやすく、取扱いに注意を要する。

本発明者らは、α−シリル酢酸から容易（（導かれるそ
のエステル、チオエステル、アミｒが上述の０−シリル
ケテンアセタールと全く同様にアゼチジノンの４位で炭
素−炭素結合を杉皮することを見い出した。本反応に用
いるα−シリル酢酸エステル、チオエステル、アミドは
α−シリル酢酸塩化物とアルコール、メルカプタン、ア
ミンとの反応によっであるいはα−シリル酢酸とアルコ
ール、メルカプタン、アミンとを適当な縮合剤の存在下
、反応せしめることＫよって得られる。反応条件が綬和
なので、種々の官能基を有するα−シリル酢酸誘導体を
得ることができ、化合物の安定性もよいので取扱いやす
くクロマトグラフィーによる精裏も可能である。したが
って、Ａ、Ｇ、Ｍ、　Ｂａｒｒｅｔｔ等の方法では合成
困難なアゼチジノン（Ｉｌも適当なα−シリル酢酸誘導
体を用いることＫより一段階で合成することが可能であ
る。

本発明によって得られる一般式ＣＩＩ　ｅ有する新規ア
ゼチジノン誘導体を第１表に例示する。ただしこれによ
って本発明を限定するものではない。

第１表 表中の略号（・てついて以下に示す。

ＰＮＺ　：　ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基Ｏ
ＮＺ　：　ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル基ＰＮ
Ｂ　：　ｐ−ニトロベンジル基 ＯＮＢ二〇−ニトロベンジル基 ＴＭＳ　：　トリメチルシリル基 本発明によって得られる一般式（ＩＩ　Ｔｈ有するアゼ
チジノン誘導体は下記に示す方法によりカルバペネム誘
導体に導くことができる。

すなわち一般式（ＩｌのＲ５が水素原子の場合は傅の窒
素原子にアルコキシオキサリル基＋Ｓ人して化合物（■
とし、またＲ５が１−アルコキシカルボニル−２−メチ
ル−２−プロペニル基の場合化合物ＣＶＤを塩基処理に
より１−アルコキシカルボニル−２−メチル−１−プロ
ペニル体〜１としだ後オゾン酸化して化合物（■に導く （■）（■） 〔式中のＲ４、Ｒ２、Ｒ５、Ｐ、”　、　ＸおよびＹは
前述したものと同一意義を示す。Ｒはカルボキシ基の保
護基を示す。〕 化合物（■を亜リン酸トリエチルと反応させることによ
り、カルバペネム誘導体（■）に導くことが可能である
・ 必要に応じて化合物（Ｖｉｉｊ）の水酸基の保護基Ｒ１
，Ｈ４にアミン基の保護基を含む場合にはその保護基お
よびカルボキシ基の保護基Ｒを常法（（従って除去する
と、チェナマイシンで代表される強力な抗菌活性を示す
カルバペネム誘導体が得られる。

以上のことから明らかなように一般式ｆｉｌを有する化
合物は有用なカルバペネム誘導体合成の重要中間体であ
る。

以下に本発明の参考例および実施例を示す。

実施例１ （３Ｓ、４Ｒ）−３−Ｃ（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキンエチル）−４−［Ｃ（３１−１−
（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）ピロリノン−
３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ１−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−１−
（）リメチルシリル）−２−アゼチジノン１８０＋Ｗ（
０，５０ｍｍｏｌｅ）、（Ｓｌ−１−（１）−＝トロベ
ンジルオキシカルボニル）　−３−（トＩＪ　メチルン
リルアセチルチオ）ピロリジン４１４　ｍＶ（１，００
ｍｍｏｌｅ　）を塩化メチレン３　ｍｉに溶かし、つい
でトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルエス
テル１５　ｍＶ　（０，０７ｍｍｏｌｅ　）　Ｙｒ加え
、室温で１５時間放置する。反応終了後、反応液を重曹
水の中（（攪拌しながらあける。有機層をわけ、水洗、
乾燥した後、溶媒を留去する。得られた残留物を分取用
薄層クロマトグラフィー〔展開溶媒：クロロホルムー酢
酸エチル（６：１）〕で分分離側し、得られる固体１８
５■（収率６７％）をヘキプンー酢酸エチルから再結晶
して融点１０４−１０６℃を有する純品を得た。

ＩＲスペクトルシＣＨＣｔ３ＣｒｆＬ−１：ａＸ ３４１０．１７７５．１６８５ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ／！、３）δｐｐｍ　：０．
０８（６１（、ｓ）、０．８８（９Ｈ，ｓ）、１．１９
（３Ｂ。

ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．７〜２．５　（２Ｈ、ｍ　）、
２．７〜３．０（２Ｈ、ｍ）、３．５３（２Ｈ，ｔ、Ｊ
＝７Ｈｚ）、３２〜４．４（６Ｈ，ｍ）、５．１９（２
Ｈ，ｓ）、６．１５（ＬＨ。

ｂｒ　　）、７．４２（２Ｈ，ｄ）、８．２０（２Ｈ，
ｄ）実施例２ （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（ｆＲｌ−ｔｅ
ｒｔ　−ブチルジメチルシリルオキシエチル）　−１−
（１−メトキシカルボニル−２−メチル−１−プロペニ
ル）−２−アゼチジノン１．０４　Ｆ　（２，６１ｍｍ
ｏｌｅ　）　、　　）リメチルシリル酢酸ペンノルエス
テル１．７４　ｆ　（７，８４ｍｍｎ１ｅ　）を塩化メ
チレン１２１ｅに溶かし、ついでトリフルオロメタンス
ルホン酸トリメチルシリルエステル５０ｑ（０，２３ｓ
ｍｏｌｅ　）を加え、室温で７日間放置する。反応液全
重曹水洗あけ有機層全わけ、水洗、乾燥後、溶媒を留去
する。得られた残留物をローバーカラム−Ｂ　（Ｅ、メ
ルク社製）を用いる液体クロマトグラフィーで分離精製
する。ヘキサン−酢酸エチル（４：１）混合溶媒で溶出
し、出発原料アゼチジノン１０９　ｖｔｙ　（８，６％
）を回収して、ついで目的物６９３　ｍ９　（収率５５
％）を油状物として得た。

工Ｆ、スペクトルｖ社足’５　ｃｎ−’　：　１７４０
　（ｂｒ、）ＮＭＲス滅クトり（ＣＤＣ４３）δｐｐｍ
　：０．０９（６Ｈ，ｓ）、０．８９（９Ｈ，Ｓ）、１
．２３（３Ｈ。

ｄ　、　Ｊ　＝６．５　Ｈｚ　）、１．８５（３Ｈ，ｓ
）、２．１０（３ＪＳ）、２．６７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７
Ｈｚ）、２．８５（ＩＨ。

ａｄ　、　Ｊ　＝６．５　、２．５　Ｈｚ　）、３．６
４（３Ｈ，ｓ）、３９〜４．５（２Ｈ，ｎ）、４．９０
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ）、）、　０６　（Ｉ　Ｈ＋
　ｄ　＋　Ｊ　＝１２　Ｈｚ　）、７．２８（５Ｉ４．
ｓ）実施例３ 参考例１で述べる（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３
−（ｆＲｌ−１−ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル）−１−トリメチルシリル−２−アゼチジノン
１．１０９　（３，０６ｍｍｏｌｅ　）と、トリメチル
シリルチオ酢酸　Ｓ−フェニルエステル９６１ｍｇ　（
４，２９ｍｍｏｌｅ　）の塩化メチレン２０ｍｒ；溶液
を一２０℃に冷却し、窒素気流下トリフルオロメタンス
ルホン酸トリメチルシリルエステル０．０７ｍｔ　（０
，３２ｍｍｏｌｅ　）　ｆ加える。−１０°〜５℃で４
５時間攪拌した後、水を加えて反応を、終結させる。塩
化メチレン層を希重曹水、飽和食塩水で洗浄する。溶剤
留去後の残渣をエメノール２．５ｍｌに溶かし、フ７（
ヒカルウム５８　ｍｌ　（１，００ｍｍｏｌｅ）を加え
室温で１５時間攪拌する。反応液を酢酸エチルで希釈し
、水、飽和食塩水で洗い、溶剤を留去する。残渣をロー
パーカラム（Ｅ、メルク社製）を用いて精製する。ヘキ
サン−酢酸エチル（２：１）混合溶剤で溶出される部分
を集め目的物９６１ｍｇ（吸上８３％）を結晶として得
た。

ヘキサンから再結晶すると融点９４〜９５℃の針状晶が
得られた。

元素分析値　Ｃ４，Ｈ２９ＮＯ５Ｓ８１として計算値：
　Ｃ，６０，１２：Ｈ，７，７０：Ｎ、３．６９：Ｓ、
８．４５実測値：　Ｃ，６０，１）：Ｈ，７，７２；Ｎ
　、３．６７：Ｓ　、８．５４よりスヘクトルνｎｕＪ
０１ｃＩ７Ｌ−１：ａＸ ３１６０．３０００，１７６７．１７２６．１７０３Ｎ
ＭＲスペクトル（ＣＤＣ７３）δｐｐｍ　：０．０８（
６Ｈ，ｓ）、０．８８（９Ｈ，ｓ）、１．２１　（３Ｈ
。

ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．７〜３．２　（３Ｈ、ｍ　）、
４．０　（Ｉ　Ｈ。

ｍ）、４．１８（ＩＨ，ｑｕｉｎｔｅｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）
、６．１０（ＬＨ，ｂｒ、ｓ）、７．４（５Ｉ（、ｓ）
実施例４ （３３，４Ｒ）−４−〔（２−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチル
）−３−ＣｔＰＪ−１−（ｐ−二トロペンジルオキシ力
ルポニルオキシ）エチルクー２−アゼチノノン （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ１−１−
（ｐ−二トロベンジルオキシカルポニルオキシ）エチル
）−１−（）リメチルシリル）−２−アゼチジノン３０
　Ｗ　（０，０５１ｍｍｏｌｅ　）とＳ−（：２−（Ｎ
−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）−Ｎ−（ト
リメチルシリル）アミン〕エチル〕（トリメチルシリル
）エタンチオエート４７　ｍｌ　（０，１０６ｍｍｏｌ
ｅ　）を塩化メチレン０．５　ｍｌに溶かし、音素気流
下トリメチルシリルメタンスルホン酸トリメチルシリル
エステル　３■（０，０１４ｍｍｏｌｅ　）　ｆ加える
。室温下２４時間放置した後、反応液？：５チ重曹水に
冷却攪拌下あけ、１０分間攪拌する。

酢酸エチルで抽出し飽和食塩水で洗い乾燥後溶媒を留去
する。残留物をシリカゲルの分取用薄層クロマトグラフ
ィー〔展開溶媒：ベンゼン−酢酸エチル（１：２））で
精製して２９ｍｑ（収率６９幅〕の目的物を油状物とし
て得た。

ＩＲＸペクト／’　　Ｍ”ＨＣ’５ｃｒｒＬ−’　：　
３４６０，３４２０゜ａＸ １７６３．１７５０（ｓｈ、）、１７３０（ｓｈ、）、
１６８５ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δｐｐｍ　：
１．４０（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．６〜３．６　
（７Ｈ、ｍ）、３．９１（ＬＨ，ｍ）、５．１３（２Ｈ
，ｓ）、５．１９（２Ｅ。

Ｓ）、４．９〜５．５　（２Ｈ、ｍ　）、６．６７（Ｉ
Ｈ，ｂｒ、ｓ）、７．４５（２ａ、ａ）、７．４８（２
１（、ｄ）、８．１６（２Ｉ（。

ｄ）、８．１９（２１’ｌ、ｄ） 実施例５ −２−アゼチジノン （３Ｒ，４Ｆｌ）−４−アセトキシ−３−〔（刊−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルがニルオキシ）エチル
）−１−（トリメチルシリル）−２−アゼチジノン５３
　ｍｌ　（０，１２５ｍｍｏｌｅ　）と（Ｓｌ−１−（
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−３−（Ｊリメ
チルシリルアセチルチオ）ピロリジン１０３１）Ｗｉ　
（０，２５ｍｍｏｌｅ　）を塩化メチレン１　ｍｔに溶
かし、この溶液にトリフルオロメタンスルホン酸　トリ
メチルシリルエステル５■（０，０２３＝ｏｌｅ　）　
ｆ加え、窒素雰囲気下室温で２８時間靜装する。

反応後をクロロホルムで希釈し、希重曹水で洗浄する。

乾燥後溶媒を留去し得られる残留物をテトラヒドロフラ
ン−水（４：１）３ｍｒに溶かし、ピリジン−ｐ−トル
エンスルホン酸塩３ηを加えて室温で３０分間静置する
。酢酸エチルを加えて水洗し、乾燥後溶媒を′留去して
得られる残留物をシリカゲルの分取用薄層クロマトグラ
フイー〔展開溶媒：ベンゼンー酢酸エチル（２：１））
で精製して目的物６７り（収率８７係）を固体として得
た、ベンゼンから再結晶を行い、融点５４〜５６℃を有
する板状晶を得た。

元素分析値Ｃ２７Ｈ２８０１）Ｎ４Ｓとして計算値：　
Ｃ，５２，５９：Ｈ，４，５８：Ｎ、９．０９：Ｓ、５
．２０実測値：Ｃ，５２，８８；三、　４．５４　；Ｎ
　、　８．９３　：　Ｓ　、　５．４７エＲスペクトル
　νｃ１（ｃｔズ　−１・ｍａｘ　”α　。

３４１０．１７６０．１６８８ 比旋光度〔α〕も５’　＋　５．３°（Ｃ＝０．５５　
、　ｃＨｃｔ３）ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ４３）δｐ
ｐｍ　：１．４４（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．６〜
２．７　（２Ｈ、ｍ）、２．７〜４．５　（１０Ｈ、ｍ
　）、５．１９（２Ｈ，ｓ）、５．２２（２Ｈ，ｓ）、
６．３５（ＩＨ，ｂｒ、）、７．４７（２Ｉ（。

ｄ）、７．５１（２Ｈ，’ｄ）、８．２０（４Ｉ（、ｄ
）実施例６ ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリ
ジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕ボニルオキシ
）エチルツー２−アゼチジノン（３Ｒ，４Ｒ）−４−ア
セトキシ−３−Ｃ（Ｒ１−１−（ｐ−ニトロベンノルオ
キシカルボニルオキシ）エチル）−１−（）リメチルシ
リル）−２−アゼチジノン５０　Ｔｎｒｙ　（０，１）
８ｍｍｏｌｅ　）と（Ｓｌ　−１−（Ｎ−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル）−３−
（）リメチルシリルアセチルチオ）ピロリジン１０３■
（０，２４ｍｍｏｌｅ　）を塩化メチレン０．８−に溶
かし、これにトリフルオルメタンスルホン酸　トリメチ
ルシリルエステル６３■（０，２８ｍｍｏｌｅ　）を加
え窒素雰囲気上室温で１４時間静置する。反応液を氷冷
し、５チ重曹水５　ｍｌ　ｆ加え１０分間攪拌する。酢
酸エチルで抽出し、水洗、乾燥後溶媒を留去して得られ
る残留物をシリカゲルの分取用薄層クロマトグラフィー
〔展開溶媒：ベンゼンー酢酸エチル（１：２））で精製
して目的物４５■（収率５８％）を油状物として得た。

ＩＲスペクトルシＣＨＣｔ５ニー１：　３３８０，１６
８０ｍａ＝（ ＮＭＲスペクト＃　（ＣＤＣ４５）δｐｐｍ　：１．４
１（３！（、ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１゜７〜２．５（
２Ｈ。

ｍ）、２．２７（３Ｈ，ｓ）、２．８４　（２Ｈ、ｄ　
、　Ｊ＝７Ｈｚ　）、３．０１（ＬＨｌｄｄ、Ｊ＝８＋
２．５Ｈｚ）、３．３〜４．２（５Ｈ，ｍ）、５．１（
ＬＨ，ｍ）、５．１７（２Ｈ，ｓ）、５．２０（２Ｈ，
ｓ）、６．３２　（Ｌ　Ｈ、ｂｒ、　　）、７．５１（
４Ｈ，ｄ）、８．１７（２Ｈ，ｄ）、８．２０（２Ｈ，
ｄ）実施例７ チルシリルオキシ）エチル：］　−１−（ｆＲｌ−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−，７’
チル−’ｌ−プロペニル’］−４−Ｃ（フェニルチオ）
カル？ニルメチル〕−２−アゼチジノン０ＯＰＮＢ （３Ｒ，４Ｒ３）−４−アセトキシ−３−〔（岡−１−
（ｔａｒ”ｕ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕
−１−Ｃ（ＰＪ−１−（ｐ−二トロペンジルオキシカル
ボニル）−２−メチル−２−プロペニル）−２−アゼチ
ジノン３５８　”！　（０，６９ｍｍｏｌｅ）、Ｓ−フ
ェニル（）　ＩＪメチルシリル）エタンチオニー）　２
６０　ｍ’！　（１，１６ｍｍｏｌｅ）、トリフルオロ
メタンスルホン酸　トリメチルシリルエステル２５”ｑ
（０，１）３ｍｍｏｌｅ　）　ｆ塩化メチレン１２駐に
溶かし、窒素雰囲気下４１時間静置する。反応液を水冷
攪拌下希１重曹水にあけてクロロホルムで抽出する。乾
燥後溶媒を留去し残留物をローパーカラムＢ（Ｅ、メル
ク社製）を用いる液体クロマトグラフィーで分離精製す
る。ヘキサン−ベンゼン−酢酸エチル（６：６：１）混
合溶媒で溶出して出発原料アゼチジノン６７■（回収１
９％：シス：トランス＝１＝２）、つづいて目的物３０
１■（収率７１係）を油状物として得た。

