JPS5946265A - アゼチジノン誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明に一般式（ＩＩ　Ｙ有する′ＩＪｆＪＪｉ、なア
ゼチジノン訪導体およびその合成法に関するものである
。

式中　　１４１＋：Ｔ水系原子、水酸基の保赦基を示１
−．．１’４：　Ｆ＝’１４基としてはβ−ラクタム系
抗生物質肪２８ｔイ４．ＣリッツＬｉ、：ｔｒｃ使７−
ｉ、１される水ｆｆｆｆＺ　ｊ〜の保護基なら特π１５
はカニ−＋′、１ないが、好ン苗Ｋ）まホルミル、アセ
チル、り［１ルアセチル、グロビオニル、ブチリル、イ
ソブチ１）ル、ベンゾイルのようなアシル基；トリメチ
ルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、トリメチルシリ
ルなどのシリル基；ベンジル、ｐ−−二トロベンジルの
ようなアラルギル基；ベンジルオキシカルボニル、ｐ−
ブロムベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジル
オキシノノルボニル、ｌ）−’ニトロベンジルオキシカ
ルボニル、アリルオキシカルボニル、２−クロルアリル
オキシカルボニル、２−メチルアリルオキシカルボニル
、２．２．２−）リブロムエチルオキ・ンカルボニル、
　　２．２．２−）　ＩＪクロルエチルオキシカルボニ
ル％　ｔ　−プチルオキンカルボニル、２−トリメチル
シリルエチルオギシカルボニル、などのオキシカルボニ
ル基、デトラヒドロビラニル、メトギシメチル、１−エ
トキシエチル、２−トリメチルシリルエチルオキシノナ
ルなどのニーデル基である。　Ｒ２は水素原子、メチル
。

エチル、プロピル、イングロピルなどの炭素数１乃至３
個の低域アルギル、Ｊｌ！、またはフェニル基を示し、
　Ｒ３は水素原子、炭素数１乃至３個のメチル、エチル
、プロピル、イングロビルなどのアルキル基またしまフ
ェニル基乞示し、Ｘは醒累腔子またげしＩＣ黄り一子な
示し、Ｙ　）：ｉイミノ基。

アルキルイミノ基（アルキル基としてメチル、エチル、
ｔ−ブチルなどの炭素数１乃至４個のアルキル基、ベン
ジル、ｐ−ニトロベンジルなどのアラルキル基）、酸素
原子またげ懺黄原子を示し、　Ｒ’Ｆｊアルギル基とし
てメチル、エチル、プロピル、インプロビル。ｔ−ブチ
ルなと、に限定けなく一般的なアルコール注水酸基σ〕
保Ｍ４　ｈ’；　２月４いろ、−とができる。好ましく
しまメチル、エチル、ゾＬ；ビｊＬ・などのアルキル基
、ベンジル、ｐ−二トロベン／ルナトＱ）アラルキル基
、ホルミル、アセナル、プロピオニル、ベンゾイルなど
のア／ルノ占、ペンジルオキシカルホニル、ｐ−二ｌ・
ロペンジルオキシカルボニル７．Ｃト（１）　−ｆ　＃
ミ’１　ｉｒ　’７　カルボニル ブチル、ジメチルシ１）ルなと（１）　）　１１アルキ
ルシ１１ルノイ″Ｃであイ）。）２−ヒドロキシエチル
へ，３ーヒドロギングロビル茫、２−ヒドロキシ−１−
メチル二チル丞，もしくは３−ヒドロキシ−１−メチル
ン゛Ｌノビル基などのヒドロＡージアルキルノー、：？
フトす。アミノ基の保護された直鎖よた警ユ分枚ｆ：ｌ
＊　置換アルキル トリｊ，ｊｉとしてを１特しＩ″限定なく一般的なアミ
ンＱ）’＋’＋′．詔，ろりケ用い・、）ことかできろ
。好ましくし１ホルミル、−ｆセチル、クロルアセチル
、フ“ロビオニル、ベンゾイルなどのアシル基、ｔ−プ
チルオギシカルボニル、２．２．２−）　＋１クロルエ
チルオキシカルボニル、２−トリノナルシ１ノルエチル
オキシカルボニル、ベンジルオキシソＪルンｊζニル、
ｐ−二トロベンジルオキシ／Ｊルア１ゞ二，し、〇ーニ
トロペンジルスー　ｔ’ジカルボニルなどのメ゛キ７力
ルボニル基で多１２））２−アミノエチル、２−アミノ
−１−メチルエチル、２−アミノ−１−エチルエチル、
３−１′ミノプロピル、３−アミノ−１−メチルプロピ
ル、２−アミノ−２−メチルエチルもしく　）’！　２
　−　Ｎ−メチルアミノエチル、２−１４−メチルアミ
ノ−１−メナノＩ〆エチルＬどのアミノアルキルＭＹ示
す。水１＊　基ｉ）’アミノアルキル基で保謔ξされた
１に鎖または分＆釦１ム換アルキル基、そのアミノ基か
保護さｋし′″（Ｊ’でもよい、アミノ基の保祿鹸は特
に限定瞥工なし・力３好ましいものとし，てはＡｉＪ述
し．たものがあげられる。

水酸基がアミノアルキル基で保護さハ、た！ｆｋ：　ｔ
ａｇアルキル基として好ましくは２−（２−アミノエチ
ル）オキシエチル％２−（２−アミンエチル）オキシ−
１−メチルエチル、２−（３−アミノプロピル）オキシ
エチル、３−（２−アミノエチルλーオキシプロピル、
３−（２−アミノエチル）オキシ−１−メチルプロピル
など乞示す。

アラルキル基としてはベンジル、ｐ−メトキシベンジル
、ｍ−二トロベンジル、０−メチルベンジル、ｐ−ブロ
ムベンジルもしく　１ｕ　ｐ−アミノベンジルなどを示
し、了りール蟇としてはフェニル、ｉ−ナフチル、２−
１−メチル、ｐ−ニトロフェニル、ｍ−カルボキシフェ
ニル、〇ーヒドロキシフェニル、ｐ−メトキシフェニル
もしく　ｋＳ　ｍ−エトキシカ，ルポニルフェニルに示
し、脂環式伏累猿基としては壌炭素鎖に窒素原子、酸素
原子、偵Ｃ黄原子、スルフィニル基、スルホニル基また
はカルボニル基が介在していてもよい置換若しくは非置
換の４員猥乃至８員現を形成する環状脂肪族アミン残基
を表わし、その環炭素原子に結合する置換基はアルキル
基、アルコキシアルキル基、シアノアルキル基、ハロゲ
ノアルキル＆，アルコキシ基、水酸基、アミン基、ハロ
ゲン原子、アシルオキシ基、アシルアミノ基、シアノ基
、アジド基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基
、カルバモイル基、アルキルチオ、■，アルキルスルフ
ィニル基、アルキルスルホ；ル基またはニトロ基からな
る群から選択されたものであり、その環窒素原子に結付
する置換基はアルキル基、アルケニル基，アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル茫、アリ
ール基、アラルキル基、アシル基，フェナシル基、スル
フオ基；アルコキシスルホニル基、アルキルスルホニル
基、アルケニルスルホニル基、アルキニルスルホニル八
、シクロアルキルスルホニル基、シクロ゛ｒルキルアル
ギルスルホニル基、アリールスルホニル基；アラルキル
スルホニル基、ヘテロ了リールスルホニル基、ヘテロア
ラルキルスルホニル基、１０ 式−占＝Ｎ−１’ｊ”基（式中　Ｈ＋Ｏ　ｈゴ本塁原子
またげ低級アルキル基ｋ・、Ｒ＋＋は水素原子又はイミ
ノ裁の保論基ン示す） たは異なって水素原子また１ま低級アルキル基を示し、
２（１酸素原子、硫黄原子または低級アルギル基で置換
されていてもよいイミノ基を示す。）、アルコキシカル
ボニル基またはアラルキルオキシカルボニル基からなる
群から選択さり。

たものであって、上記の窒素原子に結合する置換基に史
に低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、アミノ
基、ノ・ロゲン原子、低級脂肪族級 アシルオキシ基、低生脂肪族アシルアミノ基、シアノ基
、アジド基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイルｉ、ｉｉアルキルチオ基、低級アル
キルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、ニト
ロ基またｌ↓Ｒ” たけ異なって水素原子または低級アＪレキル基な示す。

）からなる群から選択されたもので置換されていてもよ
い。脂環式複素環基として好適にに′ｉｆｉ’？換７Ｊ
’＆有してもよいアゼチジニル、ピロリジニル、ピペリ
ジニル、モルホリニル、テトラヒドロピリミジニル、チ
アゾリジニル、オキサゾリジニル、ヘキザヒドロピリミ
ジニル、イミダゾリジニルまたはオクタヒドロアゾシニ
ルなどであってその環炭素原子に結合する置換基１′Ｌ
好適には例えばメチル、エチル、プロピル、インプロピ
ル、ブチル、イソブチル、歌−ブチル、ｔ−７’チル、
ペンチル、インペンチルのような直鎖状若しくは分枝鎖
状の低級アルキル基。

例えはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル
、シクロヘキシルのようなシクロアルキル基１例えばメ
トキシメチル、エトキシメチル、ｎ−ブトキシメチル、
インプロポキシメチル、ｎ−ブトキシメチル、メトキシ
エチル。

