JPS63289455A - 電解質測定装置 - Google Patents
電解質測定装置Info
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- JPS63289455A JPS63289455A JP62123828A JP12382887A JPS63289455A JP S63289455 A JPS63289455 A JP S63289455A JP 62123828 A JP62123828 A JP 62123828A JP 12382887 A JP12382887 A JP 12382887A JP S63289455 A JPS63289455 A JP S63289455A
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- JP
- Japan
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- sample
- dilution container
- dilution
- temperature
- container
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- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電解質測定装置に係り、特に臨床検査の自動分
析装置に用いる高速処理に好適な電解質測定装置に関す
るものである。
析装置に用いる高速処理に好適な電解質測定装置に関す
るものである。
従来のフロー型電解質測定装置においては、実開昭59
−29759号公報に記載の原理にしたがって試料濃度
測定を行うようになっている。
−29759号公報に記載の原理にしたがって試料濃度
測定を行うようになっている。
しかし、1時間当り150検体以上の多検体処理を実施
した場合、1検体当りの分析時間が短くなり、このため
サンプルを十分な温度にすることが困難であった。電極
法ではネルンストの式にしたがって起電力が発生し、こ
れにより濃度換算を行っているが、ネルンストの式には
温度の項が入っており、このため電極部でサンプルの温
度が不均一であると、これが起電力のずれとしてあられ
れ、データ精度が悪くなる。
した場合、1検体当りの分析時間が短くなり、このため
サンプルを十分な温度にすることが困難であった。電極
法ではネルンストの式にしたがって起電力が発生し、こ
れにより濃度換算を行っているが、ネルンストの式には
温度の項が入っており、このため電極部でサンプルの温
度が不均一であると、これが起電力のずれとしてあられ
れ、データ精度が悪くなる。
ネルンストの式とは、
ここに、Eo;測定系により定まる一定電圧R;ガス定
数 T;絶対温度 F;ファラデ一定数 aI;イオンiの洗澱 n;イオンの電荷数 で示され、電極部に吸引したサンプルの温度が不均一の
場合、高精度の測定を可能にするには、電極部に吸引し
たサンプル(希釈された試料または内部標準液)及び電
極を一定温度に保つことが必要不可法である。サンプル
を一定温度に保つには、電極部に入る前のチューブ内で
加温するのが適切であるが、加温するためにチューブが
長くなり、チューブがサンプルによる汚れ、検体がサン
プルの影響を受けやすくなる。単に電極部の温度応答を
改善するだけならば、電極部のサンプル吸引部のチュー
ブを長くし、加熱部を設置すればよいが、電極部で微少
の起電力を測定しているので、吸引部のチューブが長く
なると、電気的ノイズ発生の原因となる。また、電極部
に入ったサンプルを長時間放置することにより一定温度
まで加温することが可能である。しかし、この方法では
、少数の検体の測定は可能であるが、多数の検体の処理
は不可能である。
数 T;絶対温度 F;ファラデ一定数 aI;イオンiの洗澱 n;イオンの電荷数 で示され、電極部に吸引したサンプルの温度が不均一の
場合、高精度の測定を可能にするには、電極部に吸引し
たサンプル(希釈された試料または内部標準液)及び電
極を一定温度に保つことが必要不可法である。サンプル
を一定温度に保つには、電極部に入る前のチューブ内で
加温するのが適切であるが、加温するためにチューブが
