JPS63302349A - パタ−ン検査装置 - Google Patents
パタ−ン検査装置Info
- Publication number
- JPS63302349A JPS63302349A JP13840387A JP13840387A JPS63302349A JP S63302349 A JPS63302349 A JP S63302349A JP 13840387 A JP13840387 A JP 13840387A JP 13840387 A JP13840387 A JP 13840387A JP S63302349 A JPS63302349 A JP S63302349A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- light receiving
- laser beam
- pattern
- light
- Prior art date
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- Pending
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Input (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、回路基板等に形成された回路パターンの欠陥
の有無をレーザビームを走査することによって検出する
パターン検査装置に関するものである。
の有無をレーザビームを走査することによって検出する
パターン検査装置に関するものである。
〔従来の技術］
従来において、第２図に示すように、レーザ光源１から
出射されたレーザビームをポリゴンミラー２によって偏
向し、ｆθレンズ３を介して回路基板４の回路パターン
面を走査し、回路パターン面から得られる反射光を受光
装置５によって受光し、その反射光の光像と予め設定さ
れている回路パターン像とを検出装置６で比較すること
により、回路パターンの欠陥の有無を検出するようにし
たパターン検査装置が知られている。
出射されたレーザビームをポリゴンミラー２によって偏
向し、ｆθレンズ３を介して回路基板４の回路パターン
面を走査し、回路パターン面から得られる反射光を受光
装置５によって受光し、その反射光の光像と予め設定さ
れている回路パターン像とを検出装置６で比較すること
により、回路パターンの欠陥の有無を検出するようにし
たパターン検査装置が知られている。
この検査装置においては、図の矢印六方向が主走査方向
となり、矢印Ｂ方向の副走査方向については回路基板４
を保持したテーブル７またはポリゴンミラー２およびｆ
Ｏレンズ３を副走査方向に移動することにより、回路基
板全体のパターンが検査される。
となり、矢印Ｂ方向の副走査方向については回路基板４
を保持したテーブル７またはポリゴンミラー２およびｆ
Ｏレンズ３を副走査方向に移動することにより、回路基
板全体のパターンが検査される。
ところが、このような検査のために用いられるレーザビ
ームはそのスポット径が８〜１５μｍ程度で非常に小さ
く、１つのポリゴンミラー２で走査可能な主走査方向の
幅も１００〜２００Ｉｎ程度である。このため、縦と横
の寸法が６００ｘ ６００１ｎ程度の大きな回路基板の
パターンを検査するためには、第３図に示すように、回
路基板面を幾つかのブロックに分け、各ブロック毎に検
査しなければならない。従って、ポリゴンミラー２およ
びｆＯレンズ３等のビーム走査ぼ構を第３図のＸ方向お
よびｙ方向の両方に移動させることが必要となり、■構
が複雑になったうえ、検査時間も長くなってしまう問題
があった。
ームはそのスポット径が８〜１５μｍ程度で非常に小さ
く、１つのポリゴンミラー２で走査可能な主走査方向の
幅も１００〜２００Ｉｎ程度である。このため、縦と横
の寸法が６００ｘ ６００１ｎ程度の大きな回路基板の
パターンを検査するためには、第３図に示すように、回
路基板面を幾つかのブロックに分け、各ブロック毎に検
査しなければならない。従って、ポリゴンミラー２およ
びｆＯレンズ３等のビーム走査ぼ構を第３図のＸ方向お
よびｙ方向の両方に移動させることが必要となり、■構
が複雑になったうえ、検査時間も長くなってしまう問題
があった。
そこで、第４図に示すように、回路基板４の一辺に、ポ
リゴンミラーとｆθレンズとから成る複数個の走査装置
８ａ〜８Ｃを１列に並べ、これら走査装置８ａ〜８Ｃを
Ｄ１走査方向に同期して移動させることにより、上記の
ような問題を解決することが考えられる。
リゴンミラーとｆθレンズとから成る複数個の走査装置
８ａ〜８Ｃを１列に並べ、これら走査装置８ａ〜８Ｃを
Ｄ１走査方向に同期して移動させることにより、上記の
ような問題を解決することが考えられる。
〔発明が解決しようする問題点］
ところが、回路パターン面からの反射光を受光する受光
装置としては、光電子増信管あるいはフォトダイオード
が用いられるので、走査装置８ａ〜８Ｃを単純に１列に
並べると、隣接する走査装置による反射光が受光面の両
端で受光されてしまい、検出精度を低下させる原因とな
る。
装置としては、光電子増信管あるいはフォトダイオード
が用いられるので、走査装置８ａ〜８Ｃを単純に１列に
並べると、隣接する走査装置による反射光が受光面の両
端で受光されてしまい、検出精度を低下させる原因とな
る。
これは、第５図に示すように、光ファイバ１０ａ〜１０
ｃを１列に並べて受光面を形成した受光Ｉｔｆｆ９ａ〜
９Ｃでも同様であり、受光面の両端部で隣りの走査装置
による反射光が受光されてしまう。
ｃを１列に並べて受光面を形成した受光Ｉｔｆｆ９ａ〜
９Ｃでも同様であり、受光面の両端部で隣りの走査装置
による反射光が受光されてしまう。
本発明の目的は、大面積のパターンの欠陥の有無を精度
良く検出することができるパターン検査装置を提供する
ことにある。