３−メトキシプロピル、２−メトキシプロピル、４−エ
トキシブチルのような低級アルコギシアルギル基、例え
ばメトキシカルボニルメチル。

エトキシカルボニルメチル、ｔ−ブチルオキシカルボニ
ルメチル、ベンジルオキシカルボニルエチル、メトキシ
カルボニルプロピルなどのアルコキシカルボニルアルキ
ル基、例えばシアノメチル、シアノエチル、３−シアノ
プロピル、２−シアノプロピル、４−シアノブチルのよ
う１、ｃシアノ低級アルキル基、例えばトリフルオロメ
チル、２−フルオロエチル、２．２．２−１Ｊフルオロ
エテル、２−１０ロエチル、２−フｏモエチル、３−フ
ルオロプロピル、２−フルオロプロピル、４−クロロブ
チル、３−フルオロブチルのようなハロゲン低級アルキ
ル基１例えはブトキシ、エトギシ、プロポキシ、インプ
ロポキシ、ブトギシ、インブトキシ、閾−ブトキシ、ｔ
−ブトキシのような直鎖状若しくしま分枝幻）状の低級
アルコキシ基、水酸基、アミン基、例えは弗素、塩累、
臭素、沃素のようなノ・ロゲン原子、例えばアセトキシ
、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリル
オキシのような低級脂肪族アシルオキシ基、例えばアセ
チルアミノ、フロビオニルアミノ、ブチリルアミノ、イ
ソブチリルアミノのよ、うな低級月ｎ肪族アシルアミノ
基、シアノ基、アジド基、カルボキシル基、例えばメト
キシカルボニル、エチルスルホニル、グロボキシ力ルボ
ニル、イソプロポ、キシカルボニル、ブトキシカルボニ
ル、インブトキシカルボニル、８俣−ブトキシカルボニ
ル、を−ブトキシカルボニルのような低級アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、例えばメチルチオ、エチ
ルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチル
チオ、イソブチルチオのような直鎖状若しくは分校鎖状
の低級アルキルチオＬ、例えばメチルスルフィニル、エ
チルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イソプロピ
ルスルフィニル、メチルスルフィニル、インブチルスル
フィニルのような直鎖状若しくは分校鎖状の低級アルキ
ルスルフィニル基５例えはメチルスルホニル、エチルス
ルホニル、フロビルスルホニル、イソフロビルスルホニ
ル、メチルスルホニル、イソブチルスルホニルのような
直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキルスルボニル基ま
たはニドｅ！基からなる群から選択されたものであり、
その環窒素原子に結合する置換基は好適には例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、渡−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチ
ルのような面鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキル基、
例えはビニル、アリル、１−フーロベニル、インプロペ
ニル、２−ファーニル、２−ペンテニルのよ５な低級ア
ルケニル基、例えばエチニル、２−フロビニル、２−ブ
チニル、４−ペンチニルのような低級アルキニル基、例
えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロブチル、シクロヘプチルのようなシクロ低級アル
キル＾（、例えはシクロプロピルメチル、シクロブチル
メチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル
、シクロヘプチルメチル、２−シクロペンチルエチル、
２−シクロヘキシルエチル、３−シクロペンチルプロピ
ル、２−シクロペンチルプロピル％　３−シクロへキシ
ルプロピル、２−シクロへキシルプロピル、４−シクロ
ペンチルブチル、３−シクロヘキシルメチルのような低
級シクロアルキルアルキル基、例えばフェニル、ナフチ
ルのようなアリール基、例；ｔ−＆ｉ　ヘンシル、フェ
ネチル、３−フェニルプロピルのようなアラルキル基、
例え（・エホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、インブチＩＪル、アクリロイル、メタアクリロイル
、クロトノイル、インクロトノイル、プロピオロイル１
．１−ｆ−にプロピオロイルのような低級脂肪麩アシル
Ｌ、例えばシクロプロパンカルボニル、シクロブタンカ
ルボニル、シクロペンクンカルボニル、シクロブタンカ
ルボニルのような低級シクロアルカンカルボニル基、例
えばシクロノロピルアセチル、シクロブチルアセチル、
シクロペンチルアセチル、シクロヘキシルアセチル、３
−シクロペンチルプロピオニル、３−シクロヘキシルプ
ロピオニル、４−シクロブチルブｆ　ＩＪ　、ｎ、、４
−シクロヘキシルブチリルのような低級シクロアルキル
アルカノイル基、例えはベンゾイル、１−ナフトイル、
２−ナフトイルのような芳香族アシル基、例えはフェニ
ルアセチル、１−ナフチルアセチル、３−フェニルプロ
ピオニル、ヒドラトロボイル、シンナモイル、フェニル
プロピオロイルのような％香族−ｒシル乱、例えばフロ
イル、テノイル、ニコチノイル、イソニコチノイル、４
−チアゾールカルボニル、５−ピリミジンカルボニル、
２−ピラジンカルボニルのような枚素坂アシル基１例え
ば２−チェニルアセチル、３−（２−チェニル）プロピ
オニル、４−チアゾリルアセチル、２−ピリジルアセチ
ル、４−ピリジルアセチル、５−ピリミジルアセチルの
ような複素環脂肪族アシル基、例えば１−アジリジンカ
ルボニル、１−アゼチジンカルボニル、３−アゼチジン
カルボニル、１−ピロリジンカルボニル、２−ピロリジ
ンカルボニル、３−ピロ１１ジンカルボニル、１−ピペ
リジンカルボニル、２−ピペリジンカルボニル、４−ビ
ベ１１ジンカルボニル、４−モルホリンカルボニルのよ
うなヘテロシクリルカルボニル裁着しくは例えば１−ア
ジリジニルアセチル、ｓ−’ｙゼチジニルアセチル、３
−アゼチジニルアセチル、１−ピロリジニルアセチル、
２−ピロリジニルアセチル、３−ピロリジニルアセチル
、３−４ｚ−ピロリジニル）プロピオニル、ヒペリジノ
アセチル、２−ピペリジニルアセチル、４−ピペリジニ
ルアセチル、モルホリノアセチルのようなヘテロシクリ
ル脂肪族アシル基等の了シル基、フェナシル基、スルフ
オ基、例エバメトキシスルホニル、エトキシスルホニル
、プロポキシスルホニル、インプロポキシスルボニルの
ような低級アルコキシスルホニル基、ｆｌｌ工ＬＪ：メ
チルスルホニル、エチルスルホニル、フロビルスルホニ
ル、イア７’ロビルスルホニル、ブチルスルホニル、イ
ソブチルルスルホニル、イソプロペニルスルホニル、２
−ブテニルスルホニルのよ５　ｔｘ、　低級アルケニル
スルホニル＆、例ｔＨ：エチルスルホニル、２−プロビ
ニルスルホニル、２−ブチニルスルホニルのヨウな低級
アルキニルスルホニル基、例えばシクロブチルスルホニ
ル、シクロブチルスルホニル、シクロペンチルスルホニ
ル、シクロヘキシルスルホニルのような低級シクロアル
キルスルホニル基、例えはシクロプロピルメチルスルホ
ニル、シクロブチルメチルスルホニル、シクロペンチル
メチルスルホニル、シクロヘキシルメチルスルホニル、
２−シクロペンチルエチルスルホニル、２−ノクロヘギ
ゾルエチルスルホニル、３−シクロペンチルプロピル、
２−シクロペンチルプロピルのような低級シクロアルキ
ルアルキル基、例文ばフェニルスルホニル、１−ナフチ
ルスルホニル、２−ナフチルスルホニルのよう１ニアリ
ールスルホニル基、例えばベンジルスルホニル、フェネ
チルスルホニル、３−フェニルプロピルスルホニル、２
−フェニルプロピルスルホニルのようなアラルキルスル
ホニル基、’ｌ１ｌＪＬば２−チェニルスルホニル、４
−ｆアソリルスルホニル、２−ヒリジルスルホニル、４
−ピーｕジルスルホニルノ、Ｊ：　５７．Ｃヘテロアリ
ールスルホニル基、例えば２〜チ工ニルメチルスルホニ
ル％　３−（２−ｆエニル）フロビルスルホニル、４−
チアゾリルメチルスルホニル、２−ピリジルメチルスル
ホニル、４−ビ＋））ルメチルスルホニルのようなヘテ
ロアラルキルスルホニル基。

Ｈ＋［ｌ ！ 式−〇、Ｎ−Ｅｔ”基（式中、Ｒ１０は水素原子または
例えはメチル、エチル、プロピル、イソプロピルのよう
な低級アルキル基馨、Ｒ１１は水素原子または例えばア
リルオキシカルボニル、２−メチルアリルオキシカルボ
ニル、２−クロルアリルオキシカルボニル、２．２．２
−トリクロルエトキシカルボニル、２．２．２−１−リ
フブロムエトキシ刀ルボニルυようなアルコキシカルボ
ニル基よたｆＸ　９’ｌＪ　エｋｆ、　ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、たは異なって水素原子または例
えばメヂル、エチル、プロピル、イソプロピルのような
低級アルキル基な示し、２は酸系原子、饋黄原子または
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピルのよう
な低級アルキル基で置換されてぃてもよいイミノ基を示
す。）、例えはメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、二＝ブトキシカルボニル、２．２．２−）リブロム
エトキシカルボニル、２．２．２−）リブロムエトキシ
カルボニルのような低級アルコキシカルボニル基または
例文ばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカ
ルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、０−
ニトロベンジルオキシカルボニルのようなアラルキルオ
キシカルボニル基からなる群から選択されたものであっ
て、上記の窒素原子に結合する置換基は好適には例えは
メチル、エチル、プロピル、イソプロピルのようす低級
アルキル基、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、
インプロポキシのような低級アルコキシ基、水酸基、ア
ミン基、例えは弗素、塩素、臭素のようなハロゲン原子
、例えばアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオ
キシ、イソブチリルオキシのような低級脂肪族アシルオ
キシ恭、例えばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ、
ｎ−ブチリルアミノ、イソブチリルアミノのような低級
脂肪族アシルアミノ基、シアン基、アジド基、カルボキ
シル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、インプロポキシカルボニル
のような低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基
、例えはメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソ
プロピルチオのような低級アルキルチオ基、例えばメチ
ルスルフィニル、エチルスルフィニル、フロビルスルフ
ィニル、インプロピルスルフィニルのような低級アルキ
ルスルフィニルＭ　、　例エバメチルスルホニル、エチ
ルスルホニル、フロビルスルホニル、イソプロピルスル
ホニルのような低級アルキルスルホニル基、ニトロ基ま
たは たけ異なって水素原子または例えばメチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピルのような低級アルキル基を示
す。）からなる群から選択されたものでさらに置換され
ていてもよい。

Ｉ４’＋７讃式松″Ａ壊置換アルキル基として抜素猿は
前述した眉゛槙式複素壌であってその環炭素原子、窒素
原子に結合する置換基は前述したものと同意桟を７バし
、アルキル基はメチル、１−置換エチル、２−置換エチ
ル、１−ｉ換プロピルなどの低級アルキル基である。

芳香族被累猿基としては置換基な有してもよいビリジノ
ペ　ピリミジニル、トリアジニル、チェニル、フリル、
チアゾリルまたヲマイミダゾリルなどであり、その置換
基としてはメチル、エチル、プロピルなどのアルキル基
、メトキシ、エトキシ、プロポキシなどのアルコキシ基
、アミン基、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルア
ミノなどのアルキルアミノ基、ジメチルアどの低級アル
カノイルオキシ基、ニトロ基、弗素、塩素、臭素などの
ハロゲン原子、たとえはメトキシカルボニル、ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル、ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルなどのアルコキシカルボニル基である。

Ｒ５は水素原子、アミド基の保９基としてカルボキシ基
が保護されたオキサロ基（カルボキシ基の保護基として
は特に限定はなくβ−ラクタム系抗生物質で用いられる
カルボキシ基の保護基を示す。好ましくはメチル、エチ
ル、ｔ−ブチルなどの低級アルキル基、ベンツヒドリル
基、ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、０−ニトロベンジ
ルなどのアラルキル基、アリル、２−クロルアリル、２
−メチルアリルなとのアルケニル基、２．２．２−　ト
リクロルエチル、２．２．２−　トリブロムエチルなど
のハロゲン化アルキル基、２−トリメチルシリルエチル
基などである。）、カルボキシ基の保護された（カルボ
キシ基の保護基は前述したオキサロ基の場合のカルボキ
シ基の＆［基を示す。）カルボキシメチル基、１−カル
ボキシ−２−メチル−１−プロペニル基、１−カルボキ
シ−２−メチル−２−プロペニル基など；更にアゼチジ
ノン壊のアミド基の保護基としては特に限定はなく一般
的なアミド基の保護基を示し、好ましく（′ニトリメチ
ルシリル、ジメチルｔ−ブチルシリルなどのトリアルキ
ルシリル基、トリフェニルシリルなどのトリアリールシ
リル基である。

一般式（１）の立体配位に関しては特ＶＣ限定はないか
好適にはチェナマイシンの５　、６　、　ａ位ト同様な
配位を有するものに導ける立体配位な有するアゼチジノ
ン誘導体である。　Ｒ４に不斉炭素のある場合その立体
配位には特に限定はなく、すなわちその光学活性体また
げその混合物である。

一般式（Ｉ）を有するアゼチジノンのうち特に好適ＶＣ
ＡＩＦ’はジメチル−ｔ−ブチルシリル、メトキシメチ
ル、１−エトキシエチル、クロルアセチル、トリメチル
シリル、パラニトロベンジルオキシカルボニル、アリル
オキシカルボニル、２、２．２−　）リクロルエトキシ
カルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基であり　　Ｒ２
およびＲ３は水素原子であり、ＸおよびＹは酸素原子ま
たは硫黄原子であり　Ｒ４はベンジル、フェニル、２−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル
、２−ジメチル　ｔ−ブチルシリルオキシ−１−メチル
エチル、２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
アミノエチル、２−アセトアミドエチル、２−アセトア
ミド−１−メチルエチル％　２−（２−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルエチル）オキシ−１−メチルエチ
ル、１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロ
リジン−３−イル、Ｎ−アセチルピロリジン−３−イル
、１−［Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
アセトイミドイル〕ピロリジン−３−イル、１−〔ト丁
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ホルムイミ
ドイル〕ピロリジン−３−イル、３．４．５．６−テト
ラヒドロ−２−メチル−１，３−ピリミジン−５−イル
、３．４．５．６−テトラヒドロ−２−メチル−３−（
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）１，３−ピリミ
ジン−５−イル、１−〔１−（ｏ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）ピロリジン−３−イル〕エチル、ｔ−（
ｔ−７セチルピロリジン−３−（ル）ｒ−チル、１−（
１−［’Ｎ−＋ｐ−ニトロベンジルオキシカＡ／ボニル
）ホルムイミドイル］ヒロ１１　シン−３−イル）コー
千ル＋　１−［１−ＣＮ−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）アセトイミドイル〕ピロリジン−３−イル
〕エチル、１−Ｃ４−ＣＮ−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルホルムイミドイル３七ルホｌ】シー２−イ
ル〕エチル、１−［　４−（ＩＮ−（　ｐ−二ｌ・ロベ
ンジルオキシ力ルボニ几・）アセトイミドイル〕モ／ｌ
−　７１ｚリン−２−イル〕エチル、１−［４−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）モルＨり＋Ｉシン−
ーイル〕エチル　ｉ−（４−アセチルモルホリン−２−
イル）エチル、ピリジン−２ーイル、ピリジン−３−イ
ル、ピ１１ジンー４ーイル、２−チェニル、３−チェニ
ル、４，　２．　４−ト１ノアソ゛ールー３ーイル、チ
アゾ−／ｌ／−２−イルなどでル・す、　Ｒ５（・了本
塁原子、ｐ−ニトロベンジ／ｌ／　７１’キシカルボニ
ルメチル、ｐ−ニトロペンジルメーキシオキサリル、２
−メチル−１−（ｐ−ニトロペンジルオキシ力ルポニー
ル．）１　−７゛ロヘニル、２−メｆルー１−（ｐ−ニ
トロベニ・シルオキシカルボニル）２−７’ロペニ／ｌ
／、２　−　メｆ　ｐ−・−１−（１；−メトキシカル
ボニル）　？　−　フロベニル、２−メチル−（Ｏ−ニ
トロ−（ンジルオキシカＪ・ボニル）１−プロペニル、
２−メチノド−１−ジフェニルメクールオキシ力ルボニ
刀・−１−フ”ロベニル、２−メチル−１−アリＡ・オ
キシカルｓｚニルー２ープロペニル、２−メチル−１　
−　（　２，　２。

２−ト１１　クロルエチルオキシカル７＋＜゛ニノＬ・
）２−プロペニル、２−メチル−１　−　）　＋１メチ
ルシＩＪルオキシカルボニル−２−プロペニル、’）メ
チル−ｔ−ブチルシ１１ル基などである。

