JPS63304507A - 電線 - Google Patents
電線Info
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- JPS63304507A JPS63304507A JP62067646A JP6764687A JPS63304507A JP S63304507 A JPS63304507 A JP S63304507A JP 62067646 A JP62067646 A JP 62067646A JP 6764687 A JP6764687 A JP 6764687A JP S63304507 A JPS63304507 A JP S63304507A
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- JP
- Japan
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- electric wire
- conductor
- oxide film
- wire
- coating layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、電線に関し、特に耐火性、耐熱性を要する
マグネットワイヤ、原子炉周辺用電線等や耐食性を要す
る特殊電線、ケーブルに用いられる電線に関するもので
ある。
マグネットワイヤ、原子炉周辺用電線等や耐食性を要す
る特殊電線、ケーブルに用いられる電線に関するもので
ある。
[従来の技術]
上述のように耐熱性や耐食性が要求される電線として、
従来から導体に有機物被覆を施した被覆電線が用いられ
ている。しかし、有機物被覆電線では500℃程度の温
度J、でしか耐えることができない。そこで、耐熱性、
耐食性を付与するために、導体の表面に導体以外の金属
または半金属の化合物からなる膜を被覆したものが用い
られている。たとえば、昭和60年10月17日に国内
公表されたレイケム社出願の公表特許公報昭60−50
1783号公報には、高温下で使用される電気ワ、イA
7に対して耐熱性を付与するために導体の表面に酸化物
または窒化物などを真空蒸着法によって被覆したものが
開示されている。その被覆を形成する化合物の例として
はアルミニウム、ケイ素などの酸化物または窒化物が挙
げられている。
従来から導体に有機物被覆を施した被覆電線が用いられ
ている。しかし、有機物被覆電線では500℃程度の温
度J、でしか耐えることができない。そこで、耐熱性、
耐食性を付与するために、導体の表面に導体以外の金属
または半金属の化合物からなる膜を被覆したものが用い
られている。たとえば、昭和60年10月17日に国内
公表されたレイケム社出願の公表特許公報昭60−50
1783号公報には、高温下で使用される電気ワ、イA
7に対して耐熱性を付与するために導体の表面に酸化物
または窒化物などを真空蒸着法によって被覆したものが
開示されている。その被覆を形成する化合物の例として
はアルミニウム、ケイ素などの酸化物または窒化物が挙
げられている。
これらの酸化物は耐熱性、耐食性に対して優れた特性を
示すので、酸化物を被覆した電気ワイヤは耐熱性、耐食
性に優れたものとなる。
示すので、酸化物を被覆した電気ワイヤは耐熱性、耐食
性に優れたものとなる。
[発明が解決しようとする問題点]
上述のように示されている通り、Au20..3i02
などの酸化物は、耐熱性、耐食性については良好な性質
を示すことが知られている。しかし、真空蒸着法によっ
て形成されるこれらの酸化物は導体として用いられる銅
などに対する密着性があまり良くない。そのため、たと
えば酸化物を被覆した電気ワイヤを腐食環境下で長期間
使用した場合、酸化物が銅の表面からは< mt L、
その部分から腐食が進行することがある。
などの酸化物は、耐熱性、耐食性については良好な性質
を示すことが知られている。しかし、真空蒸着法によっ
て形成されるこれらの酸化物は導体として用いられる銅
などに対する密着性があまり良くない。そのため、たと
えば酸化物を被覆した電気ワイヤを腐食環境下で長期間
使用した場合、酸化物が銅の表面からは< mt L、
その部分から腐食が進行することがある。
また、これらの酸化物被膜を導体の表面に形成する方法
として真空蒸着法などの気相薄膜成長法が用いられてい
る。ところが真空蒸着法などによって1りられる被膜は
