JPS63306508A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPS63306508A JPS63306508A JP14287687A JP14287687A JPS63306508A JP S63306508 A JPS63306508 A JP S63306508A JP 14287687 A JP14287687 A JP 14287687A JP 14287687 A JP14287687 A JP 14287687A JP S63306508 A JPS63306508 A JP S63306508A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- head
- metal
- amorphous
- thin film
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims abstract description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 abstract description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 abstract description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 3
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229910000979 O alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- -1 high hardness Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/40—Protective measures on heads, e.g. against excessive temperature
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は薄膜磁気ヘッドに係り、特に耐食性、対摩耗性
が改善された薄膜磁気ヘッドに関する。
が改善された薄膜磁気ヘッドに関する。
［従来の技術］
磁気ディスク装置用の磁気ヘッドとしては、大記憶容量
、高速データ転送速度を実現するため、現在では、すべ
て浮動型磁気ヘッドが用いられている。これは磁気ヘッ
ドと記憶媒体が高速で相対的に移動する時に、空気の粘
性によって発生する動圧を利用して、トランスデユーサ
である磁気ヘッドと記録媒体の間に微小な隙間（浮上量
、浮上高さ、浮上隙間などと呼ばれる）を保たせる気体
潤滑軸受である。動圧を発生させる部分（浮上面と呼ぶ
）がトランスデユーサの一部に形成されているヘッドを
モノリシックヘッドと呼び、ウィンチェスタ型ヘッドは
その代表である。これ以外のタイプとして、浮上面を有
するセラミック等の構造体にトランスデユーサをガラス
で固着したコンポジットヘッドや、第１図に示す如く、
半導体製造テクノロジと同様のプロセスによってつくら
れた薄膜素子を、セラミック構造体に付着させた薄膜磁
気ヘッドがある（なお、第１図中、１１は素子、１２は
浮上面である。）、これらのヘッドは、いずれもディス
クが静止中は、ヘッドはばね力ないよってディスク表面
に押しつけられていて、ディスクが回転をはじめると動
圧が発生し、ばね力とつりあって浮上する、いわゆるＣ
ＳＳ方式である。
、高速データ転送速度を実現するため、現在では、すべ
て浮動型磁気ヘッドが用いられている。これは磁気ヘッ
ドと記憶媒体が高速で相対的に移動する時に、空気の粘
性によって発生する動圧を利用して、トランスデユーサ
である磁気ヘッドと記録媒体の間に微小な隙間（浮上量
、浮上高さ、浮上隙間などと呼ばれる）を保たせる気体
潤滑軸受である。動圧を発生させる部分（浮上面と呼ぶ
）がトランスデユーサの一部に形成されているヘッドを
モノリシックヘッドと呼び、ウィンチェスタ型ヘッドは
その代表である。これ以外のタイプとして、浮上面を有
するセラミック等の構造体にトランスデユーサをガラス
で固着したコンポジットヘッドや、第１図に示す如く、
半導体製造テクノロジと同様のプロセスによってつくら
れた薄膜素子を、セラミック構造体に付着させた薄膜磁
気ヘッドがある（なお、第１図中、１１は素子、１２は
浮上面である。）、これらのヘッドは、いずれもディス
クが静止中は、ヘッドはばね力ないよってディスク表面
に押しつけられていて、ディスクが回転をはじめると動
圧が発生し、ばね力とつりあって浮上する、いわゆるＣ
ＳＳ方式である。
大型ディスク装置の磁気ヘッドには、高記録密度、高速
データ転送を目的として、最近は第１図に示すような薄
膜磁気ヘッドが使用されはじめた、薄膜磁気ヘッドの電
磁変換系では記録再生する信号の波長が、ヘッドのポー
ル長さと同等程度となったため、波形にヘッド形効果が
発生するので、これと従来のギャップの効果を合計した
ヘッドの評価関数を考慮することになる。即ち、使用記
録密度における目的の出力分解能を得る最適なポール長
さを設計することができる。一方、薄膜磁気ヘッドでは
、従来タイプのヘッドにも存在していた波形非対称以外
に、書込み時の垂直磁界成分による非対称性が加わる。
データ転送を目的として、最近は第１図に示すような薄