工Ｒスペクトル　シＣＨＣｔ３ｃ７ＩＬ−１：ａＸ １７５０（ｓｈ、）、１７４０．１６９５比旋光度〔α
）Ｄ−５０°Ｃ（＝ｌ、Ｑ　４　、　ＣＨＣＡ３）凪イ
Ｂスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：０．０３（３
Ｈ，ｓ）、０．０６（３Ｈ，ｓ）、０．８５　（９Ｉ（
。

Ｓ）、１．１８（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．８５（
３Ｈ。

ｂｒ、ｓ　）、２．８６（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝１５．７Ｈ
ｚ）、３．００（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．２．５Ｈｚ）、
３．２０（１）（。

ｄｄ、Ｊ＝１５．５．５Ｈｚ）、３．９〜４．６　（２
Ｈ、ｍ　）、４．７８（ＬＨ，ｓ）、４．８７　（ＬＨ
、ｂｒ、ｓ　）、５．０２（ＩＨ，ｂｒ、）、５．２０
（２Ｈ，ｓ）、７．３６（５Ｈ。

Ｓ）、７．４５（２Ｈ，ｄ）、８．１６（２Ｈ，ｄ）実
施例Ｓ ロペンジルオキシカルポニルメチル）−４−アゼチジノ
ン （３Ｒ，４Ｒ８）−４−アセトキシ−３−Ｃ（ＰＪ−１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕
−１−（ｐ−二トロベンジルオキシ力ルポニルメチル）
−２−アゼチジノン７５１ｎ９　（０，１５６ｍｍｏＬ
ｅ）、Ｓ−フェニル（トリメチルシリル）エタンチ万エ
ート５２　ｍｇ　（０，２７ｍｍｏｌｅ　）、トリフル
オロメタンスルホン酸トリメチルシリルエステル６ｍ９
　（０，０２７ｍｍｏｌｅ　）　ｆ塩化メチレンに溶か
し、窒素雰囲気下４３時間靜静置る。反応液を水冷下宿
重曹水にあけ、クロロホルムで抽出する。

溶媒を留去して得られる油状物をシリカゲルの分取用薄
層クロマトグラフィー〔展開溶媒：クロロホルムー酢酸
エチル（１０：１））により分離して目的物ｓ７ｍｑ（
収率６４％）’）油状物として得た。出発原料アゼチジ
ノン１８ｍグ（２４％）を回収した。

ＩＲスペクトル　Ｕ”Ｈ”’５ｃｒｒｔ−’　：１７５
０，１６９０ａｘ ＮＭＲ（ＣＤＣｔ、）　　δ　ｐｐｍ　　：０．０７（
６Ｈ，ｓ）、０．８７（９Ｈ，ｓ）、１．２３（３）！
。

ｄ　、　Ｊ　＝５．５　Ｈｚ　）、２．９０（ＩＨ，ｄ
ｄ、Ｊ＝５．５゜２．５Ｈｚ）、３．１２　（２Ｈ、ｄ
　、　Ｊ＝６．５Ｈｚ　）、４．０８（２Ｈ，ｓ）、３
．９〜４．４　（２Ｈ、ｍ　）、５．１５（２Ｈ。

Ｓ）、７．３４（５Ｈ，ｓ）、７．３６（２Ｈ，ｄ）、
８．０７（２Ｈ、ｄ） 実施例９ ジノン （３Ｒ，，４Ｒ）−４，−アセトキシ−３−（（Ｒ−１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕
−１−（）リメチルシリル）−２−アゼチジノン５００
　ｍｇ　（１，３９ｍｍｏｌｅ　）とＳ−フェニル　２
−（トリメチルシリル）プロパンチオエート６６２　ｍ
ｇ　（２，７８ｍｍｏｌｅ　）を塩化メチレン５　ｍｅ
に溶かし、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシ
リルエステル４０　ｍｇ　（０，１８ｍｍｏｌｅ　）　
ｆ加えて、窒素雰囲気下室源で一晩静置する。反応液を
水洗後溶媒を留去し、残留物をテトラヒドロ７ランー水
（４：１）２ｓｍｇに溶かし、ピリジン−ｐ−）ルエン
スルホンｌ［ｉ、２５■ヲ加工室温で３０分間攪拌する
。酢酸エステルを加えて水洗し、乾燥後溶媒を留去して
得られる残留物をシリカゲルカラムグラフィーで分離精
製〔シクロヘキサン−酢酸エチル（４：１）で溶出〕し
て、目的物の化合物Ａ　３１０　ｍｇ（収率５７チ）と
化合物Ｂ　１３５　ｍｙ　（収率２　ｓ％）ｔそれぞれ
油状物として得た。

化合物Ａ： 工ＲスペクトルｖＣＨＣｔ５　ｃ！ｒＬ−’　：　３４
３０　、１７６５　。

ａｘ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：０．０８
（６！（、’ｓ）、０．８７（９Ｈ，ｓ）、１．２０　
（３Ｈ。

ｄ、Ｊ　＝６）１ｚ）、１．３２（３Ｈ＜、ｄ、Ｊ＝＝
６Ｈｚ）、２．７〜３．２　　（２Ｈ、ｍ　　）　、　
　３．９４（ＬＨ，ｄｄ、、丁　＝６　。

２　Ｈｚ　）、４．２０（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ＝６．５Ｈｚ
）、５９０（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）、７．４１（５Ｉ（、Ｓ
）化合物Ｂ： ＩＲスペクトｋ　　νＣＨＣ４５Ｃｍ−１：ａＸ ３４３０．１７６５．１６９５ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：０．０８
（６Ｈ，ｓ）、０．８７（９Ｈ，ｓ）、１．２２（３Ｈ
。

ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．３２（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）
、２．５〜３．１　（２Ｈ、ｍ　）、３．７６（ＩＨ，
ｄｄ、Ｊ＝８゜２　Ｈｚ　）、４．１８　（Ｌ　Ｈ、ｑ
ｕｉｐｔ、　Ｊ　＝６　Ｈｚ　）、６．０５（Ｉ　Ｈ、
ｂｒ、ｓ　）、７．４１（５Ｈ，ｓ）実施例１０ （３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ、−ブ
チルヅメ４Ｓ）−２−カルバモイル−１−（ｐ−ニトロ
ペンツルオキシカルビニル）ピロリジン−３−イルチオ
〕カルボニル〕エチル）−２−７ゼチシノン （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−〔（刊−１＝（
ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−１
−（トリメチルシリル）−２−アゼチジン７５５０　”
？　（１，５３ｍｍｏｌｅ　）と、（２Ｓ　ｌ　４ｓ　
）　−２−（Ｎ、Ｎ　−ヒス（）　ＩＪメチルシリル）
カルバモイル）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）−４−（２−’（）リメチルシリル）プロピオ
ニルチオ〕ピロリジン１．８３９　（３，０６ｍｍｏｌ
ｅ　）を塩化メチレン１０ｍ１に溶かし、ついでトリフ
ルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルエステル５０
■（０，２３ｍｍｏｌｅ　）を加え、室温下１５時間静
置する。反応終了後反応液を雷薯水の中に攪拌しながら
あける。有機層をわけ、水洗、乾燥した後溶媒を留去す
る。得られた洩留物全シリカゲルを用いるカラムクロマ
トグラフイーニ付シ、ベンゼン−酢酸エチル（１：２）
混合溶媒で溶出し、目的物７０８１ｒＮｉ（収率５７係
）を油状物として得だ。このものはアゼチジノンの４位
ｆ１）鎖のメチル基の立体配位（ＩＣもとづく２種の異
性体Ａ、Ｂの混合物である。異性体Ａをクロマトにより
分離した。

異性体Ａのスペクトルデータ 工Ｒス被りトルνＣＩ（Ｃｔ３Ｃｒｎ−１：　　３４８
０．３４１０＋ａＸ ３３３０．１７５７．１６９０（ｂｒ、）、１６６８ト
コ匹スペクトル（ｄ　ｙ　−ＤＭＦ　）δｐｐｍ　：０
．０８（６Ｈ，ｓ）、０．８５（９Ｈ，ｓ）、１．１６
　（３Ｈ。

ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．２３（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈ
ｚ）、２．０−４．６（ＩＯＨ，ｍ）、５．２０（２Ｈ
，ｓ）、６１７（ＩＨ，ｂｒ、）、６．６７（２Ｈ、ｂ
ｒ、　）、７．４７　（２Ｊｄ）、８．１５（２Ｉ（、
ｄ） 参考例１ ｔｅｒｔ−ブチルヅメチルシリルオキシエチル〕−１−
トリメチルシリル−２−アゼチノノン窒素気流下氷冷し
た（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキン−３−［：（ＰＪ　
−１−ｔｅｒｔ−ブチルヅメチルシリルオキシエチル〕
−２−アゼチジノン５０７（０，１７４ｍｏｌｅ　）と
トリエチルアミ７２４．６　ｆ　（０，２４４ｚｃｌｅ
　）のテトラヒｒロフラン５００ｍＡ！溶液に、トリメ
チルクロルシラン２６．５７（０，２４４ｍｏｌｅ）を
加える。反応温度を室温に戻し２時間攪拌する。析出し
た沈澱物上セライトを用いた濾過により除去し、さらに
エーテルで２回洗浄する。