可撓性に劣る場合がある。そのため、たとえば真空蒸着
法による酸化物被覆電線を撓んだ状態で使用した場合、
導体表面に応力が加わり導体表面に形成された酸化物被
膜が破壊され、その部分から腐食が進行することがある
。
として真空蒸着法などの気相薄膜成長法が用いられてい
る。ところが真空蒸着法などによって1りられる被膜は
可撓性に劣る場合がある。そのため、たとえば真空蒸着
法による酸化物被覆電線を撓んだ状態で使用した場合、
導体表面に応力が加わり導体表面に形成された酸化物被
膜が破壊され、その部分から腐食が進行することがある
。
そこで、この発明は、これらの酸化物被膜の導体との密
着性および可撓性を高めることによって、長期間にわた
って優れた耐熱性、耐食性を発揮する電線を提供するこ
とを目的とする。
着性および可撓性を高めることによって、長期間にわた
って優れた耐熱性、耐食性を発揮する電線を提供するこ
とを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
この発明に従った電線は、導体の表面に、アルコキシド
を反応させて形成された酸化物膜被覆層を有するもので
ある。
を反応させて形成された酸化物膜被覆層を有するもので
ある。
[発明の作用効果]
上述のように、導体の表面に真空蒸着法などによって形
成された酸化物被膜は、銅などの導体との密着性、可撓
性に劣る。酸化物被膜を形成する方法として真空蒸着法
などの気相薄膜成長法のほかに液相から固体膜を形成す
る方法がある。その中でもアルコキシドを加水分解して
、その酸化物膜を形成する方法、すなわちゾル−グル法
を用いると、銅などの導体に対して密着性を有する酸化
物被膜を形成することができる。またゾル−グル法によ
って形成された酸化物被膜は可撓性を有することが認め
られる。この発明はこのような本願発明者等の知見に基
づくものである。
成された酸化物被膜は、銅などの導体との密着性、可撓
性に劣る。酸化物被膜を形成する方法として真空蒸着法
などの気相薄膜成長法のほかに液相から固体膜を形成す
る方法がある。その中でもアルコキシドを加水分解して
、その酸化物膜を形成する方法、すなわちゾル−グル法
を用いると、銅などの導体に対して密着性を有する酸化
物被膜を形成することができる。またゾル−グル法によ
って形成された酸化物被膜は可撓性を有することが認め
られる。この発明はこのような本願発明者等の知見に基
づくものである。
したがって、本発明による電線は導体の表面にアルコキ
シドを反応させて形成された酸化物膜被覆層を右するも
のである。この酸化物膜被覆層は、耐熱性を有し、かつ
密着性を有する。そのため、酸化物膜被覆層の外方に有
機物絶縁被覆層を有する場合、電線が高温雰囲気下で異
常に加熱されたときに被覆導体を包囲する外層の有機物
被膜が溶けて消滅したとしても、酸化物膜被覆層が絶縁
性を長期間にわたって維持する。さらに、通常、設けら
れる外層の有機物被膜は常温下での絶縁性を高めるため
に有効である。また、この有機物被膜は巻線状で使用す
る場合に要求される巻付性を電線に付与する一ヒで有効
である。外層を構成する有′機物は、耐熱性を有するポ
リイミドやポリアミドイミド、またはそれらの混合物で
あれば、さらに好ましい。
シドを反応させて形成された酸化物膜被覆層を右するも
のである。この酸化物膜被覆層は、耐熱性を有し、かつ
密着性を有する。そのため、酸化物膜被覆層の外方に有
機物絶縁被覆層を有する場合、電線が高温雰囲気下で異
常に加熱されたときに被覆導体を包囲する外層の有機物
被膜が溶けて消滅したとしても、酸化物膜被覆層が絶縁
性を長期間にわたって維持する。さらに、通常、設けら
れる外層の有機物被膜は常温下での絶縁性を高めるため
に有効である。また、この有機物被膜は巻線状で使用す
る場合に要求される巻付性を電線に付与する一ヒで有効
である。外層を構成する有′機物は、耐熱性を有するポ
リイミドやポリアミドイミド、またはそれらの混合物で
あれば、さらに好ましい。
この発明において導体は導電性の高いものであればよく
、基材が銅、またはアルミニウムが好ましい。この銅ま
たはアルミニウムの表面にニッケル、チタン、クロムな
どの金属からなるめっき層を形成した導体でもよい。こ
のとぎ、めっぎ層が下地金属の耐酸化性を高める働きを
する。また導体の表面に形成される酸化物はA fL2
0s 、 SiO2が好ましく、耐食性、耐熱性、導体
との密着性に優れている。