長くなり、チューブがサンプルによる汚れ、検体がサン
プルの影響を受けやすくなる。単に電極部の温度応答を
改善するだけならば、電極部のサンプル吸引部のチュー
ブを長くし、加熱部を設置すればよいが、電極部で微少
の起電力を測定しているので、吸引部のチューブが長く
なると、電気的ノイズ発生の原因となる。また、電極部
に入ったサンプルを長時間放置することにより一定温度
まで加温することが可能である。しかし、この方法では
、少数の検体の測定は可能であるが、多数の検体の処理
は不可能である。
従来の技術では、多数の検体の処理をする場合、内部標
準液をサンプル5検体毎に1回測定することで時間を作
り、150検体/時の処理を可能にしている。この場合
、5検体に1回しか内部標準液を測定しないため、起電
力がドリフトし、正確なデータが得られない。異常検体
があった場合、次の検体が正常な検体であっても、異常
データが発生するという問題があった。
準液をサンプル5検体毎に1回測定することで時間を作
り、150検体/時の処理を可能にしている。この場合
、5検体に1回しか内部標準液を測定しないため、起電
力がドリフトし、正確なデータが得られない。異常検体
があった場合、次の検体が正常な検体であっても、異常
データが発生するという問題があった。
日立製作新製736形自動分析装置の電解質測定装置で
は、希釈容器がチェーン方式であるため、希釈容器の移
動が遅く、希釈容器の洗浄に長時間かかるという欠点が
あった。また、洗浄方法としてサンプリングプローブ専
用の希釈槽がないため、希釈容器に希釈液を吐出し、プ
ローブ内部を洗浄する方法をとるが、プローブの洗浄で
吐出された希釈液を真空チューブで20秒おきに24回
吸引し、その後、再度24個の希釈容器を内部標準液を
用いて20秒おきに洗浄していた。このため、スタート
キーを押してから分析が開始されるまでに最低約14分
必要であり、極めて操作性が悪かった。
は、希釈容器がチェーン方式であるため、希釈容器の移
動が遅く、希釈容器の洗浄に長時間かかるという欠点が
あった。また、洗浄方法としてサンプリングプローブ専
用の希釈槽がないため、希釈容器に希釈液を吐出し、プ
ローブ内部を洗浄する方法をとるが、プローブの洗浄で
吐出された希釈液を真空チューブで20秒おきに24回
吸引し、その後、再度24個の希釈容器を内部標準液を
用いて20秒おきに洗浄していた。このため、スタート
キーを押してから分析が開始されるまでに最低約14分
必要であり、極めて操作性が悪かった。
上記従来技術は、多数の検体を処理する場合、試料の温
度条件を一定にすることについては配慮がなされておら
ず、多数の検体の処理が不可能であった。また、希釈容
器の移動が遅く、かつ、希釈容器の洗浄に長時間かかる
という欠点があった。
度条件を一定にすることについては配慮がなされておら
ず、多数の検体の処理が不可能であった。また、希釈容
器の移動が遅く、かつ、希釈容器の洗浄に長時間かかる
という欠点があった。
本発明の目的は、試料の温度条件を容易に一定にするこ
とができ、かつ、希釈容器の動作速度を改善して高速、
高精度とすることができる電解質測定装置を提供するこ
とにある。
とができ、かつ、希釈容器の動作速度を改善して高速、
高精度とすることができる電解質測定装置を提供するこ
とにある。
上記目的は、ディスクにセットされた希釈容器を所定温
度に保つ恒温槽を設けて達成するようにした。
度に保つ恒温槽を設けて達成するようにした。
サンプル容器より試料がサンプリング機構により分注さ
れて希釈容器に一定量の試料が吐出されて、この試料に
一定量の希釈液が吐出される。
れて希釈容器に一定量の試料が吐出されて、この試料に
一定量の希釈液が吐出される。
内部標準液は試料が分注される前後各1回ずつ希釈容器
に分注され、これら希釈容器は一定温度に保たれた水槽
の中にある。希釈液または内部標準液が吐出され、一定
時間経過した後、フロー型電極に希釈された試料または
内部標準液が吸引されるが、この一定時間経過する間に
希釈された試料及び内部標準液は一定温度に加温される
。これにより電極部に吸引された場合にはフロー型電極
との温度差がなくなり、温度による影響を受けずに測定
が可能となる。
に分注され、これら希釈容器は一定温度に保たれた水槽