ＰＲと洗液を合せ溶剤を留去し、残渣にエーテルを加え
、不溶物を戸去する。Ｐ液の溶剤を留去し、目的物６２
．：ｌ（収率１００係）を半固体状として得た。

Ｉ３スペクトル　、ｎｕ、）ｏｔ、−１：　１７７０，
１７４５ａＸ Ｎき、：Ｐ１スペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：０
．０６（６Ｈ，ｓ）、０．２６（９Ｈ，ｓ）、０．８５
　（９Ｈ。

Ｓ）、１．１９（３）（、ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．０３
（３Ｈ。

Ｓ）、３．０７（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝３．ＩＨｚ）、４．
１３’（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ＝３．６Ｈｚ）、６．０４（Ｌ
Ｈ，ｄ。

Ｊ＝ＩＨｚ） 参考例２ ピロリジン ５５係水素化ナトリウム１８２　ｍｔ　（４，１６ｍｍ
ｏｌｅ）亡ベキサンで洗ったあと、エーテル５ｍ１Ｋ懸
濁させ、水冷攪拌下、トリメチルシリル酢酸５００■（
３，７９ｍｍｏｌｅ　）を加える。水素ガスの発生がお
さまったら得られた乳濁液に同温度で攪拌下、塩化オキ
サリル４８１■（３，７９ｍｍｏｌｅ　）を滴下する。

１５分後、（Ｓｌ　−３−メルカプト−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン５００■（１
，７７ｍｍｏｌｅ　）とエチルジイソプロピルアミン２
２９　Ｗ　（１，７７ｍｍｏｌｅ　）　′ｆ：塩化メチ
レン５　ｍｔに溶かした溶液をゆっくり滴下する。

３０分間同温度で攪拌した後、重曹水にあけ、有機層を
わけ、水洗、乾燥した後、溶媒を留去する。得られる残
留物をローバーカラム−Ｂｉ用いる液体クロマトグラフ
ィー〔クロロホルム−酢酸エチル（１０：１））で分潴
精製し、目的物２８２η（収率３８％）ｋ油状物として
得た。

ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：０．１５
（９Ｈ，ｓ）、２．３０（２Ｈ，ｓ）、１．７〜２．５
（２Ｈ，ｍ）、３゜５４（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）
、３．１〜４．２（３Ｈ，ｍ）、５．２０（２Ｈ，ｓ）
、７．５０（２）Ｅ。

ｄ）、８．１７（２，、Ｈ，ｄ） 参考例３ チル ５５係水素化ナトリウム２３７　ｍｔ　（５，４１ｍｔ
ｔｏｌｅ）をヘキサンで洗浄し、エーテル６．５廐を加
える。

この懸濁液に、氷冷し、攪拌しながらトリメチルシリル
酢酸６５０　Ｗ　（４，９３ｍｍｏｌｅ　）　ｆ加える
。

水素ガスの発生がおさまったら得られた乳濁液に同温度
で攪拌下、塩化オキサリル６２６　ｍｔ（４，９３ｍｍ
ｏｌｅ　）を滴下する。１５分後得られた乳濁液に水冷
攪拌下、チオフェノール２５３７ｎｑ（２，３０ｍｍｏ
ｌｅ　）とジイソプロピルエチルアミン２９８■（２，
３０ｍｍｏｌｅ　）の塩化メチレン６．５机溶液をゆっ
くりと滴下する。３０分間同温度で攪拌した後、反応液
を希重曹水にあけ、分離した有機層を水洗、乾燥した後
、溶剤を留去する。

得られる残渣をローバーカラム−Ｂｔ用いる液体クロマ
トグラフィー〔ベンゼン−ヘキサン（１：１））で分離
精製し目的物２０６■（収率４０チ）″ｆ：油状物質と
して得た。

ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：０．０６
（９）１．ｓ）、２．３４（２Ｈ，ｓ）、７．３０（５
Ｈ，ｓ） 参考列４ ゼチジノン （３Ｓ、４Ｒ）−３−Ｃ（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）　−４−（（ｔｓＩ−１
−（Ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）ピロリノン
−３−イルチオ〕カル？ニルメチル〕−２−アゼチジノ
ン５７．７　ｑ（０，１０５ｍｍｏｌｅ　）とトリエチ
ルアミン３３■（０，３３ｍｍｏｌｅ　）の塩化メチレ
ン３　ｍｌ溶液を氷冷し、窒素気流下、ｐ−二）ロベン
ノルオキシオキサリル　クロリド７３■（０，３０ｍｍ
ｏｌｅ　）を加えて、１時間攪拌する。反応液を０．１
　Ｍ　ＩＪン酸凌衝液（ｐＨ７，２）にあけ、有機層を
飽和食塩水で洗う。溶剤留去後の残渣をシリカゲル１．
３２を用いるカラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼ
ン−酢酸エチル混合溶剤（１２：１〜４：１）で溶出さ
れる部分を集め目的物６７．８　ｍｔ（収率８３％）を
油状物質として得た。

ＩＲスペクトル　シＣＨＣｌ３０−１：ａＸ １８００．１７５４．１６９５．１６８２１−ＩＭＲス
ペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：０．０３（３Ｈ，
ｓ）、０．１３（３Ｈ，ｓ）、０．８５（９Ｈ。

Ｓ）、１．２３（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．５〜２
．５（２Ｈ，ｍ）、３．０〜５．０　（１０Ｈ、ｍ　）
、５．２３　（２ＪＳ）、５．４３（２Ｈ，ｓ）、７．
５０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、７．５６　（２Ｈ、ｄ
　、　Ｊ＝８Ｈｚ　）、８．２２（４Ｈ。

ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） 参考列５ （５Ｒ，６３）−６−（（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−プチル
ジメチルシリルオキシエチル）−２−［：（Ｓ＋−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−
３−イルチオ〕カルバペン−２−エム−３−カルボン酸
　ｐ−ニトロベンノルエステル（３３，４Ｒ）−３−（
（Ｅｌ−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエ
チル）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル）
−４−［：（ｓｌ−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルビニル）ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−２−アゼチジノン１９０ｍグ（０，２５ｍｍｏｌ
ｅ　）、亜リン酸トリエチル２ｓｏｍｙ（１，ｓｍｍｏ
ｌａ　）、及びハイｒロキノンｌ　Ｏｍ９　（０，０９
ｍｍｏｌｅ　）のトルエン２０ｍ１溶液を９５℃で１５
時間加熱する。薄層クロマトグラフィー上で原料が消失
し、（３６，４Ｒ）−３−Ｃ（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）−１−ＣＩ−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルビニル）トリエトキシホスホ
ラニリデンメチル）　−４−（（（ｓ＋−ｔ−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルビニル）ピロリノン−３−イル
チオ〕カルボニルメチル〕−２−アゼチジノンと目的と
するカルバペネム化合物が認められる。

溶剤と過剰の亜リン酸トリエチルを減圧下留去し、残っ
た油状物質に再びトルエン２０ｍ１ｆ加え、９５℃で５
７時間加熱し、ホスホラン化合物の環化反応を終結させ
る。溶剤留去後の浅渣をローバーカラムを用いて精製す
る。ベンゼン−酢酸エチル（２：１）混合溶剤で溶出さ
れる部分を集め、目的物１５１．５■（収率８３係）を
油状物質として得だ。

ＩＲスペクトル　シｃＨＣｔ３ｃＩｒＬ−’　：　１７
７０　、１６９５ａｘ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔρδｐｐｍ　：０．０７（
６Ｈ，ｓ）、０．８７（９Ｈ，ｓ）、１．２４　（３）
１゜ｄ、Ｊ＝６Ｈ２）、Ｌ、Ｓ〜２．８　（２Ｈ、ｍ　
）、２．８〜４．５（ＩＯＨ，ｍ）、５．１４（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝１４Ｆｉｚ）、５．１８（２Ｈ，ｓ）、５．４
１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、７．４６（２Ｈ，ｄ、
Ｊ＝９Ｈｚ）、７．６１（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝９Ｈｚ）、８．１７（４Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）参考
列６ チオ）カルボニルメチルクー２−アゼチジノン（３Ｓ、
４Ｒ）−３−Ｃ（Ｐｉ−１−ｔａｒｔ−ブチルジメチル
シリルオキシエチル）−４−Ｃ（フェニルチオ）カルボ
ニルメチルクー２−アゼチゾノン７４７■（１，９７ｍ
ｍｏｌｅ　）とトリエチルアミン３９８■（３，９４ｍ
ｍｏｌｅ　）の塩化メチレン２０ｒｎど溶液を氷冷シ、
窒素気流下ｐ−ニトロベ／ジルオキシオキサリルクロリ
ｌ’　９６０　ｍｇ　（３，９４ｍｍｏｌｅ）を加え、
２時間攪拌する。反応液に０．１　Ｍ　ＩＪン酸緩衝液
（ｐＨ７，２）を加え反応を終結させ、有機層を水洗す
る。乾燥後、溶剤を留去し、残渣をシリカゲル１５グを
用いるカラムクロマトグラフィーに付す。ヘキサン−酢
酸エチル（６：１〜３：１）で溶出される部分を集め、
１．０３２９（収率８９係）の目的物？油状物質として
得た。