、基材が銅、またはアルミニウムが好ましい。この銅ま
たはアルミニウムの表面にニッケル、チタン、クロムな
どの金属からなるめっき層を形成した導体でもよい。こ
のとぎ、めっぎ層が下地金属の耐酸化性を高める働きを
する。また導体の表面に形成される酸化物はA fL2
0s 、 SiO2が好ましく、耐食性、耐熱性、導体
との密着性に優れている。
また、アルコキシドより合成されでなる酸化物被膜は銅
などの導体に対して密着性を有するとともに、可撓性も
備えている。そのため、電線を撓んだ状態で使用しても
、酸化物被膜は導体の表面から、はく離することなく、
長期にわたって優れた耐熱性、耐食性を維持する。アル
コキシドから合成して膜を形成する方法は、真空蒸着法
などの気相薄膜成長法に比べて、プラズマ発生装置や膜
材料の加熱装置などの特殊41設備を必要どせず、低温
度での成膜法で工業的に容易に利用され得る。
などの導体に対して密着性を有するとともに、可撓性も
備えている。そのため、電線を撓んだ状態で使用しても
、酸化物被膜は導体の表面から、はく離することなく、
長期にわたって優れた耐熱性、耐食性を維持する。アル
コキシドから合成して膜を形成する方法は、真空蒸着法
などの気相薄膜成長法に比べて、プラズマ発生装置や膜
材料の加熱装置などの特殊41設備を必要どせず、低温
度での成膜法で工業的に容易に利用され得る。
この発明による電線は、典型的には導体が単線で、酸化
物膜被覆層が単線表面に形成された被覆導体を有するも
のである。しかし、導体が複数本の導体素線を集合して
撚線にしたものであり、酸化物の被膜が各導体素線表面
に形成されたもの、または撚線の表面に酸化物の被膜が
形成されたものを有する電線でもよい。
物膜被覆層が単線表面に形成された被覆導体を有するも
のである。しかし、導体が複数本の導体素線を集合して
撚線にしたものであり、酸化物の被膜が各導体素線表面
に形成されたもの、または撚線の表面に酸化物の被膜が
形成されたものを有する電線でもよい。
各導体素線表面に酸化物の被膜が形成されたものは、酸
化物膜形成後に撚線を行なうので撚線工程中に酸化物膜
の損傷が起こりやすい。一方、撚線の表面に酸化物の被
膜を形成するものの場合、このような損傷の発生を防1
トすることができる。
化物膜形成後に撚線を行なうので撚線工程中に酸化物膜
の損傷が起こりやすい。一方、撚線の表面に酸化物の被
膜を形成するものの場合、このような損傷の発生を防1
トすることができる。
また、この場合、撚線後に酸化物膜を形成するので、導
体素線表面に酸化物膜を形成するのに比べて膜形成に要
する工程を短縮することができる。
体素線表面に酸化物膜を形成するのに比べて膜形成に要
する工程を短縮することができる。
さらに、このような電線を使用した場合、曲げに対して
酸化物膜に発生する歪が小さく、使用中においても酸化
物膜に対する損傷を受は難い。
酸化物膜に発生する歪が小さく、使用中においても酸化
物膜に対する損傷を受は難い。
なお、本発明による電線において酸化物膜を形成する方
法は、ゾル−ゲル法と呼ばれる方法で、具体的には、ま
ず、目的とする酸化物に含まれる元素のアルコキシドを
溶かしたアルコール溶液に水、および触媒として酸を加
え、加水分解、および脱水綜合反応を起こさVた溶液を
塗布プる。その後、数百度に加熱焼成することによって
酸化物膜を得る。このとぎ、加熱焼成工程は減圧下にお
いて行なってもよく、そのとき加熱温度の低温化が図れ
る。また、溶液を塗布する代わりに、溶液に導体を浸漬
することによって酸化物膜を形成してもよい。
法は、ゾル−ゲル法と呼ばれる方法で、具体的には、ま
ず、目的とする酸化物に含まれる元素のアルコキシドを
溶かしたアルコール溶液に水、および触媒として酸を加
え、加水分解、および脱水綜合反応を起こさVた溶液を
塗布プる。その後、数百度に加熱焼成することによって
酸化物膜を得る。このとぎ、加熱焼成工程は減圧下にお
いて行なってもよく、そのとき加熱温度の低温化が図れ
る。また、溶液を塗布する代わりに、溶液に導体を浸漬
することによって酸化物膜を形成してもよい。
[実施例1]
直径1mmφの銅線の表面にゾル−ゲル法によって5i
02膜を形成した。具体的には、s+ 02膜は銅線表
面に、S iのアルコキシドであるテトラエトキシシラ
ン((C2H,t O)、St )とエチルアルコール
(C2ト(50H)と水(H2O)と塩酸(HC追)と