良く検出することができるパターン検査装置を提供する
ことにある。
（問題点を解決するための手段〕
本発明は、複数の走査装置および受光装置をレーザビー
ムの走査範囲の両端部が一部重複するように配設すると
」ｔに、レーザビームの出射方向および反射光の受光方
向が交互に胃なるように配設したものである。
ムの走査範囲の両端部が一部重複するように配設すると
」ｔに、レーザビームの出射方向および反射光の受光方
向が交互に胃なるように配設したものである。
（作用〕
レーザビームはその主走査方向における両端部の一部が
重複するように出射される。この時、隣りのレーザビー
ムは出射方向が反対になるようにパターン面に入射され
る。従って、隣りの走査装置のレーザビームによる反射
光は入力されず、それぞれの受光装置においては自己に
対応する走査装置による反射光のみが入射される 〔実施例） 第１図は本発明の一実施例を示す斜視図であり、レーザ
ビームの走査装置と受光装置のみを示している。図にお
いて、回路基板４の回路パターン面を走査する走査装置
としては３個の走査装置８ａ〜８Ｃが設けられている。
重複するように出射される。この時、隣りのレーザビー
ムは出射方向が反対になるようにパターン面に入射され
る。従って、隣りの走査装置のレーザビームによる反射
光は入力されず、それぞれの受光装置においては自己に
対応する走査装置による反射光のみが入射される 〔実施例） 第１図は本発明の一実施例を示す斜視図であり、レーザ
ビームの走査装置と受光装置のみを示している。図にお
いて、回路基板４の回路パターン面を走査する走査装置
としては３個の走査装置８ａ〜８Ｃが設けられている。
また、これら走査装置８ａ〜８Ｃにそれぞれ対応して３
１［！］の受光装置９ａ〜９Ｃが設けられている。
１［！］の受光装置９ａ〜９Ｃが設けられている。
ここで、各走査装置８８〜８Ｃはレーザビームの出射方
向が互い違いになるように配置されると共に、主走査方
向におけるレーザビームの両端部の一部が弔復するよう
に構成されている。
向が互い違いになるように配置されると共に、主走査方
向におけるレーザビームの両端部の一部が弔復するよう
に構成されている。
すなわち、走査装ｆｆ１８ａと８Ｃは図の矢印Ａ。
Ｃ方向にレーザビームを出射するように配置されている
が、走査装置ｆｆ８ｂについてはＡ、Ｃ方向と逆方向の
Ｂ方向にレーザビームを出射するように配置されている
。
が、走査装置ｆｆ８ｂについてはＡ、Ｃ方向と逆方向の
Ｂ方向にレーザビームを出射するように配置されている
。
このようなレーザビームの出射方向に対応して受光装＠
９ａ〜９Ｃについても、受光ＨＨ９ａと９Ｃは矢印ａ、
Ｃ方向から反射光を受光し、受光装置９ｂは矢印す方向
から反射光を受光するように配置されている。
９ａ〜９Ｃについても、受光ＨＨ９ａと９Ｃは矢印ａ、
Ｃ方向から反射光を受光し、受光装置９ｂは矢印す方向
から反射光を受光するように配置されている。
ここで、受光装置９ａ〜９Ｃの受光範囲の合計は基板４
におけるレーザビーム主走査方向の長さを充分カバーす
るように構成されている。
におけるレーザビーム主走査方向の長さを充分カバーす
るように構成されている。
従って、以上の構成においては、例えば受光装置９ａに
ついてみると、走査装置Ｈ８ｂ側の端部で走査装置８ａ
のレーザビームとが一部重複しているが、走査装＠８ａ
と８ｂの出射方向が完全な逆方向の関係になるため、受
光装置９ａには走査装置８ｂのレーザビームによる反射
光は受光されなくなる。
ついてみると、走査装置Ｈ８ｂ側の端部で走査装置８ａ
のレーザビームとが一部重複しているが、走査装＠８ａ
と８ｂの出射方向が完全な逆方向の関係になるため、受
光装置９ａには走査装置８ｂのレーザビームによる反射
光は受光されなくなる。
これは、受光装置９ｂ、９ｃについても同様である。
従って、受光装置９ａ〜９Ｃの境界領域における隣接す
る走査装置による悪影響がなくなり、回路パターンの欠
陥を高精度で検出することができる。
る走査装置による悪影響がなくなり、回路パターンの欠
陥を高精度で検出することができる。
なお、受光装ｆＨ９ａ〜９Ｃはフォトダイオード等を１
列に並べた構成に限らず、ＣＯＤなどのイメージセンサ
で構成することもできる。
列に並べた構成に限らず、ＣＯＤなどのイメージセンサ
で構成することもできる。
（光明の効果）
以上説明したように本発明によれば、複数の走査装置お
よび受光装置をレーザビームの出射方向とその反射光の
受光方向が交互に箕なるように配設したため、大面積の
パターンの欠陥の有無を高精度で検出できるという効果
がある。
よび受光装置をレーザビームの出射方向とその反射光の
受光方向が交互に箕なるように配設したため、大面積の
パターンの欠陥の有無を高精度で検出できるという効果
がある。
第１図は本発明の一実施、例を示す斜視図、第２図は従
来のパターン検査装置の慨略肴成図、第３図は大面積の
パターンの欠陥の有無を検査する時の走査方法を示す説
明図、第４図および第５図は複数の走査装置と受光装置
を用いてパターンの欠陥の有無を検査する従来のパター
ン検査装置の慨略溝底図である。 １・・・レーザ光源、２・・・ポリゴンミラー、３・・
・ｆθレンズ、４・・・回路基板、５・・・受光装置、
６・・・検出装置、７・・・テーブル、８ａ〜８Ｃ・・
・走査装置、９ａ〜９Ｃ・・・受光装置。 第２図 第３図 第４図 第５図
来のパターン検査装置の慨略肴成図、第３図は大面積の
パターンの欠陥の有無を検査する時の走査方法を示す説
明図、第４図および第５図は複数の走査装置と受光装置
を用いてパターンの欠陥の有無を検査する従来のパター
ン検査装置の慨略溝底図である。 １・・・レーザ光源、２・・・ポリゴンミラー、３・・
・ｆθレンズ、４・・・回路基板、５・・・受光装置、
６・・・検出装置、７・・・テーブル、８ａ〜８Ｃ・・
・走査装置、９ａ〜９Ｃ・・・受光装置。 第２図 第３図 第４図 第５図