の中にある。希釈液または内部標準液が吐出され、一定
時間経過した後、フロー型電極に希釈された試料または
内部標準液が吸引されるが、この一定時間経過する間に
希釈された試料及び内部標準液は一定温度に加温される
。これにより電極部に吸引された場合にはフロー型電極
との温度差がなくなり、温度による影響を受けずに測定
が可能となる。
また、希釈容器はモータにより回転する反応ディスク上
にセットされ、希釈容器を洗浄するための洗浄機構、内
部標準液吐出機構、希釈液吐出機構も設けである。希釈
容器は反応ディスクに固定されているため、モータによ
り反応ディスクを回転することにより反応ディスク上の
特定の希釈容器を特定の位置で停止させることが可能で
あり、停止位置は希釈容器位置検出機構で検出される位
置とする。停止した位置で希釈容器の洗浄、内部標準液
及び希釈液の吐出が可能となる。これらにより希釈容器
を高速で自由に動作させることが可能となり、一方、電
極部に吸引される希釈された試料、内部標準液の温度が
一定であるため、温度応答は良好であり、一定時間に多
量の検体の電解質測定が可能となる。
にセットされ、希釈容器を洗浄するための洗浄機構、内
部標準液吐出機構、希釈液吐出機構も設けである。希釈
容器は反応ディスクに固定されているため、モータによ
り反応ディスクを回転することにより反応ディスク上の
特定の希釈容器を特定の位置で停止させることが可能で
あり、停止位置は希釈容器位置検出機構で検出される位
置とする。停止した位置で希釈容器の洗浄、内部標準液
及び希釈液の吐出が可能となる。これらにより希釈容器
を高速で自由に動作させることが可能となり、一方、電
極部に吸引される希釈された試料、内部標準液の温度が
一定であるため、温度応答は良好であり、一定時間に多
量の検体の電解質測定が可能となる。
以下本発明を第1図〜第4図に示した実施例及び第5図
、第6図を用いて詳細に説明する。
、第6図を用いて詳細に説明する。
第1図は本発明の電解質測定装置の恒温槽配置の一実施
例を示す配置図、第2図は本発明の電解質測定装置の一
実施例を示す概略図、第3図はサンプリング過程概略図
、第4図は洗浄機構概略図である。
例を示す配置図、第2図は本発明の電解質測定装置の一
実施例を示す概略図、第3図はサンプリング過程概略図
、第4図は洗浄機構概略図である。
第1図において、1はサンプルを希釈液で希釈する希釈
容器、2は希釈容器1を一定温度に保つ恒温槽、3はフ
ロー型電極、4はサンプルを第2図のサンプル容器21
から希釈容器1に分注するサンプル分注機構、5は恒温
槽2の温度をコントロールするためのヒータ、6は恒温
水を循環させるためのポンプ、7は冷却槽、8は希釈さ
れたすンプル及び内部標準液を希釈容器1から吸引する
ためのジッパ−チューブ、9はジッパ−チューブ8の上
下機構、10は複数の希釈容器1を固定するディスクで
、ディスク10には第2図に示すように円周上に等間隔
で48個の希釈容器1をセットする。11はディスク1
0を回転させるモータ、19はフロー型電極3にサンプ
ルを吸引するためのシッパーシリンジ、20は比較電極
、22はフロー型電極3を一定温度に保つ電極恒温槽、
23は恒温槽2の温度検知器、24は制御器、29はデ
ィスク10の位置検出器である。
容器、2は希釈容器1を一定温度に保つ恒温槽、3はフ
ロー型電極、4はサンプルを第2図のサンプル容器21
から希釈容器1に分注するサンプル分注機構、5は恒温
槽2の温度をコントロールするためのヒータ、6は恒温
水を循環させるためのポンプ、7は冷却槽、8は希釈さ
れたすンプル及び内部標準液を希釈容器1から吸引する
ためのジッパ−チューブ、9はジッパ−チューブ8の上
下機構、10は複数の希釈容器1を固定するディスクで
、ディスク10には第2図に示すように円周上に等間隔
で48個の希釈容器1をセットする。11はディスク1
0を回転させるモータ、19はフロー型電極3にサンプ
ルを吸引するためのシッパーシリンジ、20は比較電極
、22はフロー型電極3を一定温度に保つ電極恒温槽、
23は恒温槽2の温度検知器、24は制御器、29はデ
ィスク10の位置検出器である。
第2図において、1,3,4,8,19,20゜22は
第1図で説明したものであり、12は希釈液吐出チュー