を混合した溶液を塗布した後、加熱処理によって銅線表
面に形成された。この5102膜被覆銅線の外表面に通
常の方法でポリイミドとポリアミドイミドとを塗布し、
その後それらを焼付けた。
02膜を形成した。具体的には、s+ 02膜は銅線表
面に、S iのアルコキシドであるテトラエトキシシラ
ン((C2H,t O)、St )とエチルアルコール
(C2ト(50H)と水(H2O)と塩酸(HC追)と
を混合した溶液を塗布した後、加熱処理によって銅線表
面に形成された。この5102膜被覆銅線の外表面に通
常の方法でポリイミドとポリアミドイミドとを塗布し、
その後それらを焼付けた。
第1図は、このようにして得られた電線を示寸断面図で
ある。図示する電線は銅線である導体1と、その表面に
形成されたSiO2膜である酸化物膜被覆層2と、その
外方にポリイミドとポリアミドイミドとからなる有機物
被覆層3とからなる。
ある。図示する電線は銅線である導体1と、その表面に
形成されたSiO2膜である酸化物膜被覆層2と、その
外方にポリイミドとポリアミドイミドとからなる有機物
被覆層3とからなる。
この電線を始動電動機(スタータ・モータ)用として巻
付けた後、これを湿度500℃の雰囲気下で1時間保持
した。その後始動電動機を使用したが、正常に機能した
。
付けた後、これを湿度500℃の雰囲気下で1時間保持
した。その後始動電動機を使用したが、正常に機能した
。
[実施例2]
直径0.16mmφの銅線の表面にAQアルコキシドを
原材料として、実施例1と同様にゾル−ゲル法を用いた
方法でAu203膜を形成した。得られたΔQ20.膜
被覆銅線を7本集合させ、撚線にした。この撚線に押出
加工によりポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の
被覆を施した。
原材料として、実施例1と同様にゾル−ゲル法を用いた
方法でAu203膜を形成した。得られたΔQ20.膜
被覆銅線を7本集合させ、撚線にした。この撚線に押出
加工によりポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の
被覆を施した。
第2図は、このようにして得られた電線を示す断面図で
ある。図示する電線は銅線からなる導体素線としての導
体1の各表面にAu20.膜である酸化物膜被覆層2が
形成されている。これらの被覆導体素線を7本集合させ
た撚線が、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)か
らなる有機物被覆層3によって包囲されている。
ある。図示する電線は銅線からなる導体素線としての導
体1の各表面にAu20.膜である酸化物膜被覆層2が
形成されている。これらの被覆導体素線を7本集合させ
た撚線が、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)か
らなる有機物被覆層3によって包囲されている。
この電線を原子炉周辺の常時温度200℃の雰囲気下で
使用したところ、5年間異常は見られなかった。また、
この電線を温度800℃で1時間加熱したところ、外層
のポリテトラフルオロエチレンが燃焼、溶融したがA隻
zOO膜に保護され、−10= 付近の配線との絶縁性は保たれた。
使用したところ、5年間異常は見られなかった。また、
この電線を温度800℃で1時間加熱したところ、外層
のポリテトラフルオロエチレンが燃焼、溶融したがA隻
zOO膜に保護され、−10= 付近の配線との絶縁性は保たれた。
[実施例3コ
直径0.2mmφの銅線を7本撚り合わせ、この撚線表
面にゾル−ゲル法によりディップ・コーティングを行な
い、Si 02膜を形成した。具体的には、撚線を、S
iのアルコキシドであるテトライソブトキシシラン(<
1−04 H90)4 Si )20g、水(H20)
1.5o 、および硝酸(トINOa)10mgを混合
したブタノール(C=H90H)溶液中に浸漬した。そ
の後、この撚線を取出し、温度500℃に保たれた加熱
炉中に連続的に通過させることによってs+ 02膜を
撚線表面に形成した。
面にゾル−ゲル法によりディップ・コーティングを行な
い、Si 02膜を形成した。具体的には、撚線を、S
iのアルコキシドであるテトライソブトキシシラン(<
1−04 H90)4 Si )20g、水(H20)
1.5o 、および硝酸(トINOa)10mgを混合
したブタノール(C=H90H)溶液中に浸漬した。そ
