JPS63306591A - 1トランジスタ型mosダイナミックram - Google Patents
1トランジスタ型mosダイナミックramInfo
- Publication number
- JPS63306591A JPS63306591A JP62141755A JP14175587A JPS63306591A JP S63306591 A JPS63306591 A JP S63306591A JP 62141755 A JP62141755 A JP 62141755A JP 14175587 A JP14175587 A JP 14175587A JP S63306591 A JPS63306591 A JP S63306591A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- counter electrode
- circuit
- electrode potential
- cell counter
- test
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000011990 functional testing Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 25
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は1トランジスタ型MO8ダイナミックRAMに
関する。
関する。
第3図は従来の1トランジスタ型MO8ダイナミックR
AMの構成図である。セル容量COO,C1・−・・・
・とNチャネルMOSトランジスタQoos Qlo・
=・・・が一対でメモリセルを形成し、マトリクス状に
並んで−る。データの書き込み時にはワード線のひとつ
、例えばW・が選択され”High−になシ、トランジ
スタQ・・、Q@重・・・・・・が−on−する。次に
デジット線が一組、例えばD・、Doが選択されてYス
イッチ信号ysw、が°High嘗になシ、Q Yo。
AMの構成図である。セル容量COO,C1・−・・・
・とNチャネルMOSトランジスタQoos Qlo・
=・・・が一対でメモリセルを形成し、マトリクス状に
並んで−る。データの書き込み時にはワード線のひとつ
、例えばW・が選択され”High−になシ、トランジ
スタQ・・、Q@重・・・・・・が−on−する。次に
デジット線が一組、例えばD・、Doが選択されてYス
イッチ信号ysw、が°High嘗になシ、Q Yo。
。
QY@簾が@ 6 nl L、て、セル容tCO・にデ
ータとしての電荷が書き込まれる。
ータとしての電荷が書き込まれる。
セル容量の対極はすべてのセルに対して共通でセル対極
と呼ばれる。リセット時にはプリチャージ信号PSWに
よってトランジスタQPo・、QPot・・・・・・が
−011’L、デジット線が電位VPKプリチャージさ
れる。し九がってデジット線はすべて同電位になってい
る。データの読み出し時にはワード線Woが書き込み時
と同様忙選択される。するとセル容itC・・に書き込
まれていた電荷によってデジット@ D、、 D・の間
に電位差が生じるので、それをセンスアンプ8AKよっ
て増幅した後にYスイッチYSW・を開けてデータを取
)出す。
と呼ばれる。リセット時にはプリチャージ信号PSWに
よってトランジスタQPo・、QPot・・・・・・が
−011’L、デジット線が電位VPKプリチャージさ
れる。し九がってデジット線はすべて同電位になってい
る。データの読み出し時にはワード線Woが書き込み時
と同様忙選択される。するとセル容itC・・に書き込
まれていた電荷によってデジット@ D、、 D・の間
に電位差が生じるので、それをセンスアンプ8AKよっ
て増幅した後にYスイッチYSW・を開けてデータを取
)出す。
lトランジスタ型MOSダイナミックRAM;6s完全
な良品として使用されるためKは、以上のような読み書
きの機能が正確に働くかを製造後テストしなければなら
ない。この機能試験は単純に読み書きするだけでは、不
十分である。なぜなら半導体ICは製造時に設計回路上
にはない付加容量や付加抵抗などが必ずできるためであ
る。例えばワード線とデジット線の間には、付加容量が
付いている。また一般にこの付加容量はDiとDiでは
違う。この影響を調べるためKは全部のセルtc ’L
aw”を書き込んだ後、−組のデジット線沿いだけにl
High−を1き込み、そして読み出す。読み出しの時
にセンスアンプが動くが、このとき” Low ”にな
るデジット線の方が付加容量が多いと増幅時忙デジット
線を流れる電流によってワード線の電位る可能性が出る
。
な良品として使用されるためKは、以上のような読み書