−・般式（Ｉ）を有する化合物は一般式ＣＩ＋）を有す
る化合物に （式中、Ｒ１およびＲ５ｉ＠　＠ｆｉ述したものと同熱
、義を示し、　Ｒ６は脱離基であり、ホルミルメーキン
、アセトキシ、フロピオニルオキシなどの低級アシルオ
キシ基；ベンゾイルオキシ、ナンドイルオキシ、ｐ−メ
トキシベンゾイルオキシなどの了りールカルボニルオキ
シ基；メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキ
シ、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−）ルエンスルホニ
ルオキシなどのスルホニルオキシ基；アセチルチオ、グ
ロビオニルチオ，ベンゾイルチオ％　〇ーメナルベンゾ
イルチオなどのアシルチオ基；ＪＡ索、芙素、ヨウ素な
どのハロゲン原子な示す。）一般式（１１［１　ｌ：！
を句する化合物を反応させることにより製遺されろ。

Ｒ’Ｒ　Ｒ　Ｓｌ（３Ｒ　Ｒ　Ｏ−ＹＲ　　　　（１１
［１勧 （式中、Ｒ２＊　Ｒ３＊　ｘ＊　Ｙ＊　Ｒ’　　ｈｓ　
前４　Ｌ　タモのと同意Ｐｉ，　”２ｔ　７Ｆす。Ｒ７
　、　Ｒ８およびＲ９は同一または異なるメチル、エチ
ル、ｔ−ブチル、フェニル蒸乞万く丁。） 化ｅ　物ｔｕ）と卸の反応はトリフルオロメタンスルホ
ン摩トリアルキルシリルエステルたとえばトリフルオロ
メタンスルホン改トリメチルシリルエステル、三弗化ホ
ウ糸エーテル軸作、ヨソ化止★１、四環化チタン、基体
第三錫、］蕩化アルミニウムなどの存仕下に、非プロト
ン注の陪媒たとえばヘギ丈ン、ベンゼン、トルエン、ｔ
＝化メチレン、クロロホルム、１，２−ンクロルエメン
、デトラヒドロフラン、ジオキサン、アてトニ）　＋１
ルまたはジエチルエーテル中で反応を行う。反応温度は
一２０℃〜８０℃であり，反ル６時間はｉ時曲〜１日１
南である。　Ｒ７Ｊ・トリメチルシリル基の場合は反応
終了後、水で処理１−ることによりあ之）いはアルコー
ル中フッ化カリで処理することにより，容易にＮ−シリ
ル基Ｙ　ｔｓＬ離セしめることかでざる。

また一般式ＣＩ＋においてＲ１が水［・滅基の保護基の
場合、常法に従って保設＆ン除去することによりＲ１が
水素原子のものな得ることかでざる。

αーシリルｒｊｆ：ｖエステルと４位へテロ置換アゼチ
ジノン化合物をトリフルオロメタンスルホン酸トリメチ
ルシリルエステルの存仕下に反厄せしめ、アセチジノン
の４位に酢酸エステル基１９８１　、１０７６　）　４
−アセトキシアセチジノン化合物にエノールシリルエー
テルあるいはケテンシリルアセタルを反応せしめ、アゼ
チジノンの４位に炭素−炭素結合を生成せしめろ耕しい
方法が開発された、この反応に用いられるエノールシリ
ルエーテルあるいはケテンシリルアセタルげケトンある
いはエステルを強塩基で処理して脱プロトン化し、つい
でトリメチルクロルシランでシリル化して得られるもの
である。

この方法では出発物のケトンあるいはエステルがその分
子中に塩基に不安定な官能基を有する場合、目的とする
エノールシリルエーテルあるいはケテンシリルアセタル
を合成することは通常、困難である。また一般にエノー
ルシリルエーテルあるいはケテンシリルアセタルハ容易
に加水分解を受けてもとのケトン、エステルに決りやす
く、取扱いに注意を要する。

本発明者らは、α−シリル酢酸から容易に尋かれるその
エステル、チオエステル、アミドが上述のケテンシリル
アセタルと全く同様にアセチジノンの４位で炭素−炭素
結合を形成することを見い出した。本反応に用いる（Ｘ
−シリルｖ゛１５酸エステル、チオエステル、アミドは
α−シリル酢酸塩化物とアルコール、メルカプタン、ア
ミンとの反応によっであるいはα−シリル酢瞭とアルコ
ール、メルカプタン、アミンとを適当な縮合剤の存在下
、反応せしめろことによって得られる。反応条件が緩和
なので、拙々の官能基を有するα−シリル酢酸肪専体？
得ろことができ、化合物の安定ｉ牛もよいので取扱いや
すくクロマトグラフィーによる精製も可能である。

したがってｉ、ＧｌＭ、Ｂａｒｒθｔｔｉ等の方法では
合成困難なアゼチジノン（１［）も適当なα−シリ”　
Ｄ’Ｐ　Ｈｍ導体を用いろことにより一段階で合成する
ことが可能である。

本発明によって得られろ一般式（Ｉ）Ｙ有する新規アゼ
チジノン誘導体を第１表に例示する。たｙしこれによっ
て本発明を限定するもので（工な（＼。

表中の略号について以下に示す。

ｐｔｉｚ　：　Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基
ＯＮＺ　：　Ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル基Ｐ
ＮＢ　：　Ｐ−二トロペンジル基 ＯＮＢ　：　Ｏ−ニトロベンジル基 ＴＭＢ　：　トリメチルシリル基 本発明によって得られる一般式Ｆｌ）　Ｙ有するアすな
わち一般式ｆＩ）のＲ５が水素原子の場合はす （閏の窒素原子にアルコキシオキサ≠ル基を導入して化
合物（Ｖｌとし、またＲ５が１−アルコキシカルボニル
−２−メチル−２−７’ロペニル基〕場合化合物Ｉｖ）
’に塩基処理により１−アルコキシカルボニル−２−メ
チル−１−プロペニル体（４）としだ後オゾン酸化して
化合物（Ｖ）に導く （ＩＶ） （Ｖ） ｔ−Ｖ） （■〕（■） （式中）Ｒ’　、　Ｒ２，ＲＳ、　Ｒ’　、　Ｘ　オヨ
Ｄ　Ｙ　）２　前述したものと同一意義を示す。Ｒはカ
ルボキシ基の保繰基な示す。〕 化合物ｆｆ）を亜リン酸トリエチルと反応させることて
より、チェナマイシンで代表される強力な抗菌活性乞示
すカルバペネム誘導体（酬）に導くことが可能である。

以」二のことから明らかなように一般式（Ｉ）Ｙ有する
化合物は有用なカルバペネム誘導体合成の」１Ｌ安１１
」団体である。

以下に本発明の参考例および実施例を示す。

実施例１ （３Ｒ、４Ｒ）、　−４−アセトキシ−３−［（Ｒ）−
１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル］−
１−（トリメチルシリル）−２−アゼチジノン１８０　
Ｒ９（０，５０ｍＩＩｎｏｌｅ　）、（ｓ）−ｔ−（ｐ
−二トロベンジルオキシカルポニル）−３−（トリメチ
ルシリルアセチルチオ）ピロリジン４１４Ｒ９（１，０
０ｍｍｏｌｅ　）　’ｌ塩化メチレン３ｄに溶かし、つ
いでトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルエ
ステル１５　ｍｇ　（０，０７ｍｍｏｌｅ　）　’ｌ加
え、室温で１５時間放置する。反応終了後、反応液をＮ
■水の中に攪拌しながらあげる。有機層をわけ、水洗、
乾燥した後、溶媒を留去する。得られた残留物ケ分収用
薄層クロマトグラフィー〔展開溶媒：クロロホルムー酢
酸上５−ｋ（６：１）〕で分離精製し、得られる固体１
８５■（収率６７％）Ｙヘキサン−酢酸エチルから再結
晶して融点１０４−１０６℃を有する純品を得た。

工Ｒ７ペクト、　ν０ＨＯｔ５　−１゜ｍはｘＣｍ ３４１０　、１７７５　、１６８５ ＮＭＲスペクト＃　（ＣＤ（、！ｔ５）δｐｐｍ　：０
．０８　（６Ｈ、８）　、　０．８８　（９Ｈ、８）　
、　１．１９（３Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　６　Ｈｚ　）　
、　１．７〜２．５　（２Ｈ。

ｍ　３　＋　ＩＴ　〜３．０　（２Ｈｚ　ｍ　）　＋　
３．５３　（２Ｈ＊ｔ、、Ｔ＝７Ｈ２）１３．２〜４．
４（６Ｈ，ｍ）。

５．１９　（２Ｈ、ｓ　）　、　６．１５　（Ｉ　Ｈ、
ｂｒ　）　、　７．４２（２Ｈ、ｄ）　、　８．２０　
（２Ｈ、ａ　）実施例２ ル）−４−（ベンジルオキシカルボニルメチル（３バ、
ＪＲ）−４−アセトキシ−３−［（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル］−１−（１−７１ト
キシカルボニルー２−メチル−１−プロペニル）−２−
アゼチジノン１．０４　＃　（２，６１ｍｍｏｌｅ）、
トリメチルシリル酢酸ベンジルエステ＃　１．７４　ｇ
（７，８４ａ＋ｍｏｔｅ　）　Ｙ塩化メチレン１２−に
浴かし、ついでトリフルオロメタンスルホン酸トリメチ
ルシリルニスｆ　＃　５０　ｙＡ９　（０，２３ｒｎｍ
ｏｌθ）を加え、室温でＴ目間放置する。反応液を重留
水にあげ有機層？わけ、水洗、乾燥後、溶媒を留去する
。得られた残留物ｖｂ−バーカラム−Ｂ　（Ｆｉ、メル
ク社製）を用いる液体クロマトグラフィーで分離精製す
る。ヘキサン−酢酸エチル（４：１）混合溶媒で溶出し
、出発原料アゼチジノン１０９　Ｒ９（８，６％）を回
収して、ついで目的物６９３１１＋１７（収率５５チ）
を油状物として得た。

ＩＲスペクトＡ、　　ｖ　ｍａ：ｃ　ｃｍ　　・１７４
Ｇ　（ｂｒ、）ＮＭＲスペクト＃　（ＣＤＣ４５）δｐ
ｐｍ　：０．０９　　（６Ｈ、ｓ　　）　　、　　０．
８９　　（９Ｉ（、ｓ　　）　　、　　１．２３（３Ｈ
、ｅＬ　　、　　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ　　）　　、　
　１．８５　　（３Ｈ、ｓ）　　、　　２．１０　　（
３Ｈ、ｓ　　）　　、　　２．６７　　（２Ｈ、ｄ　　
、　　Ｊ＝　７　　Ｈｚ　　）　　、　　２．８５　　
（Ｉ　　Ｈ、ｄｄ　　、　　Ｊ　＝　６．５　　、　２
．５Ｈ２）、３６４　（３Ｈ，６）、３．９〜４．５　
（２Ｈ０Ｉｎ　　）　　、　　４．９０　　（Ｉ　　Ｈ
、ｄ　　、　　Ｊ　＝　１７　　Ｈｚ　　）　　、　　
５．Ｑ（ｉ（Ｉ　　Ｈｌｄ＊　　Ｊ−１２Ｈｚ　　）　
　、７２Ｂ　　（５Ｈ＊　ｓ　）実施例３ キシ−３−［（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル］−１−トリメナルシリル−２−アゼ
チジノン１．１０　ｇ（３，０６ｍｍｏ７ｅ　）と、ト
リメチルシリルチオ酢酸　Ｓ−フェニルエステル９６１
　Ｒ９（４，２９ｍｍｏｔｅ　）の塩化メチレン２〇−
溶液馨−２０℃に冷却し、屋素気流下トリフルオロメタ
ンスルホンｆ５Ｊ　）　ＩＪメチルシリルエステル０．
０７　ｒｎｌ　（０，３２ｍｍｏｔｓ　）を加えろ。−
１０°〜５℃で４．５時間撹拌した後、水を加えて反応
を終結させ、ｂｏ」益（１，メチレン層を冷型留水、飽
和食塩水で洗ン＝する。浴剤留去後のｒＡ置なエタノー
ル２．５ｎｔに浴かし、７ツ化カリウム５８■（１，０
０ｍｍｏｔθ）を加え室温で１．５時間攪拌する。反応
液を酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で洗い、浴剤
を留去する。残漬ヲローパー力ラム（凱メルク社製）を
用いて積装する。ヘキサン−酢酸エチル（２：１）混合
溶剤で溶出される部分を集め目的物９６Ｍｌｌ１収率８
３チ）を結晶として得た。

ヘキサンから再結晶すると融点９４〜９５℃の針状晶が
得られた。

元素分析値　０１９Ｈ２９ＮＯ，ＥＩＳｉとして計算値
：　０　、６０．１２　；　Ｈ、７，７０；　Ｎ　、　
３．６９　；Ｓ　　、　　８Ｊ５ 実損１１（ｉｑ　　：　　Ｕ　　、　　６［１，１１；
　　Ｈ、７，７２；　　Ｎ　　、　　３．６７　　；Ｓ
　　、　　Ｂ、５Ａ ＩＲＸ　ヘク）　）ｙ　　Ｖｌ！１ｕｊＯｔ、、−１゜
ａｘ ３１Ｂ０　．３０００　　、　１７６７　．１７２６　
．１７０３ＮＭＲスペクト／ｌ、　（０ＤＣ１５）δｐ
ｐｍ　：０．０８　　（６Ｈ、ｓ　　）　　、　　０．
［１８（９Ｈ、ｓ　　）　　、　　１．２１（、３Ｈ、
ｃｌ、　　、　　Ｊ　＝　６　Ｈｚ　　）　　、　　２
．７〜３．２　　（３Ｈｔ　　ｏ＋　　）　　＋　　４
．０　　（Ｉ　　Ｈｇ　　ｍ　　）　　＋　　４．’８
　　（Ｉ　　Ｈ。