膜磁気ヘッドが使用されはじめた、薄膜磁気ヘッドの電
磁変換系では記録再生する信号の波長が、ヘッドのポー
ル長さと同等程度となったため、波形にヘッド形効果が
発生するので、これと従来のギャップの効果を合計した
ヘッドの評価関数を考慮することになる。即ち、使用記
録密度における目的の出力分解能を得る最適なポール長
さを設計することができる。一方、薄膜磁気ヘッドでは
、従来タイプのヘッドにも存在していた波形非対称以外
に、書込み時の垂直磁界成分による非対称性が加わる。
更に、ウィグル（Ｗｉｇｇｌｅ）と呼ばれる磁気的ノイ
ズが発生することもある。これはヘッドの磁性膜の磁区
の生成が均一ではなく、本来回転磁化によって行°われ
るべき磁性膜の磁化メカニズムの中に、地壁の移動によ
る磁化が重畳されて、ノイズを生じるものである。
ズが発生することもある。これはヘッドの磁性膜の磁区
の生成が均一ではなく、本来回転磁化によって行°われ
るべき磁性膜の磁化メカニズムの中に、地壁の移動によ
る磁化が重畳されて、ノイズを生じるものである。
薄膜磁気ヘッドの製造プロセスでは、従来のフェライト
機械加工技術と同様な精密加工技術以外に、エレメント
づくりのためのミクロなめっき、リソグラフィ、スパッ
タエツチング／デポジションが要求される。これらは大
型の設備を要するが、一度にたくさんのエレメントがで
きること、従来のような人手による巻線が不要となるこ
と、高周波記録特性に優れるなどの長所を有する。
機械加工技術と同様な精密加工技術以外に、エレメント
づくりのためのミクロなめっき、リソグラフィ、スパッ
タエツチング／デポジションが要求される。これらは大
型の設備を要するが、一度にたくさんのエレメントがで
きること、従来のような人手による巻線が不要となるこ
と、高周波記録特性に優れるなどの長所を有する。
薄膜磁気ヘッドは第２図に示すように構成される。即ち
、１はＡｌ１２ｙｓ −ＴｉＣ基板でスライダ材（Ｈｖ
−２０００）になる、２はエレメントとスライダの絶縁
のためのＡｊ２２０ａ層、３はＮＬ−Ｆｅ下ポールで、
２層の磁性膜で先端を薄くしである。４は磁気回路の開
放部を形成するＡｌ１２０ｓギヤツプ、５はコイルを電
気的に絶縁し、また上ポールを磁気的に絶縁するフォト
レジスト絶縁層、６はＣｕコイル、７は絶縁と共にコイ
ル段差を平坦化するフォトレジスト絶縁層、上ポールと
コイル引き出し部を同時形成するＮｉ−Ｆｅ上ポール、
９はＣｕ端子（端子パッド）、１０はエレメント全体を
埋めるＡＪｌｗ Ｏ３保護膜である。
、１はＡｌ１２ｙｓ −ＴｉＣ基板でスライダ材（Ｈｖ
−２０００）になる、２はエレメントとスライダの絶縁
のためのＡｊ２２０ａ層、３はＮＬ−Ｆｅ下ポールで、
２層の磁性膜で先端を薄くしである。４は磁気回路の開
放部を形成するＡｌ１２０ｓギヤツプ、５はコイルを電
気的に絶縁し、また上ポールを磁気的に絶縁するフォト
レジスト絶縁層、６はＣｕコイル、７は絶縁と共にコイ
ル段差を平坦化するフォトレジスト絶縁層、上ポールと
コイル引き出し部を同時形成するＮｉ−Ｆｅ上ポール、
９はＣｕ端子（端子パッド）、１０はエレメント全体を
埋めるＡＪｌｗ Ｏ３保護膜である。
［発明が解決しようとする問題点］
ところで、薄膜磁気ヘッドには、その耐久性を改善する
ために相当に高い耐食性及び耐摩耗性が要求される。
ために相当に高い耐食性及び耐摩耗性が要求される。
従来においては、耐食性や耐摩耗性の改善のために、更
に薄膜磁気ヘッドにＣｒの薄膜コーティング（通常、膜
厚２００〜３００Ａ）を施すことが試みられているが、
十分に満足し得る効果は得られておらず、より耐食性、
耐摩耗性に優れた薄膜磁気ヘッドの出現が要望されてい
る。
に薄膜磁気ヘッドにＣｒの薄膜コーティング（通常、膜
厚２００〜３００Ａ）を施すことが試みられているが、
十分に満足し得る効果は得られておらず、より耐食性、
耐摩耗性に優れた薄膜磁気ヘッドの出現が要望されてい
る。
［問題点を解決するための手段］
本発明の薄膜磁気ヘッドは、表面に耐食性金属又は合金
のアモルファスコーティング保護膜を有することを特徴
とする。
のアモルファスコーティング保護膜を有することを特徴
とする。
［作用］
アモルファス金属は、周知のように、原子配列に規則性
のない非晶質構造の金属であり、結晶質金属にはみられ
ない物理的特性、化学的特性を有し、高硬度、高耐摩耗
性、高耐食性、高透磁率性等の極めて優れた特性を備え
るものである。
のない非晶質構造の金属であり、結晶質金属にはみられ
ない物理的特性、化学的特性を有し、高硬度、高耐摩耗
性、高耐食性、高透磁率性等の極めて優れた特性を備え
るものである。
このため、このようなアモルファス金属のコーテイング
膜を薄膜磁気ヘッドの表面に形成することにより、磁気
特性が損なわれることなく、その耐食性、耐摩耗性が著
しく高められ、耐久性は大幅に向上する。
膜を薄膜磁気ヘッドの表面に形成することにより、磁気
特性が損なわれることなく、その耐食性、耐摩耗性が著
しく高められ、耐久性は大幅に向上する。
［実施例］
以下、本発明の実施例について説明する。
本発明の薄膜磁気ヘッドは、常法、即ち、第２図に示す
ような方法により製造されたヘッドの表面に更に耐食性
金属又は合金のアモルファス金属のコーティング保護膜
を形成したものである。
ような方法により製造されたヘッドの表面に更に耐食性
金属又は合金のアモルファス金属のコーティング保護膜
を形成したものである。
アモルファスコーテイング膜の形成方法としては特に制
限はなく、従来より公知のスパッタリ°ング法、真空蒸