ＩＲスペクトル　νＣＨＣｔ５　ｃｍ−’　：ａｘ １８０５．１７５７，１６９９，１６０９，１５２２゜
ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ７，３）δｐｐｍ　ニー０．
０２（３Ｈ，ｓ）、０．０４（３Ｈ，ｓ）、０．０８（
９Ｈ，ｓ）、１．］、４（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、３
．１）（ＬＨ，ａｄ、Ｊ＝１５．８Ｈｚ）、３．３５（
ＬＨ，ｔ。

Ｊ＝３Ｈｚ）、３．４３（１）１．ｄｄ、Ｊ＝１５．４
Ｈｚ）、４．２９（ｑｄ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、４．６４
（ＩＨｌｄｄｄ。

Ｊ＝８．４．３Ｈｚ）、５．３７（２Ｈ，ｓ）、７．５
２（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ＝８Ｈｚ　）、８．１６　（２Ｈ
、ｄ　、　Ｊ　＝８Ｈｚ）参考例フ ルシリルオキシエチル）−２−（フェニルチオ）カルバ
ペン−２−エム−３−カルボン酸　ｐ−ニトロベンジル
エステル （３３，４Ｒ）−３−Ｃ（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ　　−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−１−（ｐ−二トロベンジ
ルオキシオキサリル）−４−［：（フェニルチオ）カル
ホニルメチル〕−２−アゼチジノン１）４　ｍ９（０，
１９４ａｎｏｌｅ　）と亜すン酸トリエチル２５８ｍグ
（１，５５ｍｍｏｌｅ　）をトルエン１０ｍ１に溶かし
、触媒量のハイドロキノンを加えて窒素気流下１００℃
で１８時間加熱する。溶媒を減圧上留去して得られる。

残留物をローバーカラム（Ｅ、メルク社製）を用いるク
ロマトグラフィー〔展開溶媒：ヘキサン−アセトン（３
，５：１）に付し、目的物９５■（収率８８係）を固体
として得た。アセトン−ヘキサン混合溶媒から再結晶を
行い、融点１４４〜１４５．５℃の無色針状晶を得た。

元素分析値　Ｃ２８Ｈ３４Ｎ２０６ＳＳ１として計算値
：　Ｃ，６０，６２：Ｈ，６，１８：Ｎ、５．０５：Ｓ
、５．７８実測値：　Ｃ，６０，５０：Ｈ，６，ｌｌＮ
、４．７７：Ｓ、５．９１）Ｒスペクトル　シｎｕＪ０
１ｃＩｒＬ−１：ａｘ １７７７　．１６９７．１５２４ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：０．０６
（６Ｈ，ｓ）、０．８３（９Ｈ，ｓ）、１．１　Ｄ　（
３Ｈ１ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．６３（２Ｈ，ｄ　、Ｊ＝
１０Ｈｚ　〕・、３．０５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．２Ｈ
ｚ）、４．０４（ＬＨ。

ｄｄ　、　Ｊ　＝　１０　、２　Ｈｚ　）、４．ｉ’＋
（ＩＨ，ｄｑ＋Ｊ＝４＋６　Ｈｚ　）、５．２２（ＩＨ
，ｄ、、１ｉ＝１４Ｈ２）、５．５０（１ｇ、ｃｉ、Ｊ
＝１４Ｈｚ）、７．２〜７．７　（５Ｈ、ｒｒｒ　）、
７．６４（２Ｈ，ｄｌＪ＝９Ｈｚ）、８．１９（２Ｈ，
ｄ。

Ｊ＝９Ｈｚ） 参考例８ ンチオエート （ＣＩ（ρ３ＳＩＣＨ２ＣＯ８ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＰＮＺ
２−（ｐ−二トロベンジルオキシカルゴニルアミノ）エ
タンチオール５１２■（２，００ｍｍｏｌｅ　）、トリ
メチルシリル酢酸２６４■（２，００ｍｍｏｌｅ　）、
ジシクロへキシルカルボジイミＦ４５５ｍグ（２，２０
ｍｍｏｌｅ　）　、４−ジメチルアミノピリジン１０η
をベンゼン１０ｓ＋１３に溶かし、窒素気流下室温で５
．５時間攪拌する。水１００ｍ９を加えて１０分間攪拌
し、過剰のジシクロへキシルカルボジイミドを分解する
。不溶物をヂ過して除き、ろ液をシリカゲル３ｆのカラ
ムに通す。ベンゼン−酢酸エチル（１：１）混合溶媒で
流し、集めた溶液を減圧上留去する。残留物をロー・９
−カラムＢを用いるクロマトグラフィーで精製する、ヘ
キサン−酢酸エチル（２：１）混合溶媒で溶出して目的
物４５５ｒｎ９（収率６１％）を結晶として得た。ヘキ
サン−ベンゼン混合溶媒より再結晶して融点４９〜５０
℃を有する純品を得た。

元素分析値　Ｃ１５Ｈ２゜Ｎ２０５ＳＳ１として計算値
：　Ｃ，４８，６３；Ｈ，５，９８：Ｎ、７．５６；Ｓ
、８．６５実測値：　Ｃ，４８，５３：Ｅ、６．２８：
Ｎ、７．４４：Ｓ、８．６７ＩＥ（スペクトル　ν型番
”　ａｒｔ−’　：３３４０．１７１９．１６６Ｏ ＮＭＲスペクトル（ｃＤｃｚ３）δｐｐｍ　：０．１５
（９Ｈ，ｓ）、２．３２（２Ｈ，ｓ）、２．６〜３．６
（４Ｈ，ｍ）、５．１８（２Ｈ，ｓ）、〜５．２　（Ｉ
　Ｈ、ｂｒ、）、７．４８（２ＥＩ、ｄ）、８．２ｏ（
２ａ、ａ）参考例９ 一ト ５−（２−（ｐ−二トロベンジルオキシカルゴニルアミ
ノ）エチル〕（トリメチルシリル）エタンチオエート４
１）ｎ９（０，１）１ｍｍｏｌｅ）、ビス（トリメチル
シリル）トリフルオルアセトアミド８６■（０，３３ｍ
ｍｏｌｅ　）、４−ジメチルアミノピリクン１■をテト
ラヒドロ７ラン１．３　ｒｎｉに溶かし、窒素気流下室
温で３０時間放置する。反応終了後、室温域圧下溶媒を
留去し残留物をベンゼン−酢酸エチル（１０：１）に溶
かしシリカゲル３００■のカラムをすばやく通す。溶媒
を減圧上留去して目的物４７■（収率９６％）ｉ油状物
として得た。

ＩＲスペクトル　シ１）ｑｃｍ−’　：　１７０２　、
１６７８ａＸ ＮＭＰ、スペクトル（ＣＤＣ７３）δｐｐｍ　：０．１
３（９Ｈ，ｓ）、０．２８　（９Ｈ、ｓ　）、２．３０
　（２Ｈ。

Ｓ）、２．７〜３．５　（４Ｈ、ｍ　）、５．２０（２
Ｈ，ｓ）、７．４８（２Ｈ，ｄ）、８．１９（２Ｈ，ａ
）参考例１０ ゼチジノン （３ｓ、４Ｒ）−４−Ｃ［：２−（ｐ−二トロベンジル
オキシカルポニルアミノ）エチルチオ］カルボニルメチ
ル、ｌ−３−（（Ｆｉｌ−１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルオキシ）エチルツー２−アゼチジノ／３
５８■（Ｑ、４４９　ｍｍｏｌｅ　）を塩化メチレン８
　ｍｌに溶かし、０℃で攪拌しながらトリエチルアミン
１８４■（１，８２ｍｍｏｌｅ　）ついでｐ−二トロベ
ンジルオキシオキサリルクロリド４４３ｍグ（１，８２
ｍｍｏｌｅ　）を加える。同温度で１時間攪拌した後、
反応液を０．１　Ｍ　リン酸緩衝液（ｐＨ７，２）２Ｃ
１ｇＫあけ、有機層を分離し、水層を塩化メチレンでさ
らに抽出する。有機層をあわせ、食塩水で洗浄したのち
乾燥し溶媒を留去する。残留物をシリカゲル５２を用い
るカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エ
チル（１：１）混合溶媒で溶出して目的物３５１■（収
率７３％）？：油状物として得た。ヘキサン−酢酸エチ
ル（１：３）混合溶媒でさらに溶出して出発原料７５■
（２１％）を回収した。

ＩＲスペクトル　ｖ”Ｃｔ５ｃ！ｒＬ−’　：　　１８
０８　、１７４９　。

ａｘ １７１８（ｂｒ、）、１７００（ｓｈ、）、１６８２（
ｓｈ、）ＮＭＲスペクトル（ｃＤｃ１３）δｐｐｍ　：
１．４０（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．７〜３．
７　（７Ｈ。