ブ、13は内部標準液吐出チューブであり、それぞれ希
釈液吐出機構14、内部標準液吐出機構15に接続しで
ある。希釈液吐出機構14は希釈液容器16から希釈液
を吸引して希釈液吐出チューブ12より希釈容器1に吐
出し、内部標準液吐出機構15は内部標準液容器17か
ら内部標準液を吸引して内部標準液吐出チューブ13よ
り希釈容器1に吐出する。18はKCI容液、21はサ
ンプル容器で、サンプルディスク32に配列されている
。25は洗浄槽、28は希釈容器洗浄機構である。
第1図で説明したものであり、12は希釈液吐出チュー
ブ、13は内部標準液吐出チューブであり、それぞれ希
釈液吐出機構14、内部標準液吐出機構15に接続しで
ある。希釈液吐出機構14は希釈液容器16から希釈液
を吸引して希釈液吐出チューブ12より希釈容器1に吐
出し、内部標準液吐出機構15は内部標準液容器17か
ら内部標準液を吸引して内部標準液吐出チューブ13よ
り希釈容器1に吐出する。18はKCI容液、21はサ
ンプル容器で、サンプルディスク32に配列されている
。25は洗浄槽、28は希釈容器洗浄機構である。
ディスク10にセットされた希釈容器1を一定濃度に保
つ恒温槽2には、一定温度(37℃)に制御された水が
循環していて、この水は循環ポンプ6により恒温槽2、
循環ポンプ6、冷却槽7、ヒータ5の順に循環している
。恒温槽2中の水の温度は、恒温槽温度検知器23によ
り検知され、所定の温度より高い場合にはヒータ5がオ
フになる。この場合、水は冷却槽7により冷やされ、所
定の温度より下がるとヒータ5がオンになり、水は加熱
される。このヒータ5のオン、オフのコントロールによ
り恒温槽2の水は所定温度に保たれる。ヒータ5の制御
は、制御器24によって行う。
つ恒温槽2には、一定温度(37℃)に制御された水が
循環していて、この水は循環ポンプ6により恒温槽2、
循環ポンプ6、冷却槽7、ヒータ5の順に循環している
。恒温槽2中の水の温度は、恒温槽温度検知器23によ
り検知され、所定の温度より高い場合にはヒータ5がオ
フになる。この場合、水は冷却槽7により冷やされ、所
定の温度より下がるとヒータ5がオンになり、水は加熱
される。このヒータ5のオン、オフのコントロールによ
り恒温槽2の水は所定温度に保たれる。ヒータ5の制御
は、制御器24によって行う。
第5図に電解質の測定サイクルを示す。第3図に示すよ
うにサンプルを入れたサンプル容器21がサンプリング
位置に移動停止し、サンプル分注機構4がサンプル容器
21中に下降し、一定量30μQのサンプルを吸引する
と、サンプルを吸引したサンプル分注機構4は上昇、回
転して希釈容器1に下降し、一定量20μQのサンプル
を希釈容器l底部に吐出する。希釈容器1はディスク1
0に固定されており、ディスク10はモータ11により
回転される。サンプルを吐出された希釈容器1は1回転
と1ピッチ回転して停止する。この動作を半サイクルと
して移動していく。次の半サイクルで空の希釈容器1が
サンプル吐出位置にきて停止しているが、サンプリング
は実施しない。
うにサンプルを入れたサンプル容器21がサンプリング
位置に移動停止し、サンプル分注機構4がサンプル容器
21中に下降し、一定量30μQのサンプルを吸引する
と、サンプルを吸引したサンプル分注機構4は上昇、回
転して希釈容器1に下降し、一定量20μQのサンプル
を希釈容器l底部に吐出する。希釈容器1はディスク1
0に固定されており、ディスク10はモータ11により
回転される。サンプルを吐出された希釈容器1は1回転
と1ピッチ回転して停止する。この動作を半サイクルと
して移動していく。次の半サイクルで空の希釈容器1が
サンプル吐出位置にきて停止しているが、サンプリング
は実施しない。
第5図において、前半の半サイクルでサンプリングされ
た希釈容器1をA、後半の半サイクルの希釈容器1をB
として希釈容器1の動作を説明する。
た希釈容器1をA、後半の半サイクルの希釈容器1をB
として希釈容器1の動作を説明する。
希釈容器1は総数48個ついており、■サイクル18秒
で動作する。希釈容器1−Aは、2サイクル後希釈液吐
出位置に停止し、一定量600μQの希釈液が吐出され
、サンプルが希釈液で31倍に希釈される。同様に3サ
イクル後、希釈容器1−Bは、内部標準液吐出位置にて