ｑｕｉｎｔｅｔ　　、Ｊ　＝　６　Ｈｚ　　）＋　　６
．１０　　（Ｉ　　Ｈ、ｂｒ。

ｓ　　）　　、　　７．４　　（５Ｈ、ｓ　　）参考例
１ 窒業気流］・氷冷した（　３Ｒ、ＪＲ）　−４−アセト
キシ−３−［（Ｒ１−ｉ　−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シ１）ルオキシエチル］−２−アゼチジノン５０１７　
（０，１７４ｍｏｌｅ　）とトリエチルアミン２４．６
．９　（Ｑ、２４４ｍｏｌｅ　）のテトラヒドロフラン
ｓｏｏ　ｔｎｅ蕗液に、トリメチルクロルシラン２６．
５　ｇ　（０，２４４ｍｏｔｅ　）　’ｒ：加えろ。反
応温度を室温に戻し２時間撹拌する。

析出した沈澱物をセライトを用いたｆ濾過により除去し
、さらにエーテルで２回洗浄する。Ｐ液と洗液を合せ浴
剤を留去し、残虐にエーテルを加え、不溶物な１去する
。Ｃ液の溶剤を留去し、目的物６２．３　＆　（収率１
００チ）をヰ同体状として得た。

ＩＲスヘク）　／Ｉ／　　ｖ　ｎｕｊ０ｔＣ〃１−’　
：　１７７０　、１７４５ａｘ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＯＡ５　）δｐｐｍ　：０．０
６　（６Ｈ、ｓ　）　、　０．２６　（９Ｈ、ｓ　）　
、　０．８５（９Ｈ、ａ　）　、　１．１９　（３Ｈ、
’ｄ　、’Ｊ＝６Ｈ２）　、　２．０３　（３Ｈ、ｓ　
）　、　３．０７　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ。

Ｊ　＝　３　、　ｊ　ｉｉｚ　）　、　４．１３　（Ｉ
　Ｈ＊　ｄｑ　、　、Ｔ　＝：’　、ｂ　ＩＩＺ　）　
１６０４　（Ｉ　Ｈ、ｄ　＋　Ｊ　＝ＩＨｚ　）参考例
２ ５５係水素化ナトリウム１８２１ｇ（４，１６ｍｍｏｌ
ｅ）をヘキサンで洗ったあと、エーテル５　ｒｎｌに懸
濁させ、水冷ＸｆＬ押下、トリメチルシリル酢酸５００
ｔｎｇ　（３，７９＋ｕｔｎｏｔｅ）を加える。水素ガ
スの発生がおさまったら得られた乳濁液に同温度で攪拌
下、塩化オキサリル４８１扉９　（３，７９ｍｍｏｌｅ
　）を滴下する。１５分後、（Ｓ）−３−メルカプト−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジ
ン５００扉ｇ　（１，７７ｍｍｏｌｅ　）とエチルジイ
ソプロピルアミン２２９　Ｍｇ　（’１．７７　ｍｍｏ
ｌｅ　）　ｋ塩化メチレン５ｍ１Ｋ浴かした溶液をゆっ
くり滴下する。３０分間同温度で攪拌した後、′に留水
にあけ、有機層をわけ、水洗、乾燥した後、溶媒を留去
する。

得られる残留物をローバーカラム−Ｂｉ用いる液体クロ
マトグラフィー〔クロロホルム−Ｗ＋１エチル（１０：
１））で分離精製し、目的物２８２１ｇ（収率３８％）
を油状物として得た。

ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯ４）δｐｐｍ　：０．１５　
（９Ｈａ　ｓ　）　Ｉ２−３０　（２Ｈ、ｓ　）　、１
−Ｔ〜２．５　（２Ｅ（ｌ　ｍ　）　１３．５４　（２
Ｈ、ｉ　、　Ｊ　＝＝６．５　Ｈｚ　）　、　３．１〜
４．２　（３Ｈ、ｍ　）　、　５．２０　（２ＨＩＳ）
１７．５０（２Ｈ９ｄ）、８，１１（２Ｈ。

ｄ） 参考例３ チル ５５％水素化ナトリウム２３７　ｍｇ　（５，４１ｍｍ
ｏｌｅ）をヘキサンで洗浄し、エーテル６、　Ｓ　ｔｎ
ｌ！、　ｆ加えろ。この触δｊ数に、氷冷し、攪拌しな
がらトリメチルシリル酢酸６５０冒９　（４，９３ｍｍ
ｏｔｓ　）を加えろ。水素ガスの発生がおさまったら得
られた乳濁液に同温度で攪拌下、塩化オキサリル６２６
＋ｎｇ（４，９３ｍ＋ｎｏｔｅ　）を滴下する。１５分
後得られた乳濁液に水冷攪拌下、チオフェノール２５３
　ｍｇ　（２，３０ｍｎｏｏｔ６　）とジイソプロピル
エチルアミン２９８　ｍｇ　（２，３０ｍｍｏｌｅ　）
の塩化メチレン６、５　ｍｌｌ液液ゆっくりと滴下する
。３０分間同温度で攪拌した後、反応液を希重げ水にあ
け、分離した有機層を水洗、乾燥した後、溶剤を留去す
る。

得られる残置ヲローパーカラムーＢを用いる液体クロマ
トグラフィー〔ベンゼン−ヘキサン（１：１））で分離
精製し目的物２０６　′Ｍ９　（収率４０％）を油状物
質として得た。

’ＮＭＲＺ　ヘク）　ル（ＯＤＯｔ５　）δｐｐｍ　：
０．０６　（９Ｈ、ｓ　）　、　２．３４　（２Ｈ、ｓ
　）　、　７．３０（５Ｈ，ｓ） 参考例４ （３８、ＪＲ）　−３−［（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル］　−４’−［［（Ｓ）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロ゛
リジンー３−イルチオ］カルボニルメチル］−２−アゼ
チジノン５７．７　ｉｌｌ　（０，１０５ｍｍｏｌｅ　
）とトリエチルアミン３３　ｍｇ　（０，３３ｍｍｏｌ
ｅ　）の塩化メチレンａｍＪｉ液を氷冷し、窒業気流下
、ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル　クロリド７３
　ｍｇ　（０，３０ｍｍｏｌｅ　）　ｋ加えて、１時間
攪拌する。反応液を０．１　Ｍ　ＩＪン酸緩衝液（ｐＨ
７，２）にあけ、有機層を飽和食塩水で洗う。溶剤留去
後の残置ヲシリゲル１．３　ｉ　ｑ用いるカラムクロマ
トグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸エチル混合溶剤（
１２：１〜４：１）で溶出される部分を集め目的？！１
６７．８■（収率８３％）を油状物質として得た。

工Ｒスペクトル　ν０ＨＣ１，。

ａｘ １８００　、１７５４　、１６９５　、１６８２ＮＭＲ
スペクトル（ＯＤＯ７，）δｐｐｍ　：０．０３　（３
Ｈ、ｓ　）　、　０．１３　（３Ｈ、ｓ　）　、　０．
８５（９Ｈ，ｓ）、１．２３（３Ｈ，（１，Ｊ＝８Ｈ２
）　、　１．５〜２．５　（２Ｈ、ｍ　）　、　３．０
〜５．０　（１０Ｈ、ｍ　）　、　５．２３　（２Ｈ、
ｓ　）　、　５．４３　（２Ｈ。

８）、１．５０（２Ｈ１ｄ、Ｊ＝８）ｆ２）、７，５６
（７Ｈ、（１、Ｊ　＝　８　Ｈ２）　、　８．２２　（
４Ｈ、ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） 参考例５ チル （３Ｓ＋４Ｒ）−３［（Ｒ）−１ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル］−１−（ｐ−二トロベンジル
オキシオキサリル）　−４−［［（８１−１−（ｐ−二
トロベンジルオキシヵルボニル）ピロリジン−３−イル
チオ〕カルボニルメチル］−２−アゼチジノン１９０　
ｍｇ　（０，２５ｍｍｏｌｅ　）、亜リン酸トリエチル
２５０　ｍｙ　（１，５ｍｎｏｔｅ　）、　及びハイド
ロキノン１ｏ禦ｇ（０，Ｈｍｍｏｔθ〕のトルエン２０
ｍ７！溶液を９５０で１５時間加熱する。

薄層クロマトグラフィー上で原料が消失し、（３８、４
Ｒ）−３−［（Ｒ１−１ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル］−１−［１−（ｐ−二トロベンジルオ
キシカルボニル）トリエトキシホスホラニリデンメチル
］−４−ｃ〔（ｓ＋−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメ
ナル］−２−アゼチジノンと目的とするカルバペネム化
合物が認められる。溶剤と過剰の亜リン酸トリエチルを
減圧上留去し、残った油状物質に舎びトルエン２０−を
加え４９５℃で５１時間加熱Ｌ、ホスホラン化合物の猿
化反応を長結させろ。浴剤留去後の残置なローパーカラ
ムを用いて４１’ｉ　４Ｊ！！する。ベンゼン−酢岐エ
チル（２１）混合餅剤で前出される部分を集め、目的物
１５１．５’１４９　（収率８３％）を油状物質として
得た。

工ＲスペクトＡ／　　ｖ　ＣＨＣ”　Ｃｌ７１−’　：
　１７７Ｑ　、　１６９５ａｘ ＮＭＲスペクトル（０ＤＯ２５）δｐｐｍ　：０．０７
　（６Ｈ、ｓ　）　、　０．８７　（９Ｈ、ｓ　）　、
　１．２４（３Ｈ、ｄ　、　Ｊ＝　６　Ｒ２）　、　１
．６〜２．８　（２Ｈ、ｍ）、２．８”−４，５（１０
Ｈ，ｍ）、５．１４（ＩＨ、ｄ、Ｊ＝１４Ｈ２）、５．
１１１（２Ｈ１８）１５．４１　（ＩＨ、ｄ、　Ｊ　＝
１４ｋｌｚ　）　、　７．４６　（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９Ｈ
ｚ）、７．６１（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ　）　、　８．
１７　（４Ｈ、６、Ｊ　＝９Ｈｚ　）特許出願人　三共
株式会社 代理人　弁理士樫出庄治 手続補正書（自発） 昭和５８年１０月７日 特許庁長官若　杉　和　夫　殿 １、事件の表示 昭和５１年特許願第１４５５７４　　号２、発明の名称 アゼチジノン誘導体およびその製造法 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所　〒１０３東京都中央区日本橋本町３丁目１番地の
６名称　　　（１８５）三共株式会社 三共株式会社内 ６、補正の対象　明細書の特許請求の範囲及び発明の詳
細な説明 ７、補正の内容　　別紙の通シ １、　明にｌｉｔ　ＧＬｉの特許請求の範囲を下記のよ
うに訂正する・・ （１）　　一般式 〔式中、Ｒ１は水素原子または水酸基の保護基を　Ｒ２
およびＲ３は同一または異なる水素原子、低級アルキル
−）、：；またはアリール基を、Ｘは酸素原子または（
Ｄｉｊ黄原子を、Ｙはイミノ基もしくはアルキルイミノ
基、酸素原子またはイト「黄原子を、Ｒ４ｈ−アルキル
基、置換基を有するアルキル基、アラルキル力１、脂環
式複素環置換アルキル基、ＪＩｉＪ重式抜累狽基、アリ
ール基、または芳香族抜索狛基を、Ｒ５は水素原子また
はアミド基の床置↓１：を示す。たたしＸおよびＹが酸
素原子、Ｒがアルキル基またはアラルキル基の場合はＲ
がアミド基のｋ　ｉｌ’４　Ｘである。〕を有するアゼ
チジノン誘導体。

（２）　　一般式（１）においてＲ２およびＲ５が水素
原子、ＸおよびＹが酸素原子、Ｒかアルキル基または保
−基を示す。）である特許請求の範囲第一項記載の化合
物。

（３）　　一般式（１）においてＲおよびＲ３が水素原
子、Ｘが酸素原子脣たは硫黄原子、Ｙは硫黄原子、Ｒ４
が置換基を有するアルキル基、アラルキル基、脂珍式陵
素珍置換アルキル基、脂耳・Ｉ式神素環基、アリール基
才たは芳香族複素環基、Ｒが水素原記載の化合物。