Claims (1)
- レーザ光源から出射されたレーザビームを偏向して所定
のパターンが形成された基板表面をそれぞれ並行して走
査する複数の走査装置と、各走査装置に対応して設けら
れ、基板表面からの反射光を受光する複数の受光装置と
、これら受光装置によって受光された反射光の光像によ
って基板表面に形成れたパターンの欠陥の有無を検出す
る検出装置とを備えたパターン検査装置において、前記
各走査装置および受光装置をレーザビームの走査範囲の
両端部が一部重複するように配設すると共に、レーザビ
ームの出射方向および反射光の受光方向が交互に異なる
ように配設したことを特徴とするパターン検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13840387A JPS63302349A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | パタ−ン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13840387A JPS63302349A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | パタ−ン検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63302349A true JPS63302349A (ja) | 1988-12-09 |
Family
ID=15221141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13840387A Pending JPS63302349A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | パタ−ン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63302349A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011220827A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Nippon Steel Corp | 表面欠陥検査装置、表面欠陥検査方法及びプログラム |
| WO2019231298A1 (ko) * | 2018-05-31 | 2019-12-05 | (주) 솔 | 영상 기반의 대면적 시료 분석 장치, 매질 특성 차이를 이용한 영상 기반의 시료 분석 장치 및 이를 이용하여 시료를 측정하고 분석하는 방법 |
| KR20190136582A (ko) * | 2018-05-31 | 2019-12-10 | (주) 솔 | 영상 기반의 대면적 시료 분석 장치 |
| JP2021525896A (ja) * | 2018-05-31 | 2021-09-27 | ソル・インコーポレイテッドＳｏｌ Ｉｎｃ． | 映像基盤の大面積試料分析装置、媒質の特性差を用いた映像基盤の試料分析装置及びこれを用いて試料を測定して分析する方法 |
-
1987
- 1987-06-02 JP JP13840387A patent/JPS63302349A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011220827A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Nippon Steel Corp | 表面欠陥検査装置、表面欠陥検査方法及びプログラム |
| WO2019231298A1 (ko) * | 2018-05-31 | 2019-12-05 | (주) 솔 | 영상 기반의 대면적 시료 분석 장치, 매질 특성 차이를 이용한 영상 기반의 시료 분석 장치 및 이를 이용하여 시료를 측정하고 분석하는 방법 |
| KR20190136582A (ko) * | 2018-05-31 | 2019-12-10 | (주) 솔 | 영상 기반의 대면적 시료 분석 장치 |
| JP2021525896A (ja) * | 2018-05-31 | 2021-09-27 | ソル・インコーポレイテッドＳｏｌ Ｉｎｃ． | 映像基盤の大面積試料分析装置、媒質の特性差を用いた映像基盤の試料分析装置及びこれを用いて試料を測定して分析する方法 |
| US11624899B2 (en) | 2018-05-31 | 2023-04-11 | Sol Inc. | Device for analyzing large-area sample based on image, device for analyzing sample based on image by using difference in medium characteristic, and method for measuring and analyzing sample using the same |
| US12159473B2 (en) | 2018-05-31 | 2024-12-03 | Sol Inc. | Device for analyzing large-area sample based on image, device for analyzing sample based on image by using difference in medium characteristic, and method for measuring and analyzing sample using the same |
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