停止し、一定量600μQの内部標準液が吐出される。
で動作する。希釈容器1−Aは、2サイクル後希釈液吐
出位置に停止し、一定量600μQの希釈液が吐出され
、サンプルが希釈液で31倍に希釈される。同様に3サ
イクル後、希釈容器1−Bは、内部標準液吐出位置にて
停止し、一定量600μQの内部標準液が吐出される。
その後、(lO)
希釈容器1−Aは、6サイクル後電極部に希釈されたサ
ンプル及び内部標準液を吸引するためのジッパ−チュー
ブ8の位置で停止する。ジッパ−チューブ8がジッパ−
チューブ上下機構9により下降し、希釈容器1−Aの底
で停止する。シッパーシリンジ19が下降し、一定量5
00μQの希釈されたサンプルを電極部に引張する。希
釈容器1−Bに吐出された内部標準液も吐出6サイクル
後、ジッパ−チューブ8より同様に電極部に一定量50
0μQ吸引される。このようにして9秒おきにフロー型
電極3に吸引を行う。フロー型電極3では吸引されたサ
ンプルを比較電極20とフロー型電極3で起電力として
測定し、増幅器、A−D変換器でディジタル値に変換し
、CPUにて濃度変換し、プリンターより出力する。
ンプル及び内部標準液を吸引するためのジッパ−チュー
ブ8の位置で停止する。ジッパ−チューブ8がジッパ−
チューブ上下機構9により下降し、希釈容器1−Aの底
で停止する。シッパーシリンジ19が下降し、一定量5
00μQの希釈されたサンプルを電極部に引張する。希
釈容器1−Bに吐出された内部標準液も吐出6サイクル
後、ジッパ−チューブ8より同様に電極部に一定量50
0μQ吸引される。このようにして9秒おきにフロー型
電極3に吸引を行う。フロー型電極3では吸引されたサ
ンプルを比較電極20とフロー型電極3で起電力として
測定し、増幅器、A−D変換器でディジタル値に変換し
、CPUにて濃度変換し、プリンターより出力する。
第3図にサンプリングの過程を示す。サンプル吐出後の
サンプル分注機構4は、洗浄槽25で精成水が外より出
てサンプル分注機構4の外壁を洗浄する。また、サンプ
リング用シリンジで加圧された精成水がチューブ26で
接続されており、電磁弁27を開けることによりサンプ
ル分注機構4内部を洗浄する。洗浄終了後、電磁弁27
は閉じて、精成水は出なくなる。
サンプル分注機構4は、洗浄槽25で精成水が外より出
てサンプル分注機構4の外壁を洗浄する。また、サンプ
リング用シリンジで加圧された精成水がチューブ26で
接続されており、電磁弁27を開けることによりサンプ
ル分注機構4内部を洗浄する。洗浄終了後、電磁弁27
は閉じて、精成水は出なくなる。
ジッパ−チューブ上下機構9は、希釈されたサンプルま
たは内部標準液吸引後、上昇して希釈容器1上部にて停
止する。ジッパ−チューブ8により吸引後、希釈容器1
は5サイクル動作する。5サイクル後、第4図に示すよ
うに、希釈容器洗浄機構28で希釈容器1内に残った溶
液を真空ポンプ30で真空吸引し、1定量1・rrvQ
の精成水を希釈容器洗浄水吐出機構31より吐出する。
たは内部標準液吸引後、上昇して希釈容器1上部にて停
止する。ジッパ−チューブ8により吸引後、希釈容器1
は5サイクル動作する。5サイクル後、第4図に示すよ
うに、希釈容器洗浄機構28で希釈容器1内に残った溶
液を真空ポンプ30で真空吸引し、1定量1・rrvQ
の精成水を希釈容器洗浄水吐出機構31より吐出する。
この洗浄を3回繰り返し、最後に希釈容器1に残った精
成水は真空吸引する。洗浄された希釈容器1は次のサン
プルまたは内部標準液のために再び使用する。希釈容器
洗浄機構28には、上下が可能であり、洗浄の場合には
、希釈容器1底部までノズル先端が下降して洗浄する。
成水は真空吸引する。洗浄された希釈容器1は次のサン
プルまたは内部標準液のために再び使用する。希釈容器
洗浄機構28には、上下が可能であり、洗浄の場合には
、希釈容器1底部までノズル先端が下降して洗浄する。
その他の場合は、」二昇し回転する希釈容器1にぶつか
らないようにしである。
らないようにしである。
検体測定の場合、最初に希釈容器]を洗浄し、内部標準
液を測定後、検体の測定を行う。第5図に示すように、
内部標準液、希釈された検体、内部標準液の順番で測定
を行う。
液を測定後、検体の測定を行う。第5図に示すように、