（４）一般式 ＯＲ’ 〔式中　Ｒ１は水素原子または水酸基の保護基を　Ｒ５
は水素原子またはアミド基の保護基を、Ｒ６は脱離卑を
示す。〕を有する化合物に一般式 子、アルキル基またはアリール基を、Ｘは酸素原子また
はイメｉ黄原子を、Ｙはイミノ基もしくはアルキルイミ
ノ基、酸素原子または硫黄原子を、Ｒ４はアルキル基、
置換基を有するアルキル基、アラルキル基、脂壌式複累
猿置侯アルキル基、Ｉノ＝猿式複素額基、アリール基ま
たは芳番族複禦項基を、］（、ＲおよびＲは同一または
異なるアルキル基、了り−ル基を示す。〕を有する化合
物を反応させることを特徴とする 一般式 〔式中、Ｒ％は水素原子または水酸基の保１獲基を、Ｒ
２およびＲ３は同一または光なる水素原子、低級アルキ
ル基またはアリール基を、Ｘは酸素原子または硫黄原子
を、Ｙはイミノ基もしくはアルキルイミノ基、酸素原子
または硫黄原子を、Ｒ４はアルキル基、置換基を有する
アルキル基、アラルキル基、脂環式複素環置換アルキル
基、脂環式複素環に１アリール基、または芳香族複索環
基ｋ、Ｒ”は水素原子またはアミド基の保護基を示す。

〕を有するアゼチジノン誘導体の製造法。

２、　明細書第５頁第１行の 訂正する。

３　明輝１１″１第５百下から第２行乃至下から第１行
のｒ　２．２．２−　）リブロムエチルオキシカルボニ
ルＪ　ｉ　ｒ　２．２．２−　）リブロムエトキシカル
ボニル」と訂正する。

４、　明ｎ１ｌＩ１店′第５百下から第１行乃至第６頁
第１行のｒ　２．２．２−トリクロルエチルオキシカル
ボニルＪ　’ｘ　［２，２，２−）リブロムエトキシカ
ルボニル」と訂正する。

５　明細−１第６頁第１行の「ｔ−ブチルオキシカルボ
ニル」を「ｔ−ブトキシカルボニル」ト訂ＩＥする。

６　明輝１イ１第６頁第２行の「２−トリメチルシリル
エチルオキシカルボニル」をｒ２−（）！Ｊメテルンリ
ル）エトキシカルボニル」と訂正する。

乙　明卸１ｉｔ）Ｍ６６頁第３の「オキ７カルボニル基
」を「アルコキンカルボニル基」と訂正する。

８　ゆＪ卸１召第６頁第５行の［２−トリメチルシリル
エチルオキシメチルＪ’１ｒ２−（）ジメチルシリル）
エトキシメチル」とｆｆ　、Ｅ　スる。

９　明細書第１頁第８行乃至第９行の「ｔ−ブチル、ジ
メチルシリル」を「ｔ−ブチルジメチルシリル」と訂Ｉ
Ｅする。

１０、明細書第１頁下から第２行乃至下から第１行の「
ｔ−ブチルオキ７カルボニル」を「ｔ−７”トキシカル
ポニル」と訂正スル。

１１、明細書第１頁下から第１行乃至第８頁第１行のｒ
　２．２．２−トリクロルエチルオキシカルボニルＪ　
ｆ：　ｒ　２．２．２−　）　！Ｊ　クロルエトキ７カ
ルポニル」と訂正する。

１２、明細書第８頁第１行乃至第２行の「２−トリメチ
ルシリルエチルオキシカルボニル」を「２−（トリメチ
ルシリル）エトキシカルボニル」と訂正する。

１３、明細す第８頁第４行乃至ε（１５行の「オキシカ
ルボニル基」ヲ「アルコキンカルボニル基」ト訂正する
。

１４、明細書画８貞下から第５行の「保め」を「修飾」
と訂正する。

１５、明細＠第８頁下から第４行乃至下から第３行のｒ
２−（２−アミノエチル）オキシエチルＪ’５ｒ２−（
２−アミノエトキシ）エチル」と訂１１Ｌする。

１６　　明＃ＩＩＩ　Ｓ、’（第８白°下がら嬉３行乃
至下から第２行のｒ２−（２−アミノエチル）オキシ−
１−メチルエチル」をｒ２−（２−アミノエトキン）−
１−メチルエチル」と訂正する。

１１　　明！！１ｊ店第８頁下から第２行乃至下から第
１行のｒ２−（３−アミノエチル）オキシエチル」ｔｒ
２−（３−アミノプロポキン）エチル」ト、１正する。

１８　　明＃ｌｆｌ　４ｊ第８頁丁から第１行乃至第９
頁第１行のｒ３−（２−アミノエチル）オキシプロピル
」をｒ３−（２−アミノエトキシ）プロピル」と１）」
ｌニする。

１９、明細人出９頁第１行乃至第９頁第２行のｒ３−（
２−アミノエテル）オキシ−１−メチルプロピル」をｒ
３−Ｌ（２−アミノエトキシ）−１−メチルプロピル」
と訂正する。

２０、明細ｊ、（：第１２頁下から第４行乃至丁から第
３行の「ｔ−）゛チルオキンカルボニルメチルＪ　Ｋ−
「ｔ−ブトキシカルボニルメチル」と訂正する。

２１、明細香箱１４頁第６行の「ｒｌ−プロピルチオ」
を「プロピルチオ」と訂正する。

２２、明細書第１８頁第１２行の「γルキルスルボニル
スルホニル基Ｊ　ヲｒアルキルスルホニル基」と訂正す
る。

２３、明細書第１８頁第１２行乃至２ａ１３行の「アリ
ールスルホニル」を「了りルスルボニル」と訂正する。

２４　　明輝１七第１８頁下から第６行の「エチルスル
ホニル」ヲ「エチニルスルホニル」ト訂正スル。

２５　　明輝１養第１９頁第５行乃至第６１−〒の「３
−ンクロベンテルグロピルＪ’１ｒ３−シクロペンチル
プロピルスルホニル」と訂正する。

２６、明細仙第１９頁第６行乃至第１行の「２−シクロ
ベンチルプロビル」を「２−７クロベンチル１０ピルス
ルホニル」ト訂ＩＥスる。

２７、明細書第１８頁第１２の「低級７クロアルキルア
ルキル基」を「低級シクロアルキルスルホニル基」と訂
１）二する。

２８　　明＃ｌ＋＋ｐ、５；Ｂ　２　ｔ　Ｎ下から第１
行の「ｎ−ブチリルアミノ」ヲ１ブチリルアミノ」と訂
正する。

２９　　明細、１ト第２２α下から第３行の「ｎ−プロ
ピル」を「プロピル」と訂１１−する。

３０　　明＜、ｌｌ；休出２３ば下から第１行の「ｔ〜
ズブチルオキカルボニル」をｒｔ−ブトキシカルボニル
」と訂＋Ｉｉする。

３１、明輝１テ；２１′＞　２４頁下から第９行乃至下
から第８イーテの「２−トリメチルシリルエチル基」ヲ
「２−（トリメチルシリル）エチル基」と計重する。

３２、ゆ４　＊ｌｉｌ　ｌ：第２５頁第２行の「ジメチ
ルｔ−ブチルンリルＪ’ｋｒ　ｔ−ブチルジメチルシリ
ル」と訂正する。

３３、す」、↑＋ｉｌｌ計弔２５貞第９行乃至第１１行
の「メメその立体配位には特に限定はなく、すなわち・
・・・・・その混合物である。」を「Ｘ・Ｘその立体配
位は峙（（限定はない。」と訂正する。

３４　　明７ｉｉ１１　ｉ！：第２５頁下から第８行の
「ジメチルーリル」と訂正する。

３５、明ａ１岩２６頁第２行乃至第３行の「２−ジメチ
ルｔ−ブチルシリルオキシ−１−メチルエチル」をｒ２
−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−メチルエ
チル」と訂正する１、３６、明細書第２６頁第６行乃至
第８行の「２−（２−１）−二トロペンジルオキシ力ル
ポニルエチル）オキシ−１−メチルエチルＪＴｈｒ２−
（２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）エトキ
シ〕−１−メチルエチル」と訂正する。

３７、明細梵−第２６頁第９行乃至第１０行のｒＮ−ア
セチルピロリジン−３−イル」を「１−アセチルピロリ
ジン−３−イル」と計重する。

３８　　明Ｍ１１何第２８頁ｔＪ１行の「カルボニル）
１−プロベニル、」ヲ「カルボニル）−１−７’ロペニ
ル、」と訂正する。

３９、明細書第２８頁第３行の「カルボニル）２−プロ
ペニル、Ｊｔ−ｒカルボニル）−２−７”ロベニル、ｊ
と訂正する。

ベニル、Ｊ’ｉｒボニル）−１−７”ロペニル、」と訂
正する。

４１、明に用刊・第２８頁第１０行の「２−トリクロル
エチルオキンカルポニル）２−Ｊをｒ’　２−　）　Ｉ
Ｊり【コルエトキノカルボニル）−ｚ−ｇと訂正ｆる。

４２　　明＋ｆｔ１ｌｌ　４ｉ第２８頁下から第１行乃
至■がら第６行の「ジメチル−ｔ−ブチルシリル基」−
１ｒｔ−ブチルジメチルシリル基」と訂正する。

４３　　明イ１）１．・ｉ−Ｊル２８頁下から第３行の
４４　　リｊ祠貴第３０貞第２行の「ルエステル、三弗
化ホウ素エーテル錯体、」を「ルエステル、また社三弗
化ホウ索エーテル錯体、」と訂正する。

４５　　明＃ｉｉｌも）第３０頁第４行の「ミニラムな
どの在存下に、」ヲ「ミニラムなどがうえらばれた触媒
の在存下に、」と訂正する。

４６、　ｆｕｌｌ省第３０真下から３行の「α−７リル
酢醒エステル、！：　Ｊ’ｅｒα−シリル酢酸エステル
（ＩＩＤと」と訂正する。

４１、明細査第３０頁下から２行の「ゼテジノン化合物
を」を「ゼテジノン化合物（［）を」と訂正する。

４８　　明細書第３１頁第５行の１−４−了（！トキシ
アセチジノン」を「４−アセトキシアゼチジノン」と訂
正する。

４９　　開面１４！Ｉｇ３１頁第５行の「エノールシリ
ルエーテル」ヲ「シリルエノールエーテル」と訂正する
。

５０、明Ｍ１１梠第３１頁第５行乃至第６行の１ケテン
シリルアセタル」を「Ｏ−シリルケテンアセクール」と
１７丁圧する。

５１、明細書第３１頁第８行乃至１１′↓９行の「エノ
ールシリルエーテル」を「シリルエノールエーテル」と
訂正する。

５２、明細書第３１頁第９行乃至第１０行の「ケテンシ
リルアセタル」を「０−７リルケテンアセクール」と訂
正する。

５３ＩＩＪＩ前’ｌ’ｌ！Ｆ第３１頁下から第６行の「
エノールシリルニーデル」ヲ「シリルエノールエーテル
」と訂正する。

５４、　”Ｊｉｆｆ！１＋−ｉ！；ｉｕ”／　３１　Ｑ
下ｆｌ’う第５　行）ｒ　ケテンシリルアセタル」をｒ
ｏ−シリルケテンアセタール」と、ｆ丁正する。

５５　　明、！３４ｊｊ；第３１頁下がら第４行乃至Ｆ
がら第３行の「エノールンリルエーテルＪ−＆ｒシリル
エノールエーテル」と訂正する。

５６　　明５Ｊｌｌ　川”ｉ；’ｒ　３１　’ｂＪ下か
ら第３行の「ケテンシリルＴ・１どクルＪ’ｔｒ　Ｏ−
シリルケテンアセクール」とｒ＋Ｔ　、ＩＦ−する。

５７　　明細Ａ！：’　４Ａ　３２　Ｌ′￥第３行の「
ケテンシリルアセタル」を［０−シリルケテンアセクー
ル」と訂正する・］ ５８　　開面１・１・：’　；Ａ’ｔ　３２　Ｎ下から
第５行の「アゼチジノンω１）」を「ア）どチジノン（
１）」とＬｌ−ｉ五する。

５９　　明πｌｌ　４；第３３頁第２行と第３行の間に
「Ｈ：ｉＴ、−表」を追加する。

６０　　明細書第３３頁第３行の する。

６１、明細書第３３頁下から第４行第８列」　　　　　
　　」 ６２、明細書第３１頁第５行第８列の ｒ　５ｉ（ＣＨ３）３」を「ＴＭＳ」と訂正する。

６３、明細ヤｊにα３８頁第４行第２列のｒ　５ｉ（Ｃ
Ｈ５）２ｔＢｕ　Ｊ　ｆ！：ｒ　５ｉ（ＣＨ３）２Ｂｕ
’　Ｊと訂正する。

６４、明ＭＢ書第３９頁第３行第２列 「５ｔ（ｃＨ５）２１．ＢｕＪ　−＠　ｒ　５ｔ（ａｎ
３）、、ｎｕ”　Ｊと訂正する。

６５、明細書第４１頁第２行の「Ｐ−ニトロペンジルオ
キ／カルボニル基Ｊｅｒｐ−ニトロベンジルオキ７カル
ボニル基」と訂正する。

６６　　明に１１１−μ」第４１頁第３行の「０−ニト
ロペンシルオキ７カルボニル基」を「０−ニトロベンジ
ルオキ７カルボニル基」と訂正する。

６１、明輝１書第４１頁第４行の「Ｐ−ニトロベンジル
Ｊ（Ｊ　’＜　ｒ　ｐ−ニトロベン−ゾル基」と訂正す
る。

６８　　明輝１告・淋４１貞第５行の「０−ニトロベン
ジルＶ＋！」ｋ　ｒ　ｏ−ニトロベンジル基」と訂正す
る。

６９、明細入・１第４１頁下から第２行のと訂正する。

７０　　明ｉ咀１ｊｉ第４２頁嬉３行のと訂正する。

γ１．明細１第４２頁第５行の と訂正する。

７２、明細書の第４２頁の下から第３行乃至下から第２
行の「チェナマイシンで代表される強力な抗菌活性を示
す」を削除する。

７３、明細書第４２頁下から第１行臥下に次の文を追加
する。

「必要に応じて化合物（■１１）の水酸基の保護基Ｒ１
、Ｒ４にアミン基の保護基を含む場合にはその保護基お
よびカルボキシ基の保護基Ｒを常法に従って除去すると
、チェナマイシンで代表される強力な抗菌活性を示すカ
ルバペネム調導体が得られる。」 １４、明細書第４５頁下から第１行の「νｍａｘ」を「
シＣＨＣ７３，と訂正する。

