JPS63293480A - バ−ンインテスト装置 - Google Patents
バ−ンインテスト装置Info
- Publication number
- JPS63293480A JPS63293480A JP62128234A JP12823487A JPS63293480A JP S63293480 A JPS63293480 A JP S63293480A JP 62128234 A JP62128234 A JP 62128234A JP 12823487 A JP12823487 A JP 12823487A JP S63293480 A JPS63293480 A JP S63293480A
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- Japan
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- test
- liquid material
- electrode
- semiconductor device
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- Pending
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- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、バーンインテスト装置に関し、特に、液材を
用いて半導体装置の温度制御をするバーンインテスト装
置に適用して有効な技術に関するものである。
用いて半導体装置の温度制御をするバーンインテスト装
置に適用して有効な技術に関するものである。
半導体装置は、それが完成した後に高温状態下で試験電
圧を印加して動作させることにより、初期不良を起すよ
うなものを短期間に劣化させて出荷以前に取り除くよう
にしている。これは、バーンインテストと云われる。こ
のバーンインテスト時に半導体チップから発熱するが、
発熱量の大きなものでは素子の不良に係わらずその熱に
よって半導体チップが破壊される。そこで、前記試験は
。
圧を印加して動作させることにより、初期不良を起すよ
うなものを短期間に劣化させて出荷以前に取り除くよう
にしている。これは、バーンインテストと云われる。こ
のバーンインテスト時に半導体チップから発熱するが、
発熱量の大きなものでは素子の不良に係わらずその熱に
よって半導体チップが破壊される。そこで、前記試験は
。
バーンインテスト槽の中に例えばフロロカーボン等の液
材を満し、この中で温度制御しながら行う。
材を満し、この中で温度制御しながら行う。
なお、バーンインテストに関しては、例えばオーム社、
昭和56年6月30日発行「半導体ハンドブックJ p
H08〜p 110.9に記載されている。
昭和56年6月30日発行「半導体ハンドブックJ p
H08〜p 110.9に記載されている。
本発明者は、前記液材を用いたバーンインテスト装置を
検討した結果1次の問題点を見出した。
検討した結果1次の問題点を見出した。
液材の中には、半導体装置やそれがセットされる試験基
板等に付着していたイオンが溶は込む。
板等に付着していたイオンが溶は込む。
このイオンのために、半導体装置のリード間がショート
し又は大電流が流れて半導体装置を破壊する。
し又は大電流が流れて半導体装置を破壊する。
本発明の目的は、バーンインテスト装置の液材の清浄度
を高めることにある。
を高めることにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は1本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
本顆において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、バーンインテスト槽の液材の中に電極を設け
、この電極に所定電圧を印加するものである。
、この電極に所定電圧を印加するものである。
上述した手段によれば、液材の中のイオンが前記電極に
よって吸着されるので、液材の清浄度を高めることがで
きる。
よって吸着されるので、液材の清浄度を高めることがで
きる。
以下・本発明の実施例!を図面を用いて説明する。
第1図は、本発明の実施例Iにおけるバーンインテスト
装置を説明するための図である。
装置を説明するための図である。
第1図において、1は例えばステンレス鋼からなるバー
ンインテスト槽であり、バーンインテスト時の半導体装
置12を例えばフロロカーボン等からなる液材7によっ
て温度制御するためのものである。バーンインテスト槽
1には、その底部に接続されたパイプ2を通して、主タ
ンク4の中の液材7をポンプ3で送り込むようにしてい
る。パイプ2及び主タンク4は1例えばステンレス鋼が
らなっている。6はバーンインテスト槽1がら溢れ出た
液材7を受けるためのパン(p a n)であり、この
中に溢れた液材7をパイプ5を通して主タンク4に戻す
ようにしている。
ンインテスト槽であり、バーンインテスト時の半導体装
置12を例えばフロロカーボン等からなる液材7によっ
て温度制御するためのものである。バーンインテスト槽
1には、その底部に接続されたパイプ2を通して、主タ
ンク4の中の液材7をポンプ3で送り込むようにしてい
る。パイプ2及び主タンク4は1例えばステンレス鋼が
らなっている。6はバーンインテスト槽1がら溢れ出た
液材7を受けるためのパン(p a n)であり、この
中に溢れた液材7をパイプ5を通して主タンク4に戻す
ようにしている。
半導体装置12は、例えばバイポーラトランジスタ等に
