JPS63304648A - バンプ形成方法 - Google Patents

バンプ形成方法

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Publication number
JPS63304648A
JPS63304648A JP62140251A JP14025187A JPS63304648A JP S63304648 A JPS63304648 A JP S63304648A JP 62140251 A JP62140251 A JP 62140251A JP 14025187 A JP14025187 A JP 14025187A JP S63304648 A JPS63304648 A JP S63304648A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal segment
chip
pad
holder
bump
Prior art date
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Pending
Application number
JP62140251A
Other languages
English (en)
Inventor
Masato Hirano
正人 平野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP62140251A priority Critical patent/JPS63304648A/ja
Publication of JPS63304648A publication Critical patent/JPS63304648A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/01Manufacture or treatment
    • H10W72/012Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はICチップを実装する際のバンプ形成に関する
ものである。
従来の技術 従来、ICチップ実装におけるバンプ形成は電気メツキ
法により行われていた。以下、第2図を用いて従来のバ
ンプ形成方法の一例について説明する。1はICウェハ
、2はA7パツド、3はパッシベーション膜で、まず、
ICウェハ1上に、2 ”−7′ チタンの薄膜4、パラジウムの薄膜5、金の薄膜6をス
パッタにより形成する。次にフォトレジストを塗布し、
露光した後AI パッド2上に所定の開口部を設はバン
プ7を電気メッキにより形成した後、フォトレジストお
よび不用なチタンの薄膜4、パラジウムの薄膜5、金の
薄@6を除去してバンプつきのICを得ていた。
発明が解決しようとする問題点 このようが構成では、ICチップのパッドのパターンが
変わったものにバンプを形成する場合、マスクを交換す
る必要があった。また、金バンブをメッキで形成させる
ときのメッキ液の管理が難しいなどの問題があった。壕
だ、バンプ形成の工程が非常に複雑であり、コストが高
くついていた。
本発明は、メッキ液を使用せずに多様化、複雑化する回
路形成において汎用性のあるICチップを実装するため
に、新たなバンプ形成方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために、本発明では金属3ヘ−ジ 片を一定の形状に成形したのち、加熱したホルダーで前
記金属片を吸着し、それをICチップのパッド上に熱的
作用および超音波作用の下で加圧して接合するものであ
る。
作   用 金属片を一定の形状に成形し、超音波、熱、圧力の作用
により、ICチップ上のパッドに直接、順次、前記形状
の金属片を接合してバンプを形成することができるため
、バンプ形成の工程を削減でき、また品種が変わるごと
にマスクを作成する必要がなくなる。その結果、低コス
ト、高品質のバンプを形成するととができる。
実施例 以下本発明の一実施例のバンプ形成について、図面を参
照しながら説明する。
第1図(a) 9 (b)において、加熱されたステー
ジ15上にICチップ14が固定され、このICチップ
14にはAlハツト13が形成されている。又12はワ
イヤカット等により円柱状に成形された金などの金属片
で、11はそれを保持するためのホルダーである。
次に、バンプ形成動作について説明すると、まず円柱状
に成形された金属片12をホルダー11により吸着させ
、ICチップ14上のAlパッド13上に位置決めを行
う。その後若しくは予じめ金属片12を吸着したホルダ
ー11に熱を与え、金属片12を加熱する。このとき、
同時にステージ15にも熱を与え、ICチップ14のA
lハツト13を加熱する。
このように、金属片12とAlハツト13を加熱するこ
とによって、金属片12とAl パッド13との接合性
を良くするものとする。また、実際の接続では金属片1
2を保持したホルダー11を超音波で撮動させることに
より、金原子およびAI!Itを共晶反応させる。この
結果、一定の形状に成形された金属片12をICチップ
14のMパッド13に接合することができる。
なお、本実施例では金属片12の形状を円柱状にしたも
のを用いたが、角柱状のものなども使用できる。また金
属片は本実施例では金としたが、5ベーン゛ ”It tAq等でもよいことは言うまでも危い。
発明の効果 以上のように、本発明は一定の形状に形成された金属片
をICチップのパッドに接合させることによりバンプを
形成でき、このため管理の困難なメッキ液を使用せずに
済む。また、バンプ形成の工程を大幅に削減でき、低コ
ストで高品質のバンプを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(C)は、本発明の一実施例におけるバ
ンプ形成工程を示す断面図、第2図は従来のバンプ形成
の断面図である。 11・・・・・ホルダー、12・・・・・・金1%1l
−113・・・・・・Alハンド、14・・・・・IC
チップ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ICチップにバンプを形成する方法において、まず、金
    属片を一定の形状に成形したのち、加熱したホルダーで
    前記金属片を吸着し、加熱したICチップのパッドと前
    記金属片とを前記ホルダーに超音波および圧力を付加し
    て接合するバンプ形成方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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