Ｔ５　　切創１ｊｔｒＬ　４８負相Ｔ行と第８行の間に
次の字句を退カロする。

「実ｈＩＩ１例４ （３，Ｒ，４Ｒ）　−４−アセトギシー３−　［（Ｒ）
　−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ７カルポニルオキ７
）エチル）−１−（トリメチルシリル）−２−アゼチジ
ノン３０　ｍ９　（０，０５１ｍｍｏｌｅ）と５−（２
’−［Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−
Ｎ−（）リメチルシリル）アミン〕エチル〕（トリメチ
ルシリル）エタンチオエート４１ｍ９　（０，１０６＋
ｎｍｏｔｅ）を塩化メチレン０５ｄに溶かし、窒素気流
下トリメチルシリルメタンスルホン酸トリメチルシリル
エステル　３　ｍ９（０，０１４ｍｍｏｌｅ）を加える
。室温下２４時間放置した後、反応液を５チ重ａ水に冷
却ＩＩ？　（＜１！下あけ、１０分間ｉｔ拝する。酢酸
エチルで抽１ｆＩ　Ｌ、飽ａ食塩水で洗い乾燥後溶媒を
留去する。残留物をシリカゲルの分取用薄層クロマトグ
ラフィー〔展開溶媒：ベンゼンー酢醒エテル（１：２）
］で精製して２９　ｍ９（収率６９％）の目的物を油状
物として得た。

Ｉ　ａｘペク）ル　ｖｏ””５ｃｍ　’：３４６０，３
４２０゜ａＸ １７６３　、１７５０　（ｓｈ、）、１７３０　（ｓｈ
、）、１６８５ＮＭＲスペクトル（ｃＤａｚ３）δｐｐ
ｍ　’１．４０（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６Ｈｚ）。

２．６〜３．６（γＨ，ｍ）。

３．９１（ＩＨ，ｍ）。

５．１３（２Ｉ（、ｓ）。

５．１９（２Ｈ，ｓ）。

４９〜５．５（２Ｈ，ｍ）。

６．６７　（、１）１　、　ｂｒ、ｓ）　。

７４５　（２ｎ　、　ｄ、　）。

７．４８（２Ｔ（、ｄ）。

８．１６（２）Ｔ、ｄ）。

８、１９　（、２Ｈ、ｄ、　） −人６ｈ担１ンリ　５ （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−〔（ト））−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチ
ル］−１−（）リメチルシリル）−２−アゼチジノン５
３　Ｔｎｇ　（Ｑ、１２Ｓｍｍｏ１．ｅ）と（ｓ）　−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−３−（
トリメチルシリルアセチルチオ）ピロリジン１０３　ｍ
９　（０，２５ｒｏｍｏｌｅ）　’Ｑ塩化メチレ＞　ｊ
　ｍｌに溶かし、この訝液にトリフルオルメタンスルホ
ン酸　トリメチルシリルエステル５　ｍ９　（０，０２
３ｍｍｏｌｅ）を加え、窒素雰囲気下室淵で２８時間静
ｔθする。

反応拶をクロロホルムで系釈し、冷型留水で洗浄する。

乾ハパす後溶媒を留去しイυられる残留物をテトラヒド
ロフラン−水（４：１）３ｍｌに溶かシ、ピリジン−ｐ
−トルエンスルホン酸塩３　”９を加えて室温で３０分
間静置する。酢酸エチルを加えて水洗し、乾燥陵溶媒を
留去して得られる残留物をシリカゲルの分を用薄層クロ
マトグラフィー〔展開溶＃、：ベンゼンー酢酸エチル（
２：　１　）　）　ＴＩ＋Ｙ製して目的４２１１６７　
ｍｇ　（収率８γ％）を固体として得た、ベンゼンから
再結晶を行い、融点５４〜５６℃を有する板状晶を得た
。

元素分析値　Ｃ２７Ｈ２８０１１Ｎ４Ｓとして計算ｆ直
　：　　Ｃ，５２，５９；Ｈ，４，５８；Ｎ、９．０９
：Ｓ、５．２０ 実７１１１１値：　Ｃ，５２，８８；Ｈ，４，５４；Ｎ
、８．９３；Ｓ、５．４７ ＣＨＣｌ　　　　−１ １Ｒスペクトル　ｖ　　　３ｃｍ　　：３４１０，１７
６０゜ａＸ １６８８ 比ｊＩ２　ｊｆ　ｍ、’、　Ｃ（１）　２”＋　５．、
３°（ｃ−０，５５’、　ＣＨｃＬ　）５ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　’１．４４
（３Ｈ、ｒｉ、Ｊ＝−６Ｈｚ）。

１．６〜２．７　（２Ｈ、ｍ　）　。

２．１〜４．５（１０Ｈ，ｍ）。

５、１９　（２Ｈ、ｓ　）　。

５．２２（２Ｈ，ｓ）。

６．３５（ＩＴ（、ｂｒ、）。

７．４７　（２１１ｊｃｌ、）　。

７．５１（２Ｈ，ｄ）。

８．２０（４Ｈ，ｄ） 実施例６ ジルオキシカルボニルオキシ）エチル］−２−アゼチジ
ノン （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキン−３−（：（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキ７カルポニルオキク）エチ
ル）−１−（）リメチルシリル）−２−アゼチジノン５
０　ｍｌ／　（０，ＩＨ１ｍｍｏ／、ｅ）と（ｓ）　−
１−［Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ア
セトイミドイル］−３−（トリメチルシリルアセチルチ
オ）ピロリジン１０３　’ｎ９　（０，２４ｍｍｏ７ｅ
）を塩化メチレンＱ、　Ｑ　ｍｌに溶かし、これにトリ
フルオルメタンスルホン酸トリメチルンリルエステル６
３　ｍｇ　（Ｑ、２８ｍｍｏｔｅ）を加え窒素雰囲気下
室温で１４時間静置する。反応液を氷冷し、５チ重曹水
５　ｍｌを加え１０分間拐拌する。酢酸エチルで抽出し
、水洗、乾燥後溶媒を留去して得られる残留物をシリカ
ゲルの分取用薄層クロマトゲラフイー〔展開溶媒：ベン
ゼンー酢酸エチル（１：２）〕でｆｉＩｌｊＪｉ４　し
て目的物４５ｍｇ（収率５８％）を油状物として得た。

ＣＨＣｌ　　　　−１ 工Ｒスペクト＃　　Ｕ　　　３Ｃｍ　　：３３８０゜ａ
ｘ 　６８　Ｏ ＮＭＲス６クトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　’１．４１
　（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，５Ｈｚ）。

１．７〜２．５　（２Ｈ、ｍ　）　。

２、２７　（３Ｈ、ｓ　）　。

２．８４（２Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ）。

３、Ｏｉ　（ＩＨ、ａｄ　、Ｊ−８、２，５Ｈｚ　）　
。

３．３〜４．２　（５Ｈ、ｍ　）　。

５．１（ＩＨ，ｍ）。

５、　Ｉ　Ｔ　（２Ｈ、ｓ　）　。

５．２０（２Ｈ，ｓ）。

６．３２（ＩＨ，ｂｒ、）。

ｒ、５１（４Ｈ，ａ）。

８１γ（’ｚ　Ｈ＊　ｄ）　。

ａ、ｚｏ（２Ｈ，ａ）　　　　　Ｊ Ｔ６．明糾倶第５５頁第１５行と第１６行の間に次「参
考例６ ジノン （３８，４Ｒ）　−３（（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル：］−４−［（フェニル
チオ）カルボニルメチルツー２−アゼチジノン７４１　
ｍ９　（１，９７ｍｍｏｌｅ）とトリエチルアミン３９
８〜（３，９４ｍｍｏｔｅ）の塩化メテレ＞　２０　ｒ
ｔｌｌ溶液を氷冷し、？素気流″Ｆｐ−二トロペンジル
オキシオキサリルクロリド９６０１１１７　（３，９４
ｍｍｎｔｅ　）を加え、２時間接伴する。反応液に０．
１　Ｍ　！Ｊン酸１．１や）ｉ液（ｐＨ７，２）を加え
反応を終結させ、有機ＩＡを水洗する。乾燥後、溶剤を
留去し、残渣をンリカゲル１５ｙｙ＜用いるカラムクロ
マトグラフィーに＋Ｉｊ、ヘキサンー酢酸エチル（６：
１〜３：１）で溶出される部分を集め、１．０３２９（
収率８９％）の目的物を油状物質として得た。

□□オベクトヤ　ｖＣＨ”３＞　１よ ａｙ １８０５．１７５７，１６９！１，１６０９，１５２２
゜１３４４ ＮＭＲスペクトル（ＣＴ″Ｃｔ３）δｐよニーｏ、ｏ２
（３ｕ、ｓＬ ０．０４（３Ｈ，ｓ）。

０．０８（９Ｈ，ｓ）。

１．１４（３Ｈ，ｒｉ、Ｊ−６Ｈｚ）。

３．１１（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−１５，ＢＨｚ）。

３．３５（ＩＨ，ｔ、Ｊ−３Ｈｚ）。

３．４３（ＩＨ，ｉｄ、Ｊ−１５，４Ｈ２）。

４．２９（ｑｄ、Ｊ−６，３Ｈｚ）。

４、ｆｔ４（ＩＨ，ｄａｄ、Ｊ−８，４，３Ｈ２）。

ｓ３ｒ（２Ｈｍｓ）＋ ７．５２（２Ｈ，ｄ、Ｊ−８Ｈｚ）。

８．１６（２Ｈ，ｄ、Ｊ−８Ｈｚ） 参考例Ｔ （３８’、４Ｒ）　　３−（（Ｒ）　　１−　ｔ、ｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ］−１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシオキサリル）−４−［（フェニルチオ）
カルボニルメチルツー２−アゼチジノン１１４１１Ｖ）
　（０，１９４ｍｍｏｌｅ）と亜リンへ？トリエチル２
５Ｂ　１１４９　（Ｌ５５ｍｍｏ／、ｅ　）　ｋ　）ル
エン１ｒＪｍｌに浴かし、触媒縫のハイドロキノンを加
えて９素気流下１００℃で１８時１′ｌｌｌ加熱する。

溶媒を減圧下留去して得られる残留物をローパーカラム
（Ｅ。

メルク社製）を用いるクロマトグラフィー〔展ｊｉｒ４
　／ｉ’；　Ｉｔ！／、：ヘキサンーアセトン（３，５
：　１　）に付し、目的物９５　ｍ９（収率８８グ〕を
固体としてイυた。アセトン−ヘキサン混合溶媒から再
結晶全行い、Ｊ（、ｌ、１．；、；ｉ、　１４４〜１４
５．５℃の無色針状晶を得た。

元素分析＋１ｆｆ　　０２８　Ｈ３４Ｎ　２０６　Ｓ　
Ｓ　ｔとしてｆｉ＋　！？：　ｌ’１μ：　Ｃ，６０，
６２；Ｈ，６，１８；Ｎ、５．０５：Ｓ、５．７８ −）６１１１　イ直　：　　Ｃ，６０，５０：Ｈ，ａ、
１１；Ｎ、４．７７：Ｓ、５．９１ 工Ｒ７ヘクト４２．ｎ１１ｊ０ｔ−１゜Ｃｍ　　　。

ａｘ １γ７７．１６９γ、１５２４ Ｎ　Ｍ　Ｒスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ’０．０
６（６Ｈ，ｓ）。

０．８３（９１（、ｓ）。

１．１５（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６Ｈｚ）。

２．６３（２Ｈ，ｄ、Ｊ−１０Ｈ２）。

３．０５（ＩＨ，ｄａ、Ｊ、、−４１，２Ｈ２）。

４．０４（ＩＨ，ｄａ、Ｊ−１０，２１（ｚ）。

４．１９（ＩＨ，ｄｑ　、Ｊ−４，６Ｈｚ）。

５．２２（ｊＨ，ｄ、Ｊ−１４Ｈｚ）。

５．５０（７Ｈ，ｄ、Ｊ−１４Ｈｚ）。

７．２〜乙γ（５ｎ１ｍ）。

乙６４（２Ｔ（、ｄ、Ｊ−９Ｈｚ）。

８．１９（２Ｈ、ｄ　　、Ｊ−９Ｈｚ）参考例８ （ＣＨ３）３ｆ：３１ＣＨ２ＣＯＢＣＨ２ＣＨ２ＮＨＰ
ＮＺ２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ
）エタンチオール５１２ｍρ（：？、００ｍｍｏｔｅ　
）　。