着法等の気相蒸着法が採用される。
限はなく、従来より公知のスパッタリ°ング法、真空蒸
着法等の気相蒸着法が採用される。
アモルファスコーテイング膜のアモルファス金属として
はＣｒが好適である０合金としては各種のものを用い得
る。このアモルファス合金の組成をＭ−Ｘ又はＭ−Ｘ−
Ｙ （Ｍ ；ヘ−スとなる金属又は合金、Ｘ：耐食性や
硬度を与える金属、Ｙ；半金属）とすると、Ｍとしては
例えばＦｅ、Ｎｉ、Ｃｕ又はこれらの合金、Ｘとしては
Ｃｒ。
はＣｒが好適である０合金としては各種のものを用い得
る。このアモルファス合金の組成をＭ−Ｘ又はＭ−Ｘ−
Ｙ （Ｍ ；ヘ−スとなる金属又は合金、Ｘ：耐食性や
硬度を与える金属、Ｙ；半金属）とすると、Ｍとしては
例えばＦｅ、Ｎｉ、Ｃｕ又はこれらの合金、Ｘとしては
Ｃｒ。
Ｔａ％Ｔｉ％Ｗ、Ｚｒ％Ｎｂの１種又は２種以上、Ｙと
してはＰ％Ｂ％Ｃなどが用いられ、これらを適当な割合
で含有するものが用いられる。
してはＰ％Ｂ％Ｃなどが用いられ、これらを適当な割合
で含有するものが用いられる。
アモルファスコーテイング膜の厚さは、薄過ぎると十分
な耐食性、耐摩耗性の改善効果が得られず、逆に厚過ぎ
ると磁気特性に影響を与え、また膜剥離の問題が生じる
。一般に、アモルファスコーテイング膜の厚さは５０〜
５００Ａとりわけ２００〜３００Ａ程度の範囲が好適で
、薄膜磁気ヘッドの使用目的や要求特性等に応じて決定
される。
な耐食性、耐摩耗性の改善効果が得られず、逆に厚過ぎ
ると磁気特性に影響を与え、また膜剥離の問題が生じる
。一般に、アモルファスコーテイング膜の厚さは５０〜
５００Ａとりわけ２００〜３００Ａ程度の範囲が好適で
、薄膜磁気ヘッドの使用目的や要求特性等に応じて決定
される。
［発明の効果］
以上詳述した通り、本発明の薄膜磁気ヘッドは、表面に
耐食性金属又は合金のアモルファスコーティング保護膜
を有するため、このアモルファスコーテイング膜により
、ヘッドの耐食性、耐摩耗性が著しく高められ、その耐
久性が大幅に向上される。
耐食性金属又は合金のアモルファスコーティング保護膜
を有するため、このアモルファスコーテイング膜により
、ヘッドの耐食性、耐摩耗性が著しく高められ、その耐
久性が大幅に向上される。
従って、本発明によれば薄膜磁気ヘッドの寿命を大幅に
延長することができ、磁気ディスク装置のコストダウン
に有効である。
延長することができ、磁気ディスク装置のコストダウン
に有効である。
第１図は薄膜磁気へラドスライダを示す斜視図、第２図
は薄膜磁気ヘッドの製造例を示す説明図である。 １・・・ＡＪ２２０ｓ ・ＴｉＣ基板、２・・・Ａｆ１
２０ｓ層、 ３・・・Ｎｉ−Ｆｅ下ポール、 ４・・・Ａｆ２０３Ｒ／Ｗギャップ、 ５・・・フォトレジスト絶縁層、 ６・・・Ｃｕコイル、 ７・・・フォトレジスト絶縁層、 ８ ・・・Ｎ ｉ −Ｆ ｅ上ボール、 ９ ・・・Ｃ
ｕ端子、１０・・・Ａｌ１２０ｇ保護膜。
は薄膜磁気ヘッドの製造例を示す説明図である。 １・・・ＡＪ２２０ｓ ・ＴｉＣ基板、２・・・Ａｆ１
２０ｓ層、 ３・・・Ｎｉ−Ｆｅ下ポール、 ４・・・Ａｆ２０３Ｒ／Ｗギャップ、 ５・・・フォトレジスト絶縁層、 ６・・・Ｃｕコイル、 ７・・・フォトレジスト絶縁層、 ８ ・・・Ｎ ｉ −Ｆ ｅ上ボール、 ９ ・・・Ｃ
ｕ端子、１０・・・Ａｌ１２０ｇ保護膜。
Claims (1)
- （１）表面に耐食性金属又は合金のアモルファスコーテ
ィング保護膜を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14287687A JPS63306508A (ja) | 1987-06-08 | 1987-06-08 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14287687A JPS63306508A (ja) | 1987-06-08 | 1987-06-08 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63306508A true JPS63306508A (ja) | 1988-12-14 |
Family
ID=15325650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14287687A Pending JPS63306508A (ja) | 1987-06-08 | 1987-06-08 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63306508A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2691478A1 (fr) * | 1992-05-22 | 1993-11-26 | Neyrpic | Revêtements métalliques à base d'alliages amorphes résistant à l'usure et à la corrosion, rubans obtenus à partir de ces alliages, procédé d'obtention et applications aux revêtements antiusure pour matériel hydraulique. |
-
1987