内部標準液、希釈された検体、内部標準液の順番で測定
を行う。
本発明の実施例によれば、フロー型電極3での温度特性
が改善され、第6図に示すように、フロー型電極3に希
釈されたサンプル及び内□部標準液を吸引する前し5一
定温度、すなわち、フロー型電極3と溶液部が同じ温度
になっており、フロー型電極3からの起電力を一定にで
きる。このため、精度が向上し、良好な再現性が得られ
る。
が改善され、第6図に示すように、フロー型電極3に希
釈されたサンプル及び内□部標準液を吸引する前し5一
定温度、すなわち、フロー型電極3と溶液部が同じ温度
になっており、フロー型電極3からの起電力を一定にで
きる。このため、精度が向上し、良好な再現性が得られ
る。
100検体/時間のとき、従来と本発明の実施例の温度
制御の結果得られたデータを比較したものを第1表に示
すが、再現性が約2倍に向上している。
制御の結果得られたデータを比較したものを第1表に示
すが、再現性が約2倍に向上している。
第 1 表
また、溶液の温度が一定となるため、従来のように、シ
ッパーシリンジで溶液吸引後、温度が一定になるまで待
つ必要がなくなり、1検体当りの処理時間が短かくなり
、多量の検体の処理が可能となる。
ッパーシリンジで溶液吸引後、温度が一定になるまで待
つ必要がなくなり、1検体当りの処理時間が短かくなり
、多量の検体の処理が可能となる。
第2表は従来のものでは150検体/時間、本発明の実
施例では200検体/時間の結巻を比較して示したもの
である。
施例では200検体/時間の結巻を比較して示したもの
である。
第 2 表
従来の方法では、150検体/時間てCVが約1%程度
しか得られなかったが、本発明の実施例の方法では20
0検体/時間の高速処理が可能であるばかりでなく、c
vfJ′Xo、3−0.4%と、100検体/時間の場
合とほぼ同等の精度が得られた。
しか得られなかったが、本発明の実施例の方法では20
0検体/時間の高速処理が可能であるばかりでなく、c
vfJ′Xo、3−0.4%と、100検体/時間の場
合とほぼ同等の精度が得られた。
また、1検体おきに内部標準液を測定しているため、前
検体の影響が小さく、その結果を第3表に示す。従来法
では、異常検体の後に正常検体を測定すると数%の高値
または低値のデータが得られるが、本発明の実施例によ
れば、それが約1%以下の影響になる。
検体の影響が小さく、その結果を第3表に示す。従来法
では、異常検体の後に正常検体を測定すると数%の高値
または低値のデータが得られるが、本発明の実施例によ
れば、それが約1%以下の影響になる。
また、従来、スタートから分析開始まで約14分かかつ
ていたのが、約7分で分析開始が可能になった。
ていたのが、約7分で分析開始が可能になった。
以上説明したように、本発明によれば、フロー型電極で
の温度特性が改善され、溶液も同じ温度になっているの
で、起電力を一定にでき、精度が向上し、良好な再現性
が得られ、また、−検体当りの処理時間が短かくなり、
多量の検体の処理が可能であり、同等の精度が得られる
という効果がある。
の温度特性が改善され、溶液も同じ温度になっているの
で、起電力を一定にでき、精度が向上し、良好な再現性
が得られ、また、−検体当りの処理時間が短かくなり、
多量の検体の処理が可能であり、同等の精度が得られる
という効果がある。
第1図は本発明の電解質測定装置の恒温槽配置の一実施
例を示す配置図、第2図は本発明の電解質測定装置の一
実施例を示す概略図、第3図はサンプリング過程概略図
、第4図は洗浄機構概略図、第5図は分析サイクル概略
図、第6図は電極起電力線図である。
例を示す配置図、第2図は本発明の電解質測定装置の一
実施例を示す概略図、第3図はサンプリング過程概略図
、第4図は洗浄機構概略図、第5図は分析サイクル概略
図、第6図は電極起電力線図である。
Claims (1)
- 1、電解質の濃度を測定するフロー型電極と、該フロー
型電極にサンプルを吸引するシッパーシリンジと、前記
フロー型電極を所定温度に保つ電極恒温槽と、比較電極
と、複数個の希釈容器をセットするディスクと、前記希
釈容器にサンプルを分注するサンプリング分注機構と、
前記希釈容器中のサンプルを希釈液で希釈する希釈液吐
