JPS63283192A - 多層配線板 - Google Patents
多層配線板Info
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- JPS63283192A JPS63283192A JP11824687A JP11824687A JPS63283192A JP S63283192 A JPS63283192 A JP S63283192A JP 11824687 A JP11824687 A JP 11824687A JP 11824687 A JP11824687 A JP 11824687A JP S63283192 A JPS63283192 A JP S63283192A
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Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 7
- JGDFBJMWFLXCLJ-UHFFFAOYSA-N copper chromite Chemical compound [Cu]=O.[Cu]=O.O=[Cr]O[Cr]=O JGDFBJMWFLXCLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 21
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 19
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 13
- 229910002477 CuCr2O4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract 1
- FULFYAFFAGNFJM-UHFFFAOYSA-N oxocopper;oxo(oxochromiooxy)chromium Chemical compound [Cu]=O.O=[Cr]O[Cr]=O FULFYAFFAGNFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 229910002976 CaZrO3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 3
- 229910052661 anorthite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- GWWPLLOVYSCJIO-UHFFFAOYSA-N dialuminum;calcium;disilicate Chemical compound [Al+3].[Al+3].[Ca+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GWWPLLOVYSCJIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- WUOACPNHFRMFPN-SECBINFHSA-N (S)-(-)-alpha-terpineol Chemical compound CC1=CC[C@@H](C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-SECBINFHSA-N 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- OVKDFILSBMEKLT-UHFFFAOYSA-N alpha-Terpineol Natural products CC(=C)C1(O)CCC(C)=CC1 OVKDFILSBMEKLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088601 alpha-terpineol Drugs 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000006112 glass ceramic composition Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- WHOPEPSOPUIRQQ-UHFFFAOYSA-N oxoaluminum Chemical compound O1[Al]O[Al]1 WHOPEPSOPUIRQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は多層配線板に関するもので、さらに詳細には電
子回路用厚膜多層配線板及びガラスセラミック多層配線
板に関するものである。
子回路用厚膜多層配線板及びガラスセラミック多層配線
板に関するものである。
(発明の背景)
近年電子回路の小型化、高密度化の要求が高まり、厚膜
回路の多層化に加え、ガラスセラミックグリーンシート
を用いた多層配線板の開発が進められている。
回路の多層化に加え、ガラスセラミックグリーンシート