の後、この撚線を取出し、温度500℃に保たれた加熱
炉中に連続的に通過させることによってs+ 02膜を
撚線表面に形成した。
第3図は、このようにして得られた電線を示す断面図で
ある。図示する電線は撚線である導体1と、その表面に
形成されたS i Oz膜である酸化物膜被覆層2とか
らなる。
ある。図示する電線は撚線である導体1と、その表面に
形成されたS i Oz膜である酸化物膜被覆層2とか
らなる。
この電線を湿度900℃の加熱雰囲気下において使用し
たところ、絶縁特性を維持した。
たところ、絶縁特性を維持した。
[実施例4]
直径Q、5mmφの電気用アルミニウム線にニッケルめ
っきを施した素線を7本撚り合わせ、この撚線表面に実
施例3と同様にゾル−ゲル法によりディップ・コーティ
ングを行ない、Afl。03膜を形成した。具体的には
、撚線を、Auのアルコキシドであるアルミニウムイソ
プロポキシド((i −C3H? O) 3 A見)1
0g、水(H20)0.7(+、硝酸(HNO,>5m
g、およびアセチルアセトン(CH,−CO−CI−1
2−Co−CH8)1gを混合したイソプロパツール(
i −Caト170H)溶液中に浸漬した。その後、こ
の撚線を取出し、湿度200℃に保たれた加熱炉中に連
続的に通過させることによってAl□03膜を撚線表面
に形成した。
っきを施した素線を7本撚り合わせ、この撚線表面に実
施例3と同様にゾル−ゲル法によりディップ・コーティ
ングを行ない、Afl。03膜を形成した。具体的には
、撚線を、Auのアルコキシドであるアルミニウムイソ
プロポキシド((i −C3H? O) 3 A見)1
0g、水(H20)0.7(+、硝酸(HNO,>5m
g、およびアセチルアセトン(CH,−CO−CI−1
2−Co−CH8)1gを混合したイソプロパツール(
i −Caト170H)溶液中に浸漬した。その後、こ
の撚線を取出し、湿度200℃に保たれた加熱炉中に連
続的に通過させることによってAl□03膜を撚線表面
に形成した。
得られたAu203膜被覆撚線に押出加工によりポリテ
トラフルオロエチレン(PTFE)の被覆を施した。
トラフルオロエチレン(PTFE)の被覆を施した。
第4図は、このようにして得られた電線を示す断面図で
ある。図示する電線は撚線である導体1と、その表面に
形成されたAuto3膜である酸化物膜被覆層2と、こ
れを包囲するポリテトラフルオロエチレン(+〕T F
E )からなる有機物被覆間3とからなる。撚線を構
成する各導体素線10は、芯部であるアルミニウム線1
1と、表層部であるニッケルめっき層12とからなって
いる。
ある。図示する電線は撚線である導体1と、その表面に
形成されたAuto3膜である酸化物膜被覆層2と、こ
れを包囲するポリテトラフルオロエチレン(+〕T F
E )からなる有機物被覆間3とからなる。撚線を構
成する各導体素線10は、芯部であるアルミニウム線1
1と、表層部であるニッケルめっき層12とからなって
いる。
この電線を常時温度200℃の雰囲気中で使用したとこ
ろ、劣化しなかった。まlclこの電線を温度500℃
に加熱したが、へ見、03膜に保護され、絶縁性は保た
れた。
ろ、劣化しなかった。まlclこの電線を温度500℃
に加熱したが、へ見、03膜に保護され、絶縁性は保た
れた。
第1図は、この発明に従った電線で、実施例1において
単線導体からなるものを示す断面図である。 第2図は、この発明に従った電線で、実施例2において
撚線導体からなるものを示す断面図である。 第3図は、この発明に従った電線で、実施例3において
撚線導体からなるものを示す断面図である。 第4図は、この発明に従った電線で、実施例4において
撚線導体からなるものを示す断面図である。 図において、1は導体、2は酸化物膜被覆層である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 第1図 第2図 第3図
単線導体からなるものを示す断面図である。 第2図は、この発明に従った電線で、実施例2において
撚線導体からなるものを示す断面図である。 第3図は、この発明に従った電線で、実施例3において
撚線導体からなるものを示す断面図である。 第4図は、この発明に従った電線で、実施例4において
撚線導体からなるものを示す断面図である。 図において、1は導体、2は酸化物膜被覆層である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 第1図 第2図 第3図