きの機能が正確に働くかを製造後テストしなければなら
ない。この機能試験は単純に読み書きするだけでは、不
十分である。なぜなら半導体ICは製造時に設計回路上
にはない付加容量や付加抵抗などが必ずできるためであ
る。例えばワード線とデジット線の間には、付加容量が
付いている。また一般にこの付加容量はDiとDiでは
違う。この影響を調べるためKは全部のセルtc ’L
aw”を書き込んだ後、−組のデジット線沿いだけにl
High−を1き込み、そして読み出す。読み出しの時
にセンスアンプが動くが、このとき” Low ”にな
るデジット線の方が付加容量が多いと増幅時忙デジット
線を流れる電流によってワード線の電位る可能性が出る
。
1トランジスタ型ダイナミックRAMには以上に述べた
以外にも書き間違いやすい、または読み間違いやすいパ
ターンが数多くあシ、そのようなパターンは書き込み・
読み出しの順序をも含めた複雑なものが多い、出荷前の
製品にはすべての間違いやすいパターンについて機能試
験が行なわれてきた。
以外にも書き間違いやすい、または読み間違いやすいパ
ターンが数多くあシ、そのようなパターンは書き込み・
読み出しの順序をも含めた複雑なものが多い、出荷前の
製品にはすべての間違いやすいパターンについて機能試
験が行なわれてきた。
しかしながら上記の機能試験はlトランジスタ型MOS
ダイナミックRAMの高集積化に伴ない非常に時間がか
かるようになってきた。1トランジスタ型ダイナミック
RAMの主流は256にビットから1Mビットになり、
これによって1チツプあたりのビット数は4倍になった
が、高集積化に伴なって調べる必要のめるパターンが増
加したりパターンの中には試験時間がビット数の2乗に
比例するようなものが61機能試験に必要な時間は4倍
以上となっている。
ダイナミックRAMの高集積化に伴ない非常に時間がか
かるようになってきた。1トランジスタ型ダイナミック
RAMの主流は256にビットから1Mビットになり、
これによって1チツプあたりのビット数は4倍になった
が、高集積化に伴なって調べる必要のめるパターンが増
加したりパターンの中には試験時間がビット数の2乗に
比例するようなものが61機能試験に必要な時間は4倍
以上となっている。
従来、上記の機能試験の時間の短縮のために1書き込み
・読み出しを4ビツトまとめて行なうテストモードを使
用してきた。このテストモードはテスト用の入力信号ピ
ンに電源電圧Vcc以上の電圧をかけるととくよって使
用できる。
・読み出しを4ビツトまとめて行なうテストモードを使
用してきた。このテストモードはテスト用の入力信号ピ
ンに電源電圧Vcc以上の電圧をかけるととくよって使
用できる。
第4図はこのテスト用回路のブロック図である。
テスト用入力信号TENTが電源電圧Vcc未溝のとき
はセル1.1’、 1”、 1”から読み出されたデー
タは回路6で選択されて1つだけ出力される。入力信号
TE8Tが電源電圧Vcc以上のときは、テストモード
となり4つのデータの論理積をとって外部データ出力信
号DOUTに出力する。書き込み時には外部データ人力
DINから入力されたデータを4つのセルに同じものを
書き込む。このテストモードでは使用不可能なパターン
も一部にあるので、減少できる試験時間はIVcも満た
ない。
はセル1.1’、 1”、 1”から読み出されたデー
タは回路6で選択されて1つだけ出力される。入力信号
TE8Tが電源電圧Vcc以上のときは、テストモード
となり4つのデータの論理積をとって外部データ出力信
号DOUTに出力する。書き込み時には外部データ人力
DINから入力されたデータを4つのセルに同じものを
書き込む。このテストモードでは使用不可能なパターン
も一部にあるので、減少できる試験時間はIVcも満た
ない。
!トランジスタ型MOSダイナミックRAMが大容量に
なるに従つて書き込み・読み出しパターンによってvA
bやすい状態を作る機能試験忙必要な時間は増加し、こ
のことが製作コストを上昇させている。これに対して書
き込み・読み出しを4ビツトまとめて行なう上記のテス
トモードは有効な対策にはなっていない。
なるに従つて書き込み・読み出しパターンによってvA
bやすい状態を作る機能試験忙必要な時間は増加し、こ
のことが製作コストを上昇させている。これに対して書
き込み・読み出しを4ビツトまとめて行なう上記のテス
トモードは有効な対策にはなっていない。
本発明が解決しようとする問題点、換言すれば本発明の
目的はテストモードを変更する手段を設けるようKして
短時間で機能試験を実施できる1トランジスタ型MO8
ダイナミックRAMを提供することにある。すなわち上
述した従来の1トランジスタ型MOSダイナミックRA
Mは機能試験を誉き込み、・読み出しのみで行なうのに
対し、本発明の1トランジスタ型MO8ダイナミックR
AMはセル対極電位を外部から操作して書き込み・読み
出しを行なうテストモードを設け、それを使って機能試
験を行なう。
目的はテストモードを変更する手段を設けるようKして
短時間で機能試験を実施できる1トランジスタ型MO8
ダイナミックRAMを提供することにある。すなわち上
述した従来の1トランジスタ型MOSダイナミックRA
Mは機能試験を誉き込み、・読み出しのみで行なうのに
対し、本発明の1トランジスタ型MO8ダイナミックR
AMはセル対極電位を外部から操作して書き込み・読み
出しを行なうテストモードを設け、それを使って機能試
験を行なう。
本発明の1トランジスタ型MOSダイナオ、りRAMは
、複数個のメモリ素子を含むメモリセルと、前記メモリ
セルにセル対極電位を付与する第一の回路と、外部信号
に従って前記セル対極電位を変化させる第二の回路とを
有し、前記セル対極電位を変更しながら機能テストを実
行できるよう和して構成される。
、複数個のメモリ素子を含むメモリセルと、前記メモリ
セルにセル対極電位を付与する第一の回路と、外部信号
に従って前記セル対極電位を変化させる第二の回路とを
有し、前記セル対極電位を変更しながら機能テストを実
行できるよう和して構成される。
つぎに本発明圧ついて図面を参照しながら説明する。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図である。同
図においてメモリセル1はセル対極VCと接続している
。またメモリセル1はデータアウト・デーメインバッフ
ァ5に接続していてここを通して外部データ人力DIN
、外部データ出力DOUTと接続している。
図においてメモリセル1はセル対極VCと接続している
。またメモリセル1はデータアウト・デーメインバッフ
ァ5に接続していてここを通して外部データ人力DIN
、外部データ出力DOUTと接続している。
回路2はセル対極電位を作る回路である。入力信号TE
STがVcc未満のときは一定の電位を保つ。
STがVcc未満のときは一定の電位を保つ。
入力信号TENTが電源電圧Vcc以上のときは回路3
によって作られる信号TO,TIの組合せくよってセル
対極電位を4段階に変えることができる。
によって作られる信号TO,TIの組合せくよってセル
対極電位を4段階に変えることができる。
回路3は回路4で作られたデータラッチ信号TBLKよ
って外部アドレス人力A、、A、の信号をラッチしてそ
れぞれTO,TIとする回路である。
って外部アドレス人力A、、A、の信号をラッチしてそ
れぞれTO,TIとする回路である。
回路4はでT’i before 111refres
h −v−−)”の時にアクティブになる内部信号CB
Hの立ち上がシ時に書き込み制御信号W1をラッチし、
内部信装置として出力する。
h −v−−)”の時にアクティブになる内部信号CB
Hの立ち上がシ時に書き込み制御信号W1をラッチし、
内部信装置として出力する。
第2図はテストモードに入るための外部入力タイ5 ン
グである。CA8 before Rτ7J 1e
freshモードは内部アドレスカウンタCてよってワ
ード線を選択しrefrshするモードでアドレス入力
信号AO。
グである。CA8 before Rτ7J 1e
freshモードは内部アドレスカウンタCてよってワ
ード線を選択しrefrshするモードでアドレス入力
信号AO。
A1・・・・・・と書き込み制御信号Wlは無視される
。
。
本実施例におけるテストモードはこのCAB befo
re’KTF3 refreshモードの特徴を利用
し、入力信号TH8TがVcc以上のときT!7;”J
before ”IXi!i gfrashを行なう
とテストモードに入る。このときWlをIHighlに
しておくとアドレス人力AO,AIの情報がラッチされ
セル対極電位が変化しテストモードに入る。これをリセ
ットするKは、入力信号TE8TをVcc未満にするか
、アドレス入力AO。
re’KTF3 refreshモードの特徴を利用
し、入力信号TH8TがVcc以上のときT!7;”J
before ”IXi!i gfrashを行なう
とテストモードに入る。このときWlをIHighlに
しておくとアドレス人力AO,AIの情報がラッチされ
セル対極電位が変化しテストモードに入る。これをリセ
ットするKは、入力信号TE8TをVcc未満にするか
、アドレス入力AO。
A1を共に一しPくしてテストモードに入るかである。
このようKしてテストモードに入ると後は自由に読み書
きが可能である。例えばセル対極電位を元より下げると
セルの電位も下がる。そしてテストモードに入る前にセ
ルに”High’が書き込まれていた場合シζは、これ
を読むときく間違いやすくなる。付加容量の大きさが違
かうためにあるパターンで起っていた 読み間違いもセ
ル対極電位を変えればより起りやすくなシ、機能試験は
−通りの読み書きによって済ませることができる。
きが可能である。例えばセル対極電位を元より下げると
セルの電位も下がる。そしてテストモードに入る前にセ
ルに”High’が書き込まれていた場合シζは、これ
を読むときく間違いやすくなる。付加容量の大きさが違
かうためにあるパターンで起っていた 読み間違いもセ
ル対極電位を変えればより起りやすくなシ、機能試験は
−通りの読み書きによって済ませることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は機能試験時に複雑な書き込
み・読み出しパターンを用いる代シにセル対極電位を変
化させることにより、誤りやすい状態を作り出す。その
ようにして試験の必要なパターンを減らすことによシ大
幅にテスト時間を減少させることかでき、製作コストを
下けることができる。高集積化が進んでいる現在の状況
において特に有利である。
み・読み出しパターンを用いる代シにセル対極電位を変
化させることにより、誤りやすい状態を作り出す。その
ようにして試験の必要なパターンを減らすことによシ大
幅にテスト時間を減少させることかでき、製作コストを
下けることができる。高集積化が進んでいる現在の状況
において特に有利である。
第1図は本発明の一実施例のブロック図、第2図は本発
明のセル対極を変化させるモードの入力タイミングを示
す波形図、第3図は従来のメモリの構成図、第4図は従
来のテストモードを動かすためのブロック図である。 1・・・・・・メモリセル、2・・・・・・セル対極電
位作成回路、3−−−−−−セル対極電位変化データラ
ッチ回路、4・・・・・・ラッチ信号生成回路、5・・
・・・・データアウトデータインバッファ回路。 ・−;〕ン、・ 代理人 弁理士 内 原 晋・ ]・牛3 図 VC−一→
明のセル対極を変化させるモードの入力タイミングを示
す波形図、第3図は従来のメモリの構成図、第4図は従
来のテストモードを動かすためのブロック図である。 1・・・・・・メモリセル、2・・・・・・セル対極電
位作成回路、3−−−−−−セル対極電位変化データラ
ッチ回路、4・・・・・・ラッチ信号生成回路、5・・
・・・・データアウトデータインバッファ回路。 ・−;〕ン、・ 代理人 弁理士 内 原 晋・ ]・牛3 図 VC−一→
Claims (1)
- 複数個のメモリ素子を含むメモリセルと、前記メモリセ
ルにセル対極電位を付与する第一の回路と、外部信号に
従って前記セル対極電位を変化させる第二の回路とを有
し、前記セル対極電位を変更しながら機能テストを実行
できることを特徴とする1トランジスタ型MOSダィナ
ミックRAM。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62141755A JPS63306591A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 1トランジスタ型mosダイナミックram |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62141755A JPS63306591A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 1トランジスタ型mosダイナミックram |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63306591A true JPS63306591A (ja) | 1988-12-14 |
Family
ID=15299439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62141755A Pending JPS63306591A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 1トランジスタ型mosダイナミックram |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63306591A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03104100A (ja) * | 1989-09-18 | 1991-05-01 | Fujitsu Ltd | 半導体メモリ装置 |
-
1987
- 1987-06-05 JP JP62141755A patent/JPS63306591A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03104100A (ja) * | 1989-09-18