トリメチルンリル酢酸２６４　ｍ９　（２，００ｍｎｏ
ｔｅ　）　。

シンクロヘキシルカルボジイミド４５５　Ｉｎ！７（２
，２０ｍｎｏｔｅ　）　、　４−ジメチルアミノピリジ
ン１０〃９をベンゼン１０ｍ１に溶かし、９累気流下室
温で５５時間攪拌する。水１００ηを／Ｊｎえて１０分
間攪拌し、過剰のジシクロへキンル力ルボジイミドを分
１Ｔｆｆする。不溶物を濾過して除き、濾液をノリ力ゲ
ル３グのカラムに通す。ベンゼン−酢酸エチル（１：１
）混合溶媒で流し、集めた溶？夜’４１：減汀、下留去
する。残留物をローバーカラムＢをハｊいるクロマトグ
ラフィーで精製する、ヘキサン−酢ｔｑＩ′ｒエチル（
２：１）混合溶媒で溶出してト１約物４５５　ｍｙ　（
収率６１裂）を結晶として佑だ。ヘキサン−ベンゼン混
合溶媒より魯結晶して融点４９〜５０℃を有する純品を
得た。

元素分析ｆ［０Ｃ１５Ｈ２２Ｎ２０５ＳＳ１として１１
ｔ７１１Ｂ７　：　Ｃ，４８，６３：Ｈ，５，９８：Ｎ
、７．５６　；Ｓ＃　８−６５ 実ｉ則１直　：　　Ｃ，４８，５３；Ｈ，６，２８；Ｎ
、７．４４；Ｓ、８．６７ ｎｕ、）ｏ／−−１。

ＩＲスペクトル　νｍａｘ　　Ｃ１ｎ。

３　３４０．１７１９．１６６Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ２３）δｐｐｍ　’０．１５
（９Ｈ，ｓ）。

２．３２（２，Ｈ，ｓ）。

２．６〜３．６　（４Ｈｊｍ　）　。

５．１８（２Ｈ，ｓ）。

−５，２（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、）。

７．４８（２Ｈ，ｄ）。

８．２０（２Ｈ，ｄ） 参考例９ チオエート ８−（２−（ｐ−ニトロベンジルオキ７カルポニルアミ
ノ）エチル）（）リメチルンリル）エタンチオニー）　
４１　ｍ９（０，１１１ｍｎｏｔｅ　）、ビス（トリメ
チルシリル）トリフルオルアセトアミド８６　ｍ９　（
０，３３ｍｍｏｔｅ　）　、４−ジメチルアミノピリジ
ン１即をテトラヒドロフラン１−３ＭＩＶＣＩ？４かし
、窒素気流下室温で３０時間放置する。反応終了後、室
温域圧下溶媒を留去し残留物をベン−ビンー酢凸ン゛エ
チル（１０：１）Ｋｍがしシリカゲル３００ｍｊ／のカ
ラムをすばやく通す。溶媒を減Ｆ１−″Ｆ′貿去して目
的物４１ｍ９（収率９６％）ｅ油状物として伯だ。

Ｉ　Ｒスヘクト／ｌ／　　ｖ　　’ｌ’ｃｍ　　：１７
０２，１６１８ａｒ ＮＭＲスペクトル（ｃＤｃｚ３）δｐｐｍ’０．１３（
９Ｈ，ｓ）。

０．２８（９Ｈ，ｓ）。

２．３ｏ（２Ｈ，ｓ）。

２．７〜３．５（４Ｈ，ｒｎ）。

５．２０（２Ｈ，ｓ、）。

１．４８（２ａ、ａ）。

８．１９（２Ｈ，ａ） 参考例１０ （３Ｂ　、４Ｒ）−４−（（：　２−（ｐ−二トロペン
ジルオキシ力ルポニルアミノ）エテルチオ〕カルボニル
メチル］　−３−Ｃ（Ｒ）−１−（ｐ−二トロペンジル
オキシ力ルポニルオキ７）エチルツー２−アゼチジノン
３５８　ｍ９　（０，４４９ｍｍｏｌｅ　）を塩化メチ
レン８ｒＬｌに溶かし、０℃で攪拌しながらトリエチル
アミン１８４　ｍｆ／　（１８２ｍｍｏｌｅ　）ついで
ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリルクロリド４４３ダ
（Ｌ８２ｍｍｏｔｅ　）を加える。同温度で１時間攪拌
した代、反応液を０．１　Ｍ　’Ｊン敵緩倒液（ｐＨ７
，２）２０ｍにあけ、有俄層を分離し、水層を塩化メチ
レンでさらに抽出する。有機１＝　＋あわせ、食塩水で
洗浄したのち乾燥し溶媒を留去する。残留物をシリカゲ
ル５２を用いるカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキ
サン−酢歳エチル（ｉ：１）混合溶媒で浴出して目的物
３５１夕（収率γ３ｑ６）を油状物として得た。ヘキサ
ン−酢酸エチル（１：３）混合溶媒でさらに浴出して出
′老原料７５ｍｙ（２１％）を回収した。

ＣＨＣｌ　　−１： ＩＲスペクトルシ３ｃ′Ｉｎ ａｘ １８０Ｂ、１７４９．１７１８（ｂｒ、）、１７００（
ｓｈ、）。

１６８２　（ｓｈ、） Ｎ　Ｍ　Ｒ７＜クトル（ＣＤＣ１３）δｐｐｍ　’１．
４０（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，５Ｈｚ）。

２１〜３．ｒ（γＨ，ｍ）。

４．５（１）Ｔ、ｍ）。

５．１３（２Ｈ，ｓ）。

５．１４Ｄ２Ｈ，５）１ ５．３５　（２）１　、　ｓ　）　。

４、！ＩＱ−５，４（２’ｆ（、ｍ　）　。

７．４３（２Ｈ，ｄ）。

７、４６　（２）Ｔ　、　ｄ　）　。

７．５０（２Ｈ，（１）。

８．１５　（２Ｆ（、ａ）　。

８．１１（４Ｈｊａ） 参考例１１ （３８，４Ｒ）−４−ＣＣ２−（１）−二トロペンジル
オキ７カルポニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチ
ル）　−３−Ｃ（Ｒ）　−１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−ニトロペ
ンジルオキンオキサリル）−２−アゼチジノン２３０　
ｍｇ　（０，２９ｍｍｏｌｅ　）と亜リン酸トリエチル
２８７１Ｂ９　（１，７３ｍｍｏｌｅ　）　ｆ　）　ル
エン２ｇ１１１７中で窒素雰囲気下９０℃で１時間加熱
する。減圧下問温度で溶媒および揮発性物質を留去して
得られる残留物にハイドロキノン８ｍ９とトルエン１０
ｍ／を加え、９索雰囲気下ｉｏ。

℃で４４助１＋、ｒｌ　Ｊｌｉｌ熱する。反応終了ｕ１
減圧下で溶媒全貿去しイし１′しれる残留物をローパー
カラムを用いてｅｆｔ製する。ベンゼン・−酢凸ンエチ
ル混合溶媒で漱ｂ４シて結晶性の目的物９０θ夕（収率
４０％）Ｙ１４ｉた。酢酸エチル−ベンゼン−ヘキサン
混合（ｅｆ奴で再結晶を行い、融点１４８〜１５０℃の
プリズム品を得た。

元来分析１直　Ｃ３４Ｈ３，０１６Ｎ５Ｓとして唱算値
：　Ｃ，５３，３３：Ｈ，４，０Ｂ：Ｎ、９．１５　：
Ｓ　、　４．１９ 実４１（ｊ″１ｉ＋ｔ　：　Ｃ、５３，Ｉ　９　；　Ｈ
ｒ　４，０７　：　Ｎ　＋　ｌ　１３　：８．４．４３ Ｃ’ＨＣｔ　　　−１ １Ｒスペクト／ｌ／　　Ｊ／　　　３ｃ７ｎ　：３４５
０゜ａｘ １７８０．１７４０（ａｈ、）、１７１８．１７００（
ｓｈ、）５Ｉｌ 比旋光度〔α’］　Ｄ　＋８６　　（ｃ−ｏ、ａ　１．
　ｃＨｃｔ３）ＮＭＲスペクト／Ｌ／（ｃＤｃｔ３）δ
ｐｐｍ　’１．４７（３Ｈ，（１，Ｊ−６Ｈｚ）。

２、７〜３．１（７Ｈ，ｍ）。

４．２０　（ＩＨ、ｍ　）　。

〜５．１（ＩＨ，ｍ）。

５．１６（２Ｈ，ｓ）。

５．２Ｈ２Ｈ，５）ｒ ５．１８（ＩＨ，ｄ、、Ｊ−１４Ｈｚ）。

５．４７（１Ｈ，ｄ、Ｊ−１４Ｈｚ）。

乙４５（２］（、ｄ）。

７．４９（２Ｈ，ｔｉ）。

７．６０（２Ｈ，（Ｌ）。

８．２０（６Ｈ，ｄ） 参考列１２ （３３，４Ｒ）　　−４−［［（Ｓン　−１（Ｎ−（ｐ
−二トロペンジルオキシ力ルボニル）アセトイミドイル
）ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル］　−
３−［（Ｒ）　　ｉ　−（ｐ−二トロペンジルオギ／カ
ルボニルオキ／）エチルヨー２−アゼチジノン１５０　
ｍ９　（０，２３ｍｍｏｔｅ　）をテトラヒドロフラン
５ｔｎｌｖｃ屑がし、窒素気流下、−１８℃でイＸＪ、
ｌ′ｔｈトしながら、１５％ｎ−ブチルリチウムへキサ
＞　ｆ＆　液０．１５　ｒａｌ　（０，２４ｍｍｏｔｅ
　）を滴下する。

２　’ｉｊ　ｌｉ、ｔｌ　４４！Ｊ拌した陸、ｐ−ニト
ロペンジルオキンオギーシ゛リルクロリド８４　ｍ９　
（０，３］ｍｍｏｔｅ　）を加える。４分間攪拌した後
、反応液に０．１Ｍリンど！；’、、ｒｌ；−＜ｄＶｔ
Ｍ　（ｐＨ７，１）　１　ｍｌ　ｆ　ｌ）ｇ　エ、ｌ’
ｊ’ｌ：９−１−　ｆ　ルテ抽出する。乾・ＥｆＨ後浴
媒溶媒去し、残留物をシリカゲル４２を用いるカラムク
ロマトグラフィーに付す。ベンゼン−酢酸エチル（１：
５）混合溶媒で溶出して目的物６１ｔｎｇ（収率３１％
）を油状物として得た。

ＣＨＣ／、　　　　−１ ｒＲスペクトル　νｍａｘｓ　ｃｍ　　：　ｆ　８１０
　。

１７５３　、　ｔ　ｓｏ　２（ｂｒ、）Ｎ　Ｍ　Ｒスヘ
クト＃　（ＣＤＣ／−５）δｐｐｍ　’１４２（３Ｈ，
ｄ、Ｊ−６，５，Ｈｚ）。

１８〜２．５　（２Ｈ、ｍ　）　。

２．２６（３Ｈ，ｓ）。

２．８〜４．２　（８Ｈ、ｍ　）　。

〜４．５（ＩＨ，ｍ）。

５．１７（２Ｈ，ｓ）。

５．２１（２Ｈ，ｓ）。

５゜３７　（２Ｈ、ｓ　）　。

〜５．２（ＩＨ，ｍ）。

７．５２（６Ｈ，ｂｒ、ｄ）。

８．１５（２ｎ、ａ）。

８．１９（４Ｈ，ｄ） 参考例１３ ンジルオキシ力ルポニルオキン）エチル〕−２−Ｃ（Ｓ
）　−１−（ｐ−ニドａベンジルオキシカル（３８，４
Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−（１）−二トロペンジルオキ
ン力ルポニルオキシ）エチル〕−４−［［：（Ｓ）−１
−（ｐ−ニトロペンジルオキン力ルボニル）ピロリジン
−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−１−（ｐ−ニト
ロペンジルオキンオキサリル）−２−アゼチジノン１２
８ｍ９（０，１５５ｍｍ＋ｏｌｅ　）　、１１リン酸ト
リ工チル１５５ｍ９（０，９３４ｍｍｏｌｅ　）および
ハイドロキノン７１１７９　（０，０６ｍｍｏｌｅ）を
トルエン１３贋ｌに溶かし、窒素気流’Ｆ９（１°で１
．５時間加熱する。原料が消失したら溶媒および過剰の
亜すン醒トリエチルを減圧下留去し、４’Ｊられる残留
物をふたたびトルエン１３ｍ１ＶＣＦＪカ（、、ｘｉ気
流下１００　Ｃで８０時間加熱する。溶媒を留去し生成
物をローバーカラムで分１１１［Ｃ梢４Ａする。酢印′
エチルーベンゼン（１：１）混合溶媒で溶出して目的物
６９．６　ｔｖ　（収率５６．６％）を油状物として得
た。