ｍ）、４．５（ＩＨ，ｍ）、５．１３（２Ｈ，ｓ）、５
．１９（２Ｈ，ｓ）、５．３５（２Ｈ，ｓ）、４．９〜
５．４　（２Ｈ。

ｍ）、７．４３（２Ｈ，ｄ）、７．４６（２ａ、ａ）、
７．５０（２Ｂ、ｄ）、８．１５（２Ｈ，ｄ）、８．１
７（４Ｈ，ａ）参考例１） （３８，４Ｒ）−４−［（２−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルがニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチル
）−３−（（Ｒ１−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシ）エチル）　−１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシオキサリル）−２−アゼチジノン２３０　ｍ９
（０，２９ｍｍｏｌｅ　）と亜リン酸トリエチル２８７
ｍｓ＋　（１，７３ｍｍｏｌｅ）　ｆ　トルエン２３ｍ
１中で窒素雰囲気下９０℃で１時間加熱する。減圧下同
温度で溶媒および揮発性物質を留去して得られる残留物
にハイＰロキノン８ＴＩＰｙとトルエン１０ｍ１を加え
、窒素雰囲気下１００℃で４４時間加熱する。反応終了
後、減圧下で溶媒全留去し得られる残留物をローバーカ
ラムを用いて精製する。ベンゼン−酢酸エチル混合溶媒
で溶出して結晶性の目的物９０ｍｑ、（収率４０％）ｔ
−４た。酢酸エチル−ベンゼン−ヘキサン混合溶媒で再
結晶を行い、融点１４８〜１５０℃のプリズム晶を得た
。

元素分析値　Ｃ３４Ｈ５１０１６Ｎ５Ｓとして計算値：
　Ｃ，５３，３３：Ｈ，４，０８：Ｎ、９．１５：Ｓ、
４．１９実測値：　Ｃ，５３，１９：Ｂ、４．０７：Ｎ
、９．１３：Ｓ、４．４３ＩＲスペクトル　νＣ””５
ｃｆｒＬ−１：　　３４５０　、１７８０　。

ａｘ １７４０（ｓｈ、）、１７１８．１７００（ｓｈ、）比
旋光度〔α几５＋６６°（ｃ＝ｏ、ｓ　１．　ｃＨｃｔ
３）ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：１．
４７（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．７〜３．７　（７
Ｈ、ｍ）、４．２ｏ（ＩＨ，ｍ）、〜５．１（ＩＨ，ｍ
）、５．１６　（２Ｈ。

Ｓ）、５．２２（２Ｈ，ｓ）、５．１８　（Ｌ　Ｈ、ｄ
　、　Ｊ＝１４Ｈｚ＼５．４７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈ
ｚ）、７．４５（２Ｈ，ｄ）、７．４９（２ａ、ａ）、
７．６０（２Ｈ，ｄ）、８．２０　（６Ｉ（。

ｄ） 参考例１２ （３ｓ、４ａ）−４−Ｃ（（ｓ＋−１−１：Ｎ−（ｐ−
二トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−３−
（（Ｒ１−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ）エチル）−Ｌ−（（ｐ−ニトロベンジルオキシ
）オキサリルクー２−アゼチジノ（３ｓ、４ｌ−４−Ｃ
［：（ｓ＋−１−１：Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）アセトイミドイル）ピロリジン−３−イル
チオ］カルがニルメチル〕−３−（［Ｂ−１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチルクー２−
アゼチノノン１５０　ｍ９　（０，２３ｍｍｏｌｅ　）
をテトラヒドロフラン５　ｍ＆に溶かし、窒素気流下、
−７８℃で攪拌しながら、ｉ５％ｎ−ブチルリチウムヘ
キサン溶液０．１５　ｍｌ！　（０，２４ｍｍｏｌｅ　
）　ｆ滴下する。２分間攪拌した後、ｐ−ニトロベンノ
ルオキシオキサリルクロリド８４　ｒｎ９（０，３４ｍ
ｍｏｌｅ　）を加える。

４分間攪拌した後、反応液に０．１　Ｍ　＋）ン酸緩衝
液（ＰＨ７，１）　７　ｒｕｌを加え、酢酸エチルで抽
出する。

乾燥後溶媒を留去し、残留物をシリカゲル４２を用いる
カラムクロマトグラフィーに付す。べ／ゼンー酢酸エチ
ル（１：５）混合溶媒で溶出して目的物６１ｍ９（収率
３１％）’！ｒ油秋油状して得た。

ＩＲスペクトル　、ＣＨＣｌ３ｃＴＬ−１゜ａｘ １８１０．１７５３．１６８２（ｂｒ、）ＮＭＲスペク
トル（ｃＤｃｚ３）δｐｐｍ　：１．４２（３Ｈ，ｄ、
Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．８〜２．５　（２Ｈ。

ｍ）、２．２６（３Ｈ，ｓ）、２．８〜４．２　（８Ｈ
、ｍ　）、〜４．５（ＩＨ，ｍ）、５．１７（２Ｈ，ｓ
）、５．２１　（２！（。

Ｓ）、５．３７（２Ｈ，ｓ）、〜５．２（ＬＨ，ｍ）、
７．５２（６Ｈ、ｂｒ、ｄ　）、８．１５（２Ｅ、ｄ）
、８．１９　（４Ｈ，ｄ）参考例１３ ステル （３ｓ、＋Ｒ）−３−（ｔｎ−ｘ−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシ）エチル、１−４−〔〔（ｓ
＋−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロ
リシン−３−イルチオ〕カルビニルメチル）　−１−（
ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル）−２−アゼチジ
ノン１２８　ｍ９　（０，１５５ｍｍｏｌｅ）亜リン酸
トリエチル１５５　ｍｇ（０，９３４ｍｍｏｌｅ）およ
びハイドロキノン７■（０，０６ｍｍｏｌｅ　）をトル
エン１３ｍ１に溶かし、窒素気流下９０°で１．５時間
加熱する。原料が消失したら溶媒および過剰の亜リン酸
トリエチルを減圧下留去し、得られる残留物をふたたび
トルエン１３廐に溶かし、窒素気流下１００℃で８０時
間加熱する。溶媒を留去し生成物をローパーカラムで分
離精製する。酢酸エチル−ぺ／ゼン（１：１）混合溶媒
で溶出して目的物６９．６■（収率５６．６％）を油状
物として得た。

ＩＲスペクトル　νＣＨ”’Ｓ　Ｃ７ｒＬ−’　：　１
７７８　、１７４５　。

ａＸ １６９５．１６９０（ｓｈ、） ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ２３）δｐｐｍ　：１．４７
（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、Ｌ７〜２．７　（２Ｈ、ｍ
　）、２．９−４．５　（１０Ｈ、ｍ　）、５．１８（
２Ｈ，ｓ）、５．２１（２Ｈ，ｓ）、５．１９（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、５．４５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈ
ｚ）、７．４７（４Ｈ，ｄ）、７．５８（２Ｈ，ｄ）、
８．１７（６Ｈ，ａ）□参考例１４ ルシリルアセチルチオ）ピロリシン （Ｓｌ　−３−メルカプト−１−（Ｎ−ｐ−二トロベン
ジルオキシカルビニル）アセトイミドイル〕ピロリシフ
　１．４０　ｆ　（４，３３ｍｍｏｌｅ）をへ７　セフ
２８１に溶かし１０℃でトリメチルシリル酢酸５７４　
ｍ９　（４，３４ｍｍｏｌｅ　）、Ｎ、Ｎ’−ソシクロ
へヤシルカルボジイミド９８０　＃　（４，７５ｍｍｏ
ｌｅ　）およびジメチルアミノピリジン４■を加えて１
３時間攪拌する。水Ｑ、　５　ｍｌ　ｆ加えて室温で１
０分間攪拌した後固体を濾過して゛除く、Ｆ液をシリカ
ゲル４ｆのカラムを通し、カラムをさらにベンゼン−酢
酸エチル（３：２）混合溶媒で流す。

溶出液をあつめて溶媒を減圧下室温で留去して得られる
残留物をローバーカラムＢｉ用いるクロマトグラフィー
で精製する。酢酸エチル−ベンゼン（１：１）混合溶媒
で溶出して目的物９３７■（収率４９幅）を油状物とし
て得た。

工Ｒスペクトル　シ１）ｑｃｒｎ−’　：１６７０，１
５５０ａｘ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：０．１６
（９Ｈ，ｓ）、１．６〜２．８　（２Ｈ、ｍ　）、２．
３０（５Ｈ，ｓ）、３．３〜４．２　（５Ｈ、ｍ　）、
５．１７（２Ｈ。