を用いた多層配線板の開発が進められている。
厚膜多層配線板はアルミナ等のセラミック基板上に、A
u、Ag/Pd等の厚膜導体ペーストを印刷、焼成して
形成した配線の上に結晶化ガラスまたは耐熱性酸化物等
をフィラーとした非晶質ガラスよりなる絶縁ペーストを
印刷、焼成してガラスセラミック層を形成し、さらにそ
の上に導体を形成することを繰り返して製造される。
u、Ag/Pd等の厚膜導体ペーストを印刷、焼成して
形成した配線の上に結晶化ガラスまたは耐熱性酸化物等
をフィラーとした非晶質ガラスよりなる絶縁ペーストを
印刷、焼成してガラスセラミック層を形成し、さらにそ
の上に導体を形成することを繰り返して製造される。
一方、ガラスセラミック多層配線板は、厚膜多層の絶縁
層と同様の材料を用いてドクターブレード法等によって
グリーンシートを製造し、このシート上に厚膜導体ペー
ストを印刷してそれを積み重ねて、−回で焼成して製造
される。焼成温度は両者とも800〜1000℃である
。
層と同様の材料を用いてドクターブレード法等によって
グリーンシートを製造し、このシート上に厚膜導体ペー
ストを印刷してそれを積み重ねて、−回で焼成して製造
される。焼成温度は両者とも800〜1000℃である
。
これらの多層配線板はいずれも、表面の配線導体に半導
体、コンデンサ等の電子部品をはんだ付けにより搭載し
、ハイブリッドICまたはモジュールとして使用される
。したがって、表面導体ははんだ濡れ性が良好でなけれ
ばならない。
体、コンデンサ等の電子部品をはんだ付けにより搭載し
、ハイブリッドICまたはモジュールとして使用される
。したがって、表面導体ははんだ濡れ性が良好でなけれ
ばならない。
しかし、従来のガラスセラミック材料と厚膜導体材料の
組み合わせでは、多(の場合導体表面にガラス膜が生じ
て、はんだ濡れ性を著しく阻害し、ごく限られた組成の
材料のみが使用できるに過ぎず、この分野の発展が遅れ
ている。
組み合わせでは、多(の場合導体表面にガラス膜が生じ
て、はんだ濡れ性を著しく阻害し、ごく限られた組成の
材料のみが使用できるに過ぎず、この分野の発展が遅れ
ている。
(発明の目的)
本発明は上記した問題点を解決し、多(のガラスセラミ
ックと厚膜導体の組み合わせで良好なはんだ濡れ性が得
られる多層配線板を提供するものである。
ックと厚膜導体の組み合わせで良好なはんだ濡れ性が得
られる多層配線板を提供するものである。
(発明の概要)
前記の目的を達成するため、従来の厚膜多層用ガラスペ
ースト及び新規に作成したガラスに、種々の添加剤を加
え、Ag/Pd系導体を用いた場合のはんだ濡れ性を調
べた。その結果、Cr2o3とCuO,Mn01Cr2
03よりなる銅クロマイト(CuCr20.)結晶構造
を有する添加物は、少量でも導体のはんだ濡れ性を著し
く改善することを見い出したが、Cr2o3はガラスセ
ラミ・7りの絶縁性を低下させるため使用できない。こ
のような添加物がはんだ濡れ性をよくする理由はわがら
ないが、導体表面にガラス膜が生成しなくなることは明
らかである。
ースト及び新規に作成したガラスに、種々の添加剤を加
え、Ag/Pd系導体を用いた場合のはんだ濡れ性を調
べた。その結果、Cr2o3とCuO,Mn01Cr2
03よりなる銅クロマイト(CuCr20.)結晶構造
を有する添加物は、少量でも導体のはんだ濡れ性を著し
く改善することを見い出したが、Cr2o3はガラスセ
ラミ・7りの絶縁性を低下させるため使用できない。こ
のような添加物がはんだ濡れ性をよくする理由はわがら
ないが、導体表面にガラス膜が生成しなくなることは明
らかである。
本発明のガラスセラミックは結晶化ガラス(フィラー入
り結晶化ガラスも含む)及び非晶質ガラスにA l z
O!、Zr0=、Sin、等のフィラーを混合したも
ののいずれでもよく、ガラスの熱膨張係数、軟化温度等
の特性に特に制限はない。また、厚膜導体は一般にはん
だ付は可能なものであれば種類を問わない。
り結晶化ガラスも含む)及び非晶質ガラスにA l z
O!、Zr0=、Sin、等のフィラーを混合したも
ののいずれでもよく、ガラスの熱膨張係数、軟化温度等
の特性に特に制限はない。また、厚膜導体は一般にはん
だ付は可能なものであれば種類を問わない。
さらに、上記の実験において非晶質ガラスに加えるフィ
ラーとしてCaZrO3を用いると、添加物の効果が特
に顕著であることがわかった。
ラーとしてCaZrO3を用いると、添加物の効果が特
に顕著であることがわかった。
Ca Z r O3はガラスと混合して焼成するとCa
。、+sZ r o、aso+、msの結晶構造を持っ
たいわゆる安定化ジルコニアに変化する。この変化はガ
ラスの粘度に関係し、ガラスの軟化温度(粘度が107
・6poise)以上で始まり、例えば軟化温度500
℃のガラスでは、650℃以上から変化しはじめ、軟化
温度780℃のガラスでは、800℃以上で変化する。
。、+sZ r o、aso+、msの結晶構造を持っ
たいわゆる安定化ジルコニアに変化する。この変化はガ
ラスの粘度に関係し、ガラスの軟化温度(粘度が107