よって種々の回路が構成された半導体チップを例えばセ
ラミックパッケージで封止したものである。この半導体
装置12は、そのリードピン(図示していない)を例え
ばガラスエポキシ樹脂。
よって種々の回路が構成された半導体チップを例えばセ
ラミックパッケージで封止したものである。この半導体
装置12は、そのリードピン(図示していない)を例え
ばガラスエポキシ樹脂。
セラミック等からなる試験基板11に設けられている接
続端子に接続しである。試験基板11には例えば銅膜等
からなる配線が施してあり、この配線にケーブル13A
、13Bを通して電源17を接続し、半導体装置12に
試験電圧を給電するようにしている。
続端子に接続しである。試験基板11には例えば銅膜等
からなる配線が施してあり、この配線にケーブル13A
、13Bを通して電源17を接続し、半導体装置12に
試験電圧を給電するようにしている。
試験電圧としては、バイポーラトランジスタの場合であ
れば、Hレベル(高電位)が例えば+5v、Lレベル(
低電位)が例えば−3vの定電源を使用する。半導体装
置12のチップ内の回路がMOSFETで構成されたも
のであれば、Hレベル(高電位)が例えば+5V、Lレ
ベル(低電位)が例えばOvの定電源を使用する。なお
1M05FET及びメモリの場合には、電源だけでなく
信号も入力するようにしてスタティック状態とならない
ようにする。半導体装置12がセットされた試験基板1
1は、バーンインテスト槽1の液材7の中に浸けられる
。このバーンインテスト時においては、液材7が常時バ
ーンインテスト槽1からオーバフロー7AI、ているよ
うにされる。
れば、Hレベル(高電位)が例えば+5v、Lレベル(
低電位)が例えば−3vの定電源を使用する。半導体装
置12のチップ内の回路がMOSFETで構成されたも
のであれば、Hレベル(高電位)が例えば+5V、Lレ
ベル(低電位)が例えばOvの定電源を使用する。なお
1M05FET及びメモリの場合には、電源だけでなく
信号も入力するようにしてスタティック状態とならない
ようにする。半導体装置12がセットされた試験基板1
1は、バーンインテスト槽1の液材7の中に浸けられる
。このバーンインテスト時においては、液材7が常時バ
ーンインテスト槽1からオーバフロー7AI、ているよ
うにされる。
この実施例Iでは、バーンインテスト槽1の中に電極8
を設け、このfR電極に例えば−7v、バーンインテス
ト槽1に例えば+7vを印加することにより、液材7の
中のClイオンやNaイオン等を吸着するようにしてい
る。つまり、f!!極8には半導体装置12に印加され
るLレベルの電位よりも低い負(−)電位を印加し、バ
ーンインテスト槽1には半導体装置12に印加されるH
レベルの電位より高い正(+)電位を印加するようにし
ている。
を設け、このfR電極に例えば−7v、バーンインテス
ト槽1に例えば+7vを印加することにより、液材7の
中のClイオンやNaイオン等を吸着するようにしてい
る。つまり、f!!極8には半導体装置12に印加され
るLレベルの電位よりも低い負(−)電位を印加し、バ
ーンインテスト槽1には半導体装置12に印加されるH
レベルの電位より高い正(+)電位を印加するようにし
ている。
電極8の材料は限定されたものではなく、金属であれば
よい、電極8は、板状のものでもよく、また1枚の板に
複数の小さな穴を開けて液材7が流れ易くしたものであ
ってもよい、W1極8は、例えばシリコーン系樹脂から
なる絶縁層9によってバーンインテスト槽1から絶縁し
ている。電極8はケーブルIOAによって、バーンイン
テスト槽1はケーブル10Bによってそれぞれ電源16
に接続している。
よい、電極8は、板状のものでもよく、また1枚の板に
複数の小さな穴を開けて液材7が流れ易くしたものであ
ってもよい、W1極8は、例えばシリコーン系樹脂から
なる絶縁層9によってバーンインテスト槽1から絶縁し
ている。電極8はケーブルIOAによって、バーンイン
テスト槽1はケーブル10Bによってそれぞれ電源16
に接続している。
また、バーンインテスト槽1に液材7が注ぎ込れる入口
の近くにイオンフィルタ14の保持器2Aを設け、この
中にイオンフィルタ14を内蔵している。保持器2Aは
、例えばステンレス鋼からなっている。イオンフィルタ
14にはケーブルIOAを接続して、負(−)電位例え
ば−7vを印加し、主にNaイオンを吸着するようにし
ている。
の近くにイオンフィルタ14の保持器2Aを設け、この
中にイオンフィルタ14を内蔵している。保持器2Aは
、例えばステンレス鋼からなっている。イオンフィルタ
14にはケーブルIOAを接続して、負(−)電位例え
ば−7vを印加し、主にNaイオンを吸着するようにし
ている。
ここで、イオンフィルタ14の全体図を第2図に示す。
第2図において、14Aは例えばエポキシ樹脂等の絶縁
材からなる外枠であり、14Bが金属メツシュである。
材からなる外枠であり、14Bが金属メツシュである。
第2図では、金属メツシュ14Bの一部を示している。
イオンフィルタ14の形状は、円形に限られたものでは
なく、パイプ2の断面形状と同様であればよい、なお、
保持器2Aは、バーンインテスト槽1の内部に設けるよ
うにしてもよく、このようにすることによりパイプ2と
バーンインテスト槽1の間に絶縁材を介在させることに
より絶縁するようにしてもよい、金属メツシュ14Bは
、外枠14Aによって保持器2Aから絶縁されている。
なく、パイプ2の断面形状と同様であればよい、なお、
保持器2Aは、バーンインテスト槽1の内部に設けるよ
うにしてもよく、このようにすることによりパイプ2と
バーンインテスト槽1の間に絶縁材を介在させることに
より絶縁するようにしてもよい、金属メツシュ14Bは