Ｓ）、７．５１（２ａ、ｄ）、８．１５（２ａ、ｄ）参
考例１５ （３ｓ、４Ｒ）−３−（：（ｎ−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカル？ニルオキシ）エチル：］−４−ＣＣ（
Ｓｌ−１−（ｐ−二トロペンジルオキシカルがニル）ピ
ロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル、ｌ−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル）−２−アゼチ
ジノン （３Ｓ、４Ｒ）−３−１：（ヨー１−（ｐ−ニトロベノ
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル）−４−（Ｃｔｓ
＋−１−（ｐ−ニトロペンジルオキシカルボニル）　ヒ
ｏ　＋）　、：／ノー３−イルチオ〕カルゴニルメチル
〕−２−アゼチジノン１８２キ（０，２９５ｍｍ＋１ｅ
　）を塩化メチレン１０ｍ／に溶かし、０℃で攪拌しな
から１，４−ジアゾビシクロ（２，２，２）オクタン１
）０■（０，９８ｍｍｏｌｅ　）ついでｐ−二トロペン
ジルオキシオキサリルクロリド４５０η（１，８５ｍｍ
ｏｌｅ　）を加える。１時間後、反応液を０．１Ｍ−リ
ン酸緩衝Ｈ（ｐ＋（７，ｔ　）　４０　ｍＪ中にあけ、
塩化メチレンで抽出する。飽和食塩水で洗浄した後乾燥
し、溶媒を留去する。残留物をシリカゲル５りを用いる
カラムクロマトグラフィーに付り、、１０〜１７．５％
酢酸エチル−ベンゼンで溶出して、目的物１６９■（収
ｌ１６９．５％）全油状物として得た。

ＩＲスペクトル　ｖ”ＨＣ’５　ｃｒｒｔ−１：　１８
０５　、１７４５　。

ａｘ １６９５．１６９０（ｓｈ、） ）ＩＭＲスペクトル（ｃＤｃｚ５）δｐｐｍ：　　１．
４２（３！（。

ｄ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、１．５〜２．５　（２Ｈ、ｍ　
）、２．７〜４．２（９Ｈ，ｍ）、〜４．５　（ＬＨ、
ｍ）、５．１７（２Ｈ。

Ｓ）、５．２０（２Ｈ，ｓ）、５．３６（２Ｈ，ｓ）、
７．４７（４Ｈ，ｄ）、７．５２（２Ｉ（、ｄ）、８．
１８（６Ｈ，ｄ）参考例１６ （３Ｓ、４Ｒ）−４−（（ｔｓｌ−１−（Ｎ−（ｐ−二
トロベ／ジルオキシカル？ニル）アセトイミｒイル〕ピ
ロリジン−３−イルチオ〕カルデニルメチル〕−３−（
［Ｒ１−１−（ｐ−ニトロ隔ンジルオキシカルゴニルオ
キシ）エチル）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシオキ
サリル）−２−アゼチジノン９７２■（１，１２ｍｍｏ
ｌｅ　）　、亜リン酸トリエチル１、　１　２　　ｆ　
　（６，７５ｍｍｏｌｅ　）　　を　ト　ルエン、８０
：ｎ１ｌｌ′ｉｃ溶かし、窒素気流下９０℃で２時間加
熱する。溶媒を減圧下留去して得られる残留物をローバ
ーカラムを用いて精製する。酢酸エチル−クロロホルム
−メタノール（３０：１０：１）混合溶媒で溶出して目
的物９６１■（収率８４幅）を油状物として得た。

ＩＲスペクトル　シＣＨＣｌ３ＣＴＬ−ｉ　。

ａｘ １７５０．１６８０．１６４０ 参考例１７ エチル〕カルバペンー２−エム−３−カルボン酸　ｐ−
ニトロベンジルエステル （３ｓ、４Ｒ）−４−ＣＣ（ｓ＋−ｔ−（ｎ−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピ
ロリジン−３−イルチオ〕カル？ニルメチル〕−ａ−Ｃ
（ＰＪ−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル）−１−（１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）トリエチルオキシホスホラニリデンメチ
ル〕−２−アゼチジノン１９７■、ハイドロキノン２０
■、トルエン２０廐の混合物を窒素気流下１００℃で４
４時間加熱した。

減圧下溶媒を留去し、残留物をローバーカラムを用いて
精製する。酢酸エチル−クロロホルム−メタノール（３
０：１０：１）混合溶媒で溶出して出発原料１６＋ｒｑ
（８％）を回収し、ついで目的物９３■（収率５８％）
を油状物として得だ。

ＩＲスペクトル　νＣＥＣ２３の一’：１７８０，１７
４４゜［ １６９０（ｓｈ、）、１６７６ 比旋光度〔α）、　＋６８°（Ｃ＝Ｑ、ｌ　７　、　ｃ
Ｈｃｔ３）ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＡ３）δｐｐｍ　
：１．４８（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．３１（
３Ｈ，ｓ）、１．８〜２．６　（２Ｈ、ｍ　）、３．０
〜４．５　（９Ｈ、ｍ　）、５．１６（２Ｅ、ｓ）、５
．２０（２Ｆｉ、ｓ）、５．１４（ＩＬｄ、Ｊ＝１４Ｈ
ｚ）、５．４３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４）！ｚ）、〜５．
２（ＩＨ，ｍ）、７．５０（４Ｈ，ｄ）、７．５７　（
２Ｈ。

ｄ）、８．１７（６Ｂ、ａ） 参考例１８ ルゲン酸 （５Ｒ，６３）−２−［（Ｓｌ−１−ＣＮ−（１−ニト
ロペンシルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロ
リジン−３−イルチオ）　−６−〔（Ｅ−１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕カルバ
ペンー２−エムーカルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル４８５■をテトラヒドロフラン２５ｍＡおよび０．１
Ｍ−リン酸緩衝液（ｐＨ７，１）　２５　ｍｇの混合溶
液に溶かし、１０％／ｆラジウムー炭素１．４２を加え
、常圧水素下、７０分間攪拌する。反応終了後、触媒を
テ過して除き、Ｐ液に上記緩衝液１５ｍｇを加えて酢酸
エチルで洗浄する。水層を室温減圧下、約捧まで濃縮し
たのち、ＨＰ２０ＡＧ（三菱化成社友）　ｉ　ｓ　ｒｎ
ｔを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、３チアセ
トンー水で溶出するフラクションを集め、凍結乾燥をお
こなって白色粉末状・の目的物１）５■（収量５８チ）
ｅ得た。

ＩＲス啄クりル　νＫＢｒ　ＣｎＬ−１：ａｘ ３４００．１７６０．１６７５ ＮＭＲスペクトル（Ｄ２０）δｐｐｍ　：１．２９（３
Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．８〜２．７　（２Ｈ。

ｍ）、２．２９（３Ｈ，ｓ）、３．２２　（２Ｈ、ｄ　
、　Ｊ＝９．５Ｈｚ）、３．３〜４．４　（８Ｈ、ｍ　
）参考例１９ （３Ｒ，４Ｒ８）−４−アセトキシ−３−〔（刊−１−
１−Ｃ（Ｒ１−１−（ｐ−ニトロベンノルオキシカルボ
アゼチジノン ６α−〔（壽−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル〕ペニシラン酸　ｐ−ニトロベンジルエステ
ルｌβ−オキシド５１）■（１，００ｍｎｏｌｅ　）　
’ｊｃ　トルエン３ＱｍＪに溶かし、亜リン酸トリメチ
ル７４４■（６，００ｍｍｏｌｅ　）　、酢酸２４０■
（４，００ｍｍｏｌｅ　）を加えて９０℃で５時間加熱
する。反応終了後、溶媒を減圧下留云し、残留吻をシリ
カゲル１０りを用いるカラムクロマトグラフィーに付−
ｒ。ベンゼン−酢酸エチル（２０：１）混合溶媒で溶出
して目的物４７９■（収率９２％）を油状物として得た
。生成物は４Ｒおよび４Ｂ配位を有する二異性体の約１
：１の混合物である。

工ＲスヘクトルνＣＨＣ２３ｃｒｒＬ″″１：ｍと １７６８（ｓｈ、）、１７４５ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δ１）１）ｍ　：　（
（４Ｒ）−異性体〕０．０２（３Ｈ，ｓ）、０．０６（
３Ｈ，ｓ）、０．８４（９Ｉ（。

Ｓ）、１．２６（３，Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．８３
（３Ｈ。

ｂｒ、ｓ）、１．９９（３Ｈ，ｓ）、３．０９（ＩＨ，
ｄｄ、Ｊ＝４．５，１．５Ｈｚ）、４．２（ＬＨ，ｍ）
、４．８０（ＩＨ，ｓ）、４．８９　（ＬＨ、ｂｒ、ｓ
　）、５．００（ＬＨ，ｂｒ、）、５．２０（２Ｈ，ｓ
）、６．４２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１．５１（ｚ）、７．４
５（２Ｂ、ａ）、８．１６（２Ｈ，ｄ）：（：（４Ｓ）
−異性体、Ｉ　Ｏ，０４（３Ｈ，ｓ）、０．０８（３Ｈ
，ｓ）、０．８４（９Ｈ，ｓ）、１．３４（３ａ、ａ。