・6poise)以上で始まり、例えば軟化温度500
℃のガラスでは、650℃以上から変化しはじめ、軟化
温度780℃のガラスでは、800℃以上で変化する。
結晶性のガラスでは、添加物の混合量は5%以下で十分
である。一方非晶質ガラスにフィラーを入れるタイプで
は、例えばAffizCh及びCaOを7%含む安定化
ジルコニアをそれぞれ20%ずつ混合したものでは、複
酸化物を5%以上添加しないと導体にはんだが濡れない
が、安定化ジルコニアの代わりにCaZr0:+を混合
した場合には、0.5%の添加でもはんだの濡れは良好
であった。このような理由から、非晶質のガラスのフィ
ラーはCaZr0tまたは数種類のフィラーを用いる場
合にはそのうちの一種類をCa Z r O3とするの
が好ましい。また、複酸化物の添加量は、結晶化ガラス
及びCaZr0.をフィラーとする非晶質ガラスでは0
.5%以上で効果がある。しかし、添加量が多くなるに
つれて絶縁層の誘電損失が大きくなるので、10%以上
添加することは避けなければならない。
である。一方非晶質ガラスにフィラーを入れるタイプで
は、例えばAffizCh及びCaOを7%含む安定化
ジルコニアをそれぞれ20%ずつ混合したものでは、複
酸化物を5%以上添加しないと導体にはんだが濡れない
が、安定化ジルコニアの代わりにCaZr0:+を混合
した場合には、0.5%の添加でもはんだの濡れは良好
であった。このような理由から、非晶質のガラスのフィ
ラーはCaZr0tまたは数種類のフィラーを用いる場
合にはそのうちの一種類をCa Z r O3とするの
が好ましい。また、複酸化物の添加量は、結晶化ガラス
及びCaZr0.をフィラーとする非晶質ガラスでは0
.5%以上で効果がある。しかし、添加量が多くなるに
つれて絶縁層の誘電損失が大きくなるので、10%以上
添加することは避けなければならない。
(実施例)
以下、実施例につき詳細に説明する。
実施例1
Ca OZ n OT i Oz A lz O3S
i OzB 203よりなり、焼成するとCa A
1 zS 1208(アノーサイト)の結晶を析出する
クロスオーバー用ガラスペーストに銅クロマイト形結晶
構造を持ち、CuO,Mn01Cr203よりなる複酸
化物(大日精化工業G1のダイピロキサイド ブランク
9510) の0.5.2.5.8.10%をそれぞ
れ加えて、3本ロールミルで混練した。これらのペース
トを96%アルミナ基板上に20mm X 2(hll
のパターンでスクリーン印刷を2回行い、その上にAg
80%、Pd20%の導体ペーストを印刷して850℃
で同時焼成を行った。導体パターンは、はんだ濡れ性評
価用の5 ** X 5 msと接着強度測定用の21
1X 2**である。別に、上記導体ペーストを用いて
アルミナ基板上に下部電極を印刷、焼成して形成し、上
記ガラスペーストを印刷、焼成し、さらにもう−回印刷
してその上に導体ペーストを印刷して同時焼成してコン
デンサを作成し、絶縁層の特性を測定した。
i OzB 203よりなり、焼成するとCa A
1 zS 1208(アノーサイト)の結晶を析出する
クロスオーバー用ガラスペーストに銅クロマイト形結晶
構造を持ち、CuO,Mn01Cr203よりなる複酸
化物(大日精化工業G1のダイピロキサイド ブランク
9510) の0.5.2.5.8.10%をそれぞ
れ加えて、3本ロールミルで混練した。これらのペース
トを96%アルミナ基板上に20mm X 2(hll
のパターンでスクリーン印刷を2回行い、その上にAg
80%、Pd20%の導体ペーストを印刷して850℃
で同時焼成を行った。導体パターンは、はんだ濡れ性評
価用の5 ** X 5 msと接着強度測定用の21
1X 2**である。別に、上記導体ペーストを用いて
アルミナ基板上に下部電極を印刷、焼成して形成し、上
記ガラスペーストを印刷、焼成し、さらにもう−回印刷
してその上に導体ペーストを印刷して同時焼成してコン
デンサを作成し、絶縁層の特性を測定した。
焼成温度は850℃である。結果を1表に示す。
(以下余白)
第1表
添加物を混入しない比較例と比べてわかるとおり、添加
?I O,5〜10%の全てはんだ濡れ性が改善されて
いる。導体の接着強度は十分に大きく、その他の特性は
誘電損失(tanδ)が添加量の増加とともにやや大き
くなる以外は比較例と差がなく、絶縁層上の導体に電子
部品を接続することが可能である。
?I O,5〜10%の全てはんだ濡れ性が改善されて
いる。導体の接着強度は十分に大きく、その他の特性は
誘電損失(tanδ)が添加量の増加とともにやや大き
くなる以外は比較例と差がなく、絶縁層上の導体に電子
部品を接続することが可能である。
実施例2
熱膨張がアルミナセラミックに近い厚膜多層用ガラスと
して、重量比でSiO□55.6%、82034.8%
、C:a07.5%、MgO2,5%、PbO17%。
して、重量比でSiO□55.6%、82034.8%
、C:a07.5%、MgO2,5%、PbO17%。
A12031・8 、5%+ NazO2,5%、に2
01.5%の組成のガラスを作成した。ガラスの軟化温