、外枠14Aによって保持器2Aから絶縁されている。
以上、説明したように、本実施例によれば次の効果を得
ることができる。
ることができる。
バーンインテスト槽1内に電極8を設け、この電極8と
バーンインテスト槽1の間に電圧を印加していることに
より、NaイオンやC1イオン等のイオンを取り除くこ
とができるので、液材7の中のイオン濃度を低くするこ
とができる。これにより、半導体装置12がバーンイン
テスト時に、リード間のショートや大電流によって破壊
されることがなくなる。
バーンインテスト槽1の間に電圧を印加していることに
より、NaイオンやC1イオン等のイオンを取り除くこ
とができるので、液材7の中のイオン濃度を低くするこ
とができる。これにより、半導体装置12がバーンイン
テスト時に、リード間のショートや大電流によって破壊
されることがなくなる。
また、電極8に負電位、バーンインテスト槽1すなわち
面積の大きい方に正電位を印加するようにしていること
により、半導体装1ft12に与える影響が大きいC1
イオンが取り除き易くなっている。
面積の大きい方に正電位を印加するようにしていること
により、半導体装1ft12に与える影響が大きいC1
イオンが取り除き易くなっている。
また、イオンフィルタ14を設けたことにより、全ての
液材7がこのイオンフィルタ14を通過するので、液材
7の中のイオンを良好に取り除くことができる。
液材7がこのイオンフィルタ14を通過するので、液材
7の中のイオンを良好に取り除くことができる。
なお、イオンフィルタ14は、設けないようにしてもよ
い。
い。
第3図は1本発明の実施例■のバーンインテスト装置を
説明するための図である。
説明するための図である。
実施例■のバーンインテスト装置は、半導体装1112
の上部に格子電極15を設け、これにより液材7の中の
イオンを取り除くようにしたものである。
の上部に格子電極15を設け、これにより液材7の中の
イオンを取り除くようにしたものである。
格子電極15の平面構造を第4図に、断面構造を第5図
に示す。
に示す。
格子電極15は第4図に示すように、Y方向に長い導体
15Aと、X方向に長い導体15Bとを互い違いに組み
合せて構成したものである。導体15Aと導体15Bの
重り部分には1例えばシリコーン樹脂等からなる絶縁材
15Gを介在させることにより絶縁している。また、そ
れぞれの導体15AはケーブルIOAを通して、それぞ
れの導体15Bはケーブル10Bを通して電源16に接
続している。また、導体15A、15Bのそれぞれは、
バーンインテスト槽1からは絶縁される。格子電極15
は、バーンインテスト槽1の開口径とほぼ同程度の大き
さにする。
15Aと、X方向に長い導体15Bとを互い違いに組み
合せて構成したものである。導体15Aと導体15Bの
重り部分には1例えばシリコーン樹脂等からなる絶縁材
15Gを介在させることにより絶縁している。また、そ
れぞれの導体15AはケーブルIOAを通して、それぞ
れの導体15Bはケーブル10Bを通して電源16に接
続している。また、導体15A、15Bのそれぞれは、
バーンインテスト槽1からは絶縁される。格子電極15
は、バーンインテスト槽1の開口径とほぼ同程度の大き
さにする。
このように、導体15Aと15Bを密に組み合せた格子
電極15を液材7の中の半導体装!112の上部に置く
ことにより、試験基板11.半導体装置12等から液材
7の中に溶は込んだNaイオンやC1イオンをただちに
取り除くことができる。すなわち、前記イオンがバーン
インテスト槽1からパン6゜パイプ5、主タンク4、パ
イプ2.ポンプ3、パイプ2と循環しないうちに取り除
くことができる。
電極15を液材7の中の半導体装!112の上部に置く
ことにより、試験基板11.半導体装置12等から液材
7の中に溶は込んだNaイオンやC1イオンをただちに
取り除くことができる。すなわち、前記イオンがバーン
インテスト槽1からパン6゜パイプ5、主タンク4、パ
イプ2.ポンプ3、パイプ2と循環しないうちに取り除
くことができる。
また、導体15Aと導体15Bがイオンを取り除く上で
の陽と陰の2つの電極となっているので、バーンインテ
スト槽1に電圧を印加しないようにできる。
の陽と陰の2つの電極となっているので、バーンインテ
スト槽1に電圧を印加しないようにできる。
なお、第3図には図示していないが、第1図に示したイ
オンフィルタ14を設けるようにしてもよい。
オンフィルタ14を設けるようにしてもよい。
以上1本発明を実施例にもとづき具体的に説明したが、
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は言うまでもない。
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は言うまでもない。
例えば、液材7は、オーバフロー7A状態にしなくても
よく、液材7を半導体装直重2から発生する熱で蒸発さ
せることにより、温度制御する装置であってもよい。
よく、液材7を半導体装直重2から発生する熱で蒸発さ
せることにより、温度制御する装置であってもよい。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
バーンインテスト槽の液材の中に電極を設け、この電極
に所定の電圧を印加するようにしたことにより、前記液
材の中のイオンが前記電極によって取り除かれるので、
液材の清浄度を高めることができる。
に所定の電圧を印加するようにしたことにより、前記液
材の中のイオンが前記電極によって取り除かれるので、
液材の清浄度を高めることができる。
第1図は、本発明の実施例■のバーンインテスト装置を