- 1987-06-08 JP JP14287687A patent/JPS63306508A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2691478A1 (fr) * | 1992-05-22 | 1993-11-26 | Neyrpic | Revêtements métalliques à base d'alliages amorphes résistant à l'usure et à la corrosion, rubans obtenus à partir de ces alliages, procédé d'obtention et applications aux revêtements antiusure pour matériel hydraulique. |
| US5376191A (en) * | 1992-05-22 | 1994-12-27 | Neyrpic | Amorphous alloy-based metallic finishes having wear and corrosion resistance |
| US5421919A (en) * | 1992-05-22 | 1995-06-06 | Neypric | Method for forming a wear and corrosion resistant metallic finish on a substrate |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2816472B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US6490131B2 (en) | Thin film magnetic head with electroplated Ni-Fe alloy thin film having small average crystal grain size range | |
| EP0584707B1 (en) | Laminate and wear-resistant thin-film magnetic head assembly formed thereon | |
| JP2603433B2 (ja) | 磁性積層構造体及びその製造方法 | |
| EP0145157A1 (en) | Thin film magnetic recording media | |
| JP3803180B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法ならびに磁気ディスク装置 | |
| US5948532A (en) | Cermet adhesion layer with carbonaceous wear layer for head/disk interfaces | |
| US6129981A (en) | Magnetic recording medium and magnetic recording disk device | |
| US5945190A (en) | Magnetic recording medium and magnetic disk device | |
| JPH0419609B2 (ja) | ||
| JPS61199224A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2793732B2 (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッドおよびその製造方法、ならびに、磁気信号再生装置 | |
| US6699601B1 (en) | Magnetic recording medium, method of producing the medium, and magnetic disk apparatus | |
| JP2873702B2 (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録再生方法 | |
| JPH0349131B2 (ja) | ||
| JP3492908B2 (ja) | 磁気記録再生方法 | |
| JPS61199236A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| WO2000077778A1 (fr) | Support d'enregistrement magnetique, son procede de fabrication et dispositif a disque magnetique | |
| JPH02154309A (ja) | 薄膜磁気ヘッド用基板の製造方法 | |
| JPH04141810A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JP2000113443A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気ディスク装置 | |
| JPH0833984B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS6391814A (ja) | 薄膜磁気ヘツドスライダ | |
| JPS61199232A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH05242424A (ja) | 薄膜磁気ヘッド |