度は780℃、熱膨張係数は72x 10−’/’c
(25〜300℃)であった。
01.5%の組成のガラスを作成した。ガラスの軟化温
度は780℃、熱膨張係数は72x 10−’/’c
(25〜300℃)であった。
このガラスにフィラーとしてAl□Q 3. Z r
OlCa0o、+5Zro、ssO+、ss (Ca
Oを7%含む安定化ジルコニア)及びCaZr0zの1
種または2種以上を重量で40〜50%と、実施例1と
同一の添加物を種々の割合で混合し、エチルセルロース
をα−ターピネオールに溶解して作った媒体に分散させ
、3本ロールミルで混練してガラスペーストを作成した
。これらを用い、実施例1と同様にして導体のはんだ濡
れ性、接着強度、絶縁層の特性を調べた結果を第2表に
示す。
OlCa0o、+5Zro、ssO+、ss (Ca
Oを7%含む安定化ジルコニア)及びCaZr0zの1
種または2種以上を重量で40〜50%と、実施例1と
同一の添加物を種々の割合で混合し、エチルセルロース
をα−ターピネオールに溶解して作った媒体に分散させ
、3本ロールミルで混練してガラスペーストを作成した
。これらを用い、実施例1と同様にして導体のはんだ濡
れ性、接着強度、絶縁層の特性を調べた結果を第2表に
示す。
(以下余白)
添力■物がない場合(隘1. 5. 7.10.14.
)には導体表面にガラスが多量に浮き出し、全くはん
だに濡れない、フィラーとしてCaZrO3を混合しな
い場合には、添加物を2%を加えてもはんだ濡れ性が十
分ではないが、CaZr01が存在すると、添加物を0
.5%加えても効果が現れ、1%の添加で完全に濡れる
ことがわかる。
)には導体表面にガラスが多量に浮き出し、全くはん
だに濡れない、フィラーとしてCaZrO3を混合しな
い場合には、添加物を2%を加えてもはんだ濡れ性が十
分ではないが、CaZr01が存在すると、添加物を0
.5%加えても効果が現れ、1%の添加で完全に濡れる
ことがわかる。
CaZr01をフィラーにした場合、焼成後はCa g
、+sZ r o、mso+、msに変化するがX線回
折で調べた結果、添加物を加えない場合には850℃焼
成でこの変化率は約60%であったが、1%の添加では
90%以上が変化した。初めからCab、、5Zr。、
sso+、msを加えた場合(患8.9)も2%以上の
添加が必要であることから、CaZrO3が焼成中に変
化することが、添加物との相乗効果となっていると思わ
れる。Ca Z r O3のみをフィラーにした場合(
N114.15)には導体端部に剥離が生ずるため、他
のフィラー(例えばA 12 z Os)を−IIに加
える必要がある。
、+sZ r o、mso+、msに変化するがX線回
折で調べた結果、添加物を加えない場合には850℃焼
成でこの変化率は約60%であったが、1%の添加では
90%以上が変化した。初めからCab、、5Zr。、
sso+、msを加えた場合(患8.9)も2%以上の
添加が必要であることから、CaZrO3が焼成中に変
化することが、添加物との相乗効果となっていると思わ
れる。Ca Z r O3のみをフィラーにした場合(
N114.15)には導体端部に剥離が生ずるため、他
のフィラー(例えばA 12 z Os)を−IIに加
える必要がある。
はんだに濡れた導体の接着強度は、フィラーの種類及び
添加物の量に関係なくほぼ一定で、実用可能な値を示し
ている。
添加物の量に関係なくほぼ一定で、実用可能な値を示し
ている。
絶縁層の特性は、誘電損失が添加物の増大と共に大きく
なっており、10%の添加ではtanδが1%をこえる
。また、絶縁抵抗も添加物が多くなると低下する傾向が
見られる。したがって、このガラスでは、添加物は10
%以下にすることが望ましい。
なっており、10%の添加ではtanδが1%をこえる
。また、絶縁抵抗も添加物が多くなると低下する傾向が
見られる。したがって、このガラスでは、添加物は10
%以下にすることが望ましい。
実施例3
CaO−AI!zOz−31oz−B 1zo3系で、
熱膨張係数が55xlO−’/℃のガラスセラミック多
層配線用ガラスに、40%のAl2O2をフィラーとし
て加え、実施例2と同様にしてガラZペーストを作成し
、実施例1と同様にして導体のはんだ濡れ性を調べたと
ころ、はとんど濡れなかった。フィラーとしてA l
t 0320%とCaZr0s20%を用い、実施例1
と同じ添加物を1%加えてペーストにしたものでは、導
体は完全にはんだに濡れた。
熱膨張係数が55xlO−’/℃のガラスセラミック多
層配線用ガラスに、40%のAl2O2をフィラーとし
て加え、実施例2と同様にしてガラZペーストを作成し
、実施例1と同様にして導体のはんだ濡れ性を調べたと
ころ、はとんど濡れなかった。フィラーとしてA l
t 0320%とCaZr0s20%を用い、実施例1
と同じ添加物を1%加えてペーストにしたものでは、導
体は完全にはんだに濡れた。
なお、このガラスはAltO3を加えて焼成するとCa
AJ!is 1sOs (アノーサイト)ノ結晶を析出
するタイプである。