説明するための図。 第2図は、イオンフィルタの平面図、 第3図は1本発明の実施例■を説明するための図、 第4図は、格子電極の平面図、 第5図は、格子電極の断面図である。 図中、!・・・バーンインテスト槽(ステンレス)、2
.5・・・パイプ、3・・・ポンプ、4・・・主タンク
、6・・・パン、7・・・液材(フロロカーボン)、8
・・・電極。 9.15G・・・絶縁材、10A、IOB、13A、1
3B・・・配線、11・・・試験基板、12・・・半導
体装置、14・・・イオンフィルタ、14A・・・外枠
、14B・・・金属メツシュ、2A・・・保持器、15
・・・格子電極、15A、15B・・・導体、16.1
7・・・電源。 第 1 図
説明するための図。 第2図は、イオンフィルタの平面図、 第3図は1本発明の実施例■を説明するための図、 第4図は、格子電極の平面図、 第5図は、格子電極の断面図である。 図中、!・・・バーンインテスト槽(ステンレス)、2
.5・・・パイプ、3・・・ポンプ、4・・・主タンク
、6・・・パン、7・・・液材(フロロカーボン)、8
・・・電極。 9.15G・・・絶縁材、10A、IOB、13A、1
3B・・・配線、11・・・試験基板、12・・・半導
体装置、14・・・イオンフィルタ、14A・・・外枠
、14B・・・金属メツシュ、2A・・・保持器、15
・・・格子電極、15A、15B・・・導体、16.1
7・・・電源。 第 1 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、試験電圧が印加された試験時の半導体装置を、バー
ンインテスト槽の中に入れた液材で温度制御するバーン
インテスト装置であって、前記バーンインテスト槽の液
材の中に電極を設け、該電極に所定電圧を印加したこと
を特徴とするバーンインテスト装置。 2、前記液材は前記バーンインテスト槽に対してオーバ
フローにされることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載のバーンインテスト装置。 3、前記電極で液材の中のイオンを吸着することを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のバーンインテスト装
置。 4、前記電極は、前記バーンインテスト槽の液材が送り
込まれる入口部に設けたものであることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のバーンインテスト装置。 5、前記電極は、前記バーンインテスト槽の中の半導体
装置の上部に設けてあることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のバーンインテスト装置。 6、前記電極は、第1方向に延びる複数の第1導体と、
該第1導体と交差しかつ絶縁されて第2方向に延びる第
2導体とで格子状に構成され、前記第1導体に正電位、
第2導体に負電位が印加されることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載のバーンインテスト装置。 7、前記電極に印加する所定電圧は、前記半導体装置に
印加する試験電圧より大きいことを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載のバーンインテスト装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62128234A JPS63293480A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | バ−ンインテスト装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62128234A JPS63293480A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | バ−ンインテスト装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63293480A true JPS63293480A (ja) | 1988-11-30 |
Family
ID=14979809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62128234A Pending JPS63293480A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | バ−ンインテスト装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63293480A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04199530A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-20 | Mitsubishi Electric Corp | バーンインボード |
-
1987
- 1987-05-27 JP JP62128234A patent/JPS63293480A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04199530A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-20 | Mitsubishi Electric Corp | バーンインボード |
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