ＩＲスペクトル　ν　　３−１ ｍａｙ　　ＣＪｎ　　：１１７Ｂ。

１７４５．１６９５．１６９０（ｓｈ、）Ｎ　Ｍ　Ｒス
ヘクト＃　（ｃｖｃｔ３）δｐｐｍ’１．４７（３Ｈ，
ｄ、Ｊ−６Ｈｚ）。

１、Ｔ〜２．１　（２Ｈ、ｍ　）　。

２．９〜４．５（１０Ｈ，ｍ）。

５．１８（２Ｈ１Ｒ）。

５．２１（２Ｈ，ａ）。

ｓ、１ｓ（ｔａ、ａ、、ｒ−１４Ｈｚ）。

５．４５（ＩＨ，ｒｌ、Ｊ−１４Ｈｚ）。

ｒ、Ｂ（４Ｈ，ｄ）。

７．５１１（２Ｈ，ｄ）。

８．１７（４Ｈ，ａ） 参考例１４ カルボニル）アセトイミドイル〕−３−（）す（ＥＥ）
　−３−メルカグトー？−４Ｎ−（ｐ−二トロペンジル
オキンカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリジン１．
４０　ｆ　（４，３３ｍｍｏｌｅ　）をベンゼン’１８
ｍ１に溶かし１０℃でトリメチルシリル酸％！、’　５
γ４１Ｑ９　（４，３４ｍｍｏｌｅ　）　、Ｎ　、　Ｎ
−ジシクロへキフル力ルポジイミド９８０　＃Ｉ９　（
４４５ｍｍｏｌｅ　）およびジメチルアミノピリジン４
Ｉｎ９を加えて１３時ｈ＋＋　ｊζ、ｊ拌する。水０．
５　ｍｌを加えて室温で１０分間１な拌した隊固体を濾
ｄして除く、濾液をシリカゲル４ｖのカラムをｍｍシ、
カラムをさらにベンゼン−酢ｒｆ／エチル（３：２）混
合溶媒で流す。

浴出収音めつめて溶媒を減圧下室温で留去して得られる
残留物をローバーカラムＢを用いるクロマトグラフィー
で精製する。酢酸エチル−ベンゼン（１：１）混合浴り
（塾で溶出して目的物９３γｒｎ９（収率４９％）を油
状′Ｗりとして得た。

ＩＲスペクト＃　　シｔ１ｑｃＩｎ’１６７０，１５５
ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１，）δｐｐｍ　’０、１
６　（９Ｈ、ａ　）　。

１．６〜２．８　（２Ｈ、ｍ　）　。

２．３０（５Ｈ，ｓ）。

３．３〜４．２（５Ｈ，ｍ）。

５、１７　（２Ｈ、ｓ　）　。

７．５１（２Ｉ（、ｃｌ）。

８．１５（２Ｈ，ｄ） 参考例１５ （３８，４Ｒ）　−３−Ｃ（Ｒ）　−１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−Ｃ［
（３）　−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボ：　／ｌ／　メｆ
　ル〕−２−アゼチジン＞　１８２　ｔｎｇ　（０，２
９５ｍｍｏ／−ｅ　）を」；、Ｓ化メチレン１０Ｉ＋Ｉ
ｌに溶かし、０℃で８″件しながら１．４−ジアザビシ
クロ［２，２，２：１オクタン１１０ｍ９　（０，９８
ｍｍｏ７ｅ　）ついでｐ−ニトロペンジルオキンオキサ
リルクロリド４５０　ｍｇ（１，８５ｍｍｏｔｓ　）を
加える。１時間後、反応液を０、１１．７−リン酸緩衝
液（ｐＨ７，１）　４０ｍ６’中にあけ、ｊ高化メチレ
ンで抽出する。飽和食塩水で洗浄した区乾ｌｋ、シ、溶
媒を留去する。残留物をシリカゲル５りを用いるカラム
クロマトグラフィーに付し、１０〜１７．５％酢酸エチ
ル−ベンゼンで１０出して、目的物１６９Ｉｎ９（収率
６９．５％）を油ＣＨＣｌ　　　　−１ １Ｒ，Ｘペクト／ｌ／　　ｖ　　　５ｃｍ　　：１８０
５゜ａＸ １γ４５，１６９５．１６９０（ｓｈ、）ＮＭＲスペク
トル（ｃ＋：＋ｃＬ３）δｐｐｍ　’１．４２（３Ｈ１
＋ｉ、Ｊ−６，５Ｈｚ）。

１．５〜２．５（２Ｈ，ｍ）。

２．１−４．２　（９Ｈ、ｍ　）　。

〜４．５（Ｉ　ＦＩ、ｍ）。

５．１１（２Ｔ（、ｓ）。

５．２０（２Ｈ，ａ）。

５．３６（２Ｈ，ｓ）、。

乙４７（４Ｈ，ｄ）。

７．５２（２ｎ、ｄ）。

８．１．８　（ｓｎ　、ａ） 参考例１６ ＣＩ−（ｐ−ニトロペンジルオキン力ルボニル）アゼチ
ジノン （３Ｓ、４Ｔｎ−４−（［：（Ｓ）−１−ＣＮ　−（ｐ
−ニトロペンジルオキン力ルボニ／Ｉ／）アセトイミド
イル〕ピ・コリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル
〕−３−Ｃ（Ｒ１−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシ）エチル）−１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシオキサリル）−２−アゼチジノン９７２　ｍ９　
（１、Ｂｍｍｏｌｅ　）　、ＩＩＪＥリン般トリニトリ
エチル１５’　（６，７５ｍｍｏｌｅ　）をトルエン８
０　ｍｌに溶かし、窒素気流下９０℃で２時間加熱する
。溶媒を減圧ド留宍して得られる残留物をローパーカラ
ムを用いて精製する。酢酸エチル−クロロホルム−メタ
ノール（３０：１０：１）混合溶媒で溶出して目的物ｕ
１ｍ９（収率８４係）を油状物として得た。

ＣＨＣ／、　　　−１ １Ｒスペクトル　ν　　３（至）：１γ５０゜ａｒ １６８０．１６４０ 参考例１γ （３８，４Ｒ）−４−［（（Ｓ）−１−（ｔｙ−（ｐ−
ニトロペンジルオキン力ルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン−３−イ／Ｉ／チオ〕カルボニルメチル）　
−３−［：　（Ｒ）　−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
／カルポニルオキン）エチル〕−１−Ｃ１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）トリエチルオキ／ホスホ
ラニリデンメチル〕−２−アゼチジノン１９１ｍ９、ハ
イドロキノン２０ｆ％、トルエン２０ｍ１の混合物を窒
業気流Ｆ１００℃で４４時間加熱した。減圧下溶媒を留
去し、残留物音ローパーカラムを用いて精製する。

酢酸エチル−クロロホルム−メタノール（３゜：１０：
１）混合溶媒で溶出して出発原料１６ｍｇ（８％）を回
収し、ついで目的ｍ９３ｍ９Ｃ収率５８　％　）　′（
ｒ）油状物として得た。

ＩＲスペクトル　シｒｎ、、、３ｃｍ　　：ＩＴ８０゜
１７４４．１６９０（ｓｈ、）、１６７６比ｋ　Ｘ　Ｉ
ｋ　’−α］　ｏ　＋　６８　’　（ｃ−０１７、ＣＨ
Ｃｌ５　）Ｎ　Ｍ　Ｒ、Ｘ　ヘクト／ｌ／　（＋ｃＤｃ
ｔ３）δｐｐｍ　’１４Ｂ（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，５Ｈｚ
）。

２．３１（３Ｈ，ｓ）。

１．８〜２．６　（２Ｈ、ｍ　）　。

３、（１−４，５（９Ｈ，、ｍ　）　。

５．１６（２Ｈ，ａ）。

５、２０　（２Ｈ、ｓ　）　。

５．１４（ｉ）Ｔ、ｄ、、Ｔ＝’１４Ｈｚ）。

５．４３（ＩＩ（、ｄ、Ｊ−１４Ｈｚ）。

〜５．２　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　。

７、５０　（４Ｈ、ｄ）　。

Ｔ５γ（２Ｈ、ｄ、　）　。

８．１７（ＯＨ，ｄ） 参考例１８ （ＳＲ，ａｓ）−２−［（ｓ）−１−１１Ｎ−（１）−
ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン−３−イルチオ）　−６−Ｃ（Ｒ）−１−（
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕
カルバペンー２−エムーカルボン（１’ｌ　ｐ−二トロ
ベンジルエステル４ａｓｍｙｗデトラヒドロフラン２５
　Ｉｎ’ｌおよび０．１　Ｍ−リン酸嶽イＪｉｊ液（ｐ
Ｈ７，１）　２５ｍｌの混合溶液に溶かし、１０％パラ
ジウム−炭素１．４？を加え、常圧水素下、１０分間攪
拌する。反応終了後、触媒を濾過して除き、濾液に上記
緩衝ｉ（’ｆ、　１５　ｍｌを加えて酢酸エチルで洗浄
する。水層を室温減圧下、約／２まで濃縮したのち、Ｈ
Ｐ２０ＡＧ（三菱化成社ｇ　）　１５　ｍｌを用いるカ
ラムクロマトグラフィーに付し、３％アセトン−水で浴
出するフラクションを集め、凍結乾燥をおこ々って白色
粉末状の目的物１１５／ｎＯ（収率５８チ）を得た。

ＩＩ（スペクトＡ／　　ｖ　　ｃｍ　　：３４００゜１
７６０　、１６Ｔ５ ＮＭＲ２ゝクトル（Ｄ２０）δｐｐｍ　’ｔｚｓ（３Ｈ
，ａ、、ｒ−６，５Ｈｚ）。

１゜８〜２．７　（２Ｈ、ｍ　）　。

２．２９（３Ｈ，ｓ）。

３．２２（２Ｈ，ｄ、Ｊ−９，５Ｈｚ）。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）−服代 〔式中、　１ｔ１１↓水系原子または水敵基の保睡基乞
   、Ｒ２およυ・Ｒ５は同一または異なろ水素原子、低級
   アルギル基または了り−ル基を、Ｘは酸素九ζ子診たは
   佃Ｃ７Ｌ″〔原子な、Ｙはイミノ基もしくはアルギルイ
   ミノ基、酸素原子または硫黄原子を、■（４レエアルキ
   ル基、置換基を有するアルギル基、アラルギル基、脂槙
   式被索猿置換アルギル基、脂ねｊ式醜系槻基、アリール
   基、または芳香族役素振基４′、　Ｒ５は水素原子また
   はアミド基の保、＋畏基馨／ｊｅず。たｙｌ、Ｘおよび
   Ｙが酸素原子、Ｒ４がアルキル基またはアラルキル基の
   場合はＲ５がアミド基の保映基である。〕を有するアゼ
   チジノン誘梼体。
2. （２）一般式（Ｉ）においてＲ２および１（５が水素ｊ
   ｙｔ子、ＸおよびＹが酸素原子、　１（４かアルキル基
   またの保護基を示す。）であろ特許Ｂ＾求の範囲第一項
   記載の化合物。
3. （３）一般式（Ｉ）においてＲ２およびＲ５が水素ｊバ
   Ｌ子、Ｘが酸素原子またはυＩＣ黄原子、Ｙが位Ｃ＾ｉ
   °１原子、Ｒ４が置換基２有するアルキル基、アラルギ
   ル基、脂猿式複累猿置挾アルキル法、脂プ叡弐複素猿基
   、アリール基または芳香族核；に塙ノよ、１（５が水索
   原す）である特許請求の範囲第−項記載の化合物。
4. （４）　　一般式 〔式中、　Ｒ１は水素原子または水酸）にの保護基を、
   　ｉ＜Ｊｌ水系原子またはアミド基の保護基な、Ｒ６）
   ｉルｔ　１ｉ、ｉ＋ノＪｊ　’ａ′ｔＨ’ニーｒｏ〕ｋ
   　’ＦＪ’する化合物に一般式 ％式％（［） 〔式中、Ｒ２およびＲ３は水素原子、アルキル基化た）
   まアリール基ｖ、ｘｉまｒ波素原子または悌ｉＬ黄原子
   ケ、ＹＨまイミノ基もしくはアルキルイミノ基、酸素原
   子守たは硫黄原子を、　Ｒ４はアルキルノ、（、ｉ７換
   基乞■するアルキル基、アラルキル基１１．：、）１１
   イね１式七Ｊ室、！ふ之貯ｊ奥アルキル基、ｌ１ｉｙ猿
   式複索む１基、アリール基または芳香族枚素梢基を、Ｒ
   ７ＲｅおよびＲ９は同一または異なるアルギル基、アリ
   ールノ１（ヲ示す。′３を有する化合物乞反応さ〔式中
   、　Ｒ１は水素原子またし１水酸基の保護基を、Ｒ２お
   よびＲ６は同一またはｂ’＜なイ）水素原子、低級アル
   キル基Ｉｌ′たげアリール４＋１を、Ｘはｔｎ　ｌ＜原
   子または伝黄ｌ＋ｉζ子を、Ｙはイミノ基もしくはアル
   キルイミノ基、酸素原子または１ν１ｃ満原子を、Ｒ４
   はアルキル基、置換基を有するアルギルノに、アラルキ
   ル基、脂猿式複素復１６換アルギル基、脂槻式複素猿基
   、アリール基、また警−Ｌ″Ｊｊを族複累槙、ｌＩ！：
   を、　Ｒ５は水素原子またはアミド基のイ呆腹基を示す
   。〕を有するアゼチジノン訪導体の合成法。