AJ!is 1sOs (アノーサイト)ノ結晶を析出
するタイプである。
この例でも添加物を加えることによる絶縁層の特性変化
はなかった。本実施例と同様にしてガラスセラミックグ
リーンシートを形成することは容易であり、電子部品の
はんだ接続が可能な表面導体を有するガラスセラミック
多層配線板を容易に製造できる。
はなかった。本実施例と同様にしてガラスセラミックグ
リーンシートを形成することは容易であり、電子部品の
はんだ接続が可能な表面導体を有するガラスセラミック
多層配線板を容易に製造できる。
(発明の効果)
以上詳細に説明したように、本発明は結晶化ガラスまた
はフィラー人りガラスに少量の添加物を加えることによ
り、これらのガラスを絶縁層とした多層配線板の導体の
はんだ濡れ性を著しく向上させること壷ができるため、
電子回路の小型、高密度化を目的とした多層配線板を容
易に製造し得る効果は極めて大きい。
はフィラー人りガラスに少量の添加物を加えることによ
り、これらのガラスを絶縁層とした多層配線板の導体の
はんだ濡れ性を著しく向上させること壷ができるため、
電子回路の小型、高密度化を目的とした多層配線板を容
易に製造し得る効果は極めて大きい。
Claims (5)
- (1)結晶化ガラスまたは結晶性物質をフィラーとして
含む非晶質ガラスに、銅クロマイト(CuCr_2O_
4)の結晶構造を有する複酸化物を混合したガラスセラ
ミックよりなる絶縁層と厚膜導体とで構成されることを
特徴とする多層配線板。 - (2)セラミック基板上に厚膜導体ペーストと絶縁ペー
ストを交互に印刷、焼成して形成する厚膜多層配線板に
おいて、絶縁層が特許請求の範囲第1項記載のガラスセ
ラミックである多層配線板。 - (3)ガラスセラミックグリーンシートに厚膜導体を印
刷し、これを複数枚積層したのち焼成して形成するセラ
ミック多層配線板において、グリーンシートが特許請求
の範囲第1項及び第2項記載のガラスセラミックからな
る多層配線板。 - (4)複酸化物はCuO、MnO及びCr_2O_3か
らなる銅クロマイト(CuCr_2O_4)の結晶構造
を有し、ガラスセラミック中の含有量が重量比で0.5
〜10%である特許請求の範囲第1項〜第3項記載の多
層配線板。 - (5)非晶質ガラスのフィラーのうち1種類はCaZr
O_3であって、焼成によりCa_0_._1_5Zr
_0_._8_5O_1_._■_5の結晶構造を有す
る安定化ジルコニアになることを特徴とする特許請求の
範囲第1項〜第4項記載の多層配線板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11824687A JPS63283192A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | 多層配線板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11824687A JPS63283192A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | 多層配線板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63283192A true JPS63283192A (ja) | 1988-11-21 |
Family
ID=14731855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11824687A Pending JPS63283192A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | 多層配線板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63283192A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61274399A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-04 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 多層セラミック基板用組成物および多層セラミック基板の製造方法 |
-
1987
- 1987-05-15 JP JP11824687A patent/JPS63283192A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61274399A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-04 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 多層セラミック基板用組成物および多層セラミック基板の製造方法 |
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