Ｊ＝６Ｈｚ）、２．０８（３Ｈ，ｓ）、３．３５（ＬＨ
，ｄｄ。

Ｊ＝８　、４．５　Ｈｚ　）、４．２（ＩＨ，ｍ）、４
．７５（ＩＩ（。

Ｓ）、４．８９　（Ｌ　Ｈ、ｂｒ、ｓ　）、５．００　
（ＬＨ、ｂｒ、　）、５．２０（２Ｈ，ｓ）、６．１７
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ）、７．４５（２Ｈ，ｄ）
、８．１６（２Ｈ，ａ）参考例２０ （３Ｒ，４Ｒ８）−４−アセトキシ−３−（：（Ｒ１−
１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
〕−１−（１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）−２−メチル−１−プロペニルツー２−アゼチジノン （３Ｒ，４Ｒｓ）−４−アセトキシ−３−［：（Ｒ−１
−（ｔ、ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
］−１−（（ヨー１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）−２−メチル−２−プロペニル）−２−アゼチ
ジノン７８■全塩化メチレンに溶かしトリエチルアミン
２０■を加えて室温で５０分間靜装する。溶媒を減圧上
留去し得られる油状物をシリカゲルの分取用薄層クロマ
トグラフィー〔展開溶媒：酢酸エチル−ヘキサン（１：
　４　））により精製して、目的物７５■（収率９６係
）を油状物として得た。本物質は３．４−　）ランス異
性体と３，４−シス異性体の１：１混合物である。

ＩＲスペクトル　ν”””３ｃｒＬ−’　：　１７６４
　、１７５５（ｓｈ、）。

ａＸ １７３７（ｓｈ、）、１７２５（ｓｈ、）、１７２０（
ｓｈ、）。

１７００　（ｓｈ）、１６３　Ｏ ＮＭＲｘベクトル（ＣＤＣ２３）δｐｐｍ　：〔トラン
ス異性体）　−０，０３（３Ｂ、ｓ）、０．０３（３Ｈ
。

Ｓ）、０．８３（９Ｈ，ｓ）、ｘ、２７（３Ｈ，ｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ）、１．９７（３Ｈ，ｓ）、２．ｏｌ（３Ｅ、
ｓ）、２．２２（３Ｈ，ｓ）、３．１９（ＩＨ，ｄｄ、
Ｊ　＝６．５．１．５Ｈｚ）、４．１（ＩＨ，ｍ）、５
．２７（２Ｈ，ｓ）、６．１９（ＩＥ。

ｄ、Ｊ＝１，５ＥＺ）、７．５３（２Ｈ，ｄ）、８．２
０　（２Ｈ，ｄ）〔シス異性体）０．０６（３Ｈ，ｓ）
、０．１０（３Ｈ，ｓ）、０．８６（９Ｈ，ｓ）、１．
３６（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９７（３Ｈ，Ｓ）
、２．０６（３Ｈ，Ｓ）、２．２２（３Ｈ。

Ｓ）、３．３７（ＩＨ２ｄｄ、Ｊ＝８．４．５Ｈｚ）、
４．３（ＩＨ，ｍ）、５．２７（２Ｈ，ｓ）、６．２４
（ＬＨ，ｄ。

Ｊ　＝４．５　Ｈｚ　）、７．５２（２ａ、ｄ）、８．
２０　（２Ｈ，ｄ）参考例２１ （３Ｒ，４Ｒ８）−４−アセトキシ−３−〔（刑−１−
（ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−
１−（１−（ｐ−ニトロペンノルオキシカルボニル）−
２−メチル−１−プロペニルクー２−アゼチジノン１５
６■を塩化メチレン２５ｍｊに溶かし一７８℃に冷却す
る。オゾンを１５分間通じ、同温度で１００分間静置た
後、窯素がスを吹き込み過剰のオゾンを除く。反応液に
ジメチルスルフィド０．２　ｍｌ　ｋ加え室温まで温度
を上げた後、減圧下溶媒を留去する。残留物をベンゼン
−ヘキサン（１：１）混合溶媒に溶かし、水洗を２回お
こなった後乾燥し溶媒を留去する。

油状の目的物１４９■（収率１００％）を得た。

本物質は３．４−　）ランス異性体と３，４−シス異性
体の１：１混合物である。

ＩＲスペクトルシＣＨＣｔ３ｃｒｒＬ−１：ａｘ １８２０．１７５８ｉ１７１３ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：〔トラン
ス異性体）　　−０，０１（３Ｈ，ｓ）、０．０７　（
３ＬＳ）、０．８１（９Ｈ，ｓ）、１．２８（３Ｈ，ｄ
、Ｊ＝＝６Ｈｚ）、２．０８（３Ｈ，ｓ）、３．２７（
ＬＨ，ｔ、Ｊ＝２Ｈｚ）、４．３（ＬＨ，ｍ）、５．３
７（２Ｈ，ｓ）、６．６７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）、
７．５３（２Ｈ，ｄ）、８．２０（２Ｈ，ｄ） 〔シス異性体〕　０．０３（３Ｈ，ｓ）、０．０８（３
Ｈ，ｓ）、０．８６（９Ｈ，ｓ）、１．２９（３Ｈ，ｄ
、Ｊ＝６Ｈｚ）、３．５６（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝６．５．
５．５Ｈｚ）、４．３（ＬＨ。

ｍ　）、　　５．３７（２Ｈ，ｓ）　、　　６二８１（
ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、７．５３（２ａ、ｄ）、
８．２０（２Ｈ，ｄ）参考例２２ （ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−
１−（ｐ−二トロペンジルオキシカルゲニルメチル）−
２−アゼチジノン （３Ｒ，４Ｒ８）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ−ｘ−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−
１−Ｃ（１）−ニトロベンジルオキシ）オキサリルツー
２−アゼチジノン１４９１）１７　（０，３０ｍｍｏｌ
ｅ）、亜リン酸トリエチル２２４■（１，３５ｍｍｏｌ
ｅ　）をトルエン３　ｍｌに溶かし、９０℃で２時間加
熱した。溶媒を減圧下留去して（３Ｒ，４Ｒ８）−４−
アセトキシ−３−（ｌｎ−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル）−１−［：１−（ｐ−ニト
ロペンノルオキシカルボニル）トリエトキシホスホラニ
リデンメチル〕−２−アゼチジノンを油状物として得た
。

ＩＲスペクトル　シＣＨＣ２５ｃＩｒＬ−１：１７７４
．１７５２ａｘ 上で得た油状物をテトラヒドロフラン３ｍｌ。

水１　ｍｌに溶かし、ｐ−トルエンスルホン酸３■を加
え室温で５分間静置する。酢酸エチルを加えて希釈し水
洗、乾燥後溶媒を留去し、残留物をシリカゲルの分取用
薄層クロマトグラフィーＣ展開溶媒：　酢酸エチル−ベ
ンゼン（１ニア））によって精製して目的物１）８１）
ｖ（収率８２％）を油状物として得た。本物質は３．４
−　）ランス異性体と３，４−シス異性体の１＝１混合
物である。

ＩＲスペクトル　シＣＨＣｔ３ｃＩｒＬ−’　：　１７
７４　、１７５２ａｘ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：〔トラン
ス異性体３　０．０４（３Ｅ、ｓ）、０．０８（３Ｉ（
。

Ｓ）、０．８６（９Ｈ，ｓ）、１．２６（３Ｈ，ｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ　）、２．０３（３Ｈ，ｓ）、３．２４（ＬＨ
，ａａ、、ｙ＝４．５　、１．５　Ｈｚ　）、４．１）
（２Ｈ，ｓ）、４．２（ＬＨ。

ｍ）、５．２２（２Ｅ、ｓ）、５．９３（ＬＨ，ｄ、Ｊ
＝１．５Ｈｚ）、７．４７（２Ｈ，ｄ）、８．１９（２
Ｈ，ｄ）〔シス異性体）　　０．０８（３Ｈ，ｓ）、０
．１０（３Ｈ，ｓ）、０．８６（９Ｈ，ｓ）、１．３６
（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．０８（３Ｅ、ｓ）、３
．４４　（１）（、ｄｄ　、　Ｊ＝８．５　、４．５Ｈ
ｚ　）、３．９３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．２
４（ＩＨ。

ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．３（ＬＨ，ｍ）、５．２２（
２Ｈ。

Ｓ）、６゜０３（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝＝４．５ＲＺ）、７゜
４７（２Ｌｄ）、８．１９（２Ｈ，ｄ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１は水素原子または水酸基の保護基を、Ｒ
   ＾２およびＲ＾３は同一または異なる水素原子、低級ア
   ルキル基またはアリール基を、Ｘは酸素原子または硫黄
   原子を、Ｙはイミノ基もしくはアルキルイミノ基、酸素
   原子または硫黄原子を、Ｒ＾４はアルキル基、置換基を
   有するアルキル基、アラルキル基、脂環式複素環置換ア
   ルキル基、脂環式複素環基、アリール基、または芳香族
   複素環基を、Ｒ＾５は水素原子またはアミド基の保護基
   を示す。ただし、ＸおよびＹが酸素原子、Ｒ＾４がアル
   キル基またはアラルキル基の場合はＲ＾５がアミド基の
   保護基である。〕を有するアゼチジノン誘導体。