出機構と、複数個のサンプル容器をセットしたサンプル
ディスクとを備えた電解質測定装置において、前記ディ
スクにセットされた前記希釈容器を所定温度に保つ恒温
槽を設けたことを特徴とする電解質測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62123828A JPS63289455A (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | 電解質測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62123828A JPS63289455A (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | 電解質測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63289455A true JPS63289455A (ja) | 1988-11-25 |
Family
ID=14870371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62123828A Pending JPS63289455A (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | 電解質測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63289455A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02120073U (ja) * | 1989-03-13 | 1990-09-27 | ||
| JP2008209337A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Hitachi High-Technologies Corp | 自動分析装置 |
| JP2009139245A (ja) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 自動分析装置 |
| WO2010117044A1 (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置および分注装置 |
| JP2018004388A (ja) * | 2016-06-30 | 2018-01-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置 |
-
1987
- 1987-05-22 JP JP62123828A patent/JPS63289455A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02120073U (ja) * | 1989-03-13 | 1990-09-27 | ||
| JP2008209337A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Hitachi High-Technologies Corp | 自動分析装置 |
| JP2009139245A (ja) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 自動分析装置 |
| WO2010117044A1 (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置および分注装置 |
| JPWO2010117044A1 (ja) * | 2009-04-09 | 2012-10-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置および分注装置 |
| JP2018004388A (ja) * | 2016-06-30 | 2018-01-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置 |
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