Claims (8)
- (1)導体の表面に、アルコキシドを反応させて形成さ
れた酸化物膜被覆層を有する、電線。 - (2)前記導体が、銅およびアルミニウムのうちのいず
れかである、特許請求の範囲第1項記載の電線。 - (3)前記導体が、銅およびアルミニウムのうちのいず
れかである金属の表面に、ニッケル、チタン、クロムか
らなる群から選ばれた少なくとも1種類の金属を含むめ
っき層を有するものである、特許請求の範囲第1項記載
の電線。 - (4)前記酸化物が、SiO_2およびAl_2O_3
のうちのいずれかである、特許請求の範囲第1項ないし
第3項のいずれかに記載の電線。 - (5)前記導体は、複数本の導体素線を集合して撚線に
したものであり、前記酸化物膜被覆層が前記各導体素線
表面に形成されている、特許請求の範囲第1項ないし第
4項のいずれかに記載の電線。 - (6)前記導体は、複数本の導体素線を集合して撚線に
したものであり、前記酸化物膜被覆層が前記撚線表面に
形成されている、特許請求の範囲第1項ないし第4項の
いずれかに記載の電線。 - (7)当該電線は、前記酸化物膜被覆層の外方に有機物
絶縁被覆層を有する、特許請求の範囲第1項ないし第6
項のいずれかに記載の電線。 - (8)前記有機物が、ポリイミドおよび/またはポリア
ミドイミドである、特許請求の範囲第7項記載の電線。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62067646A JP2565892B2 (ja) | 1987-01-31 | 1987-03-20 | 電 線 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-20974 | 1987-01-31 | ||
| JP2097487 | 1987-01-31 | ||
| JP62067646A JP2565892B2 (ja) | 1987-01-31 | 1987-03-20 | 電 線 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63304507A true JPS63304507A (ja) | 1988-12-12 |
| JP2565892B2 JP2565892B2 (ja) | 1996-12-18 |
Family
ID=26357979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62067646A Expired - Fee Related JP2565892B2 (ja) | 1987-01-31 | 1987-03-20 | 電 線 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2565892B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006100168A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Totoku Electric Co Ltd | 耐熱マグネットワイヤおよびその製造方法 |
| CN104318996A (zh) * | 2014-10-23 | 2015-01-28 | 苏州华冲精密机械有限公司 | 一种耐腐蚀电子元器件引线 |
| CN104319092A (zh) * | 2014-10-23 | 2015-01-28 | 苏州华冲精密机械有限公司 | 一种耐高温电子元器件引线 |
| KR102385124B1 (ko) * | 2021-04-07 | 2022-04-12 | 신웅철 | 반도체 패키지용 본딩 와이어 |
Citations (5)
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1987
- 1987-03-20 JP JP62067646A patent/JP2565892B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2565892B2 (ja) | 1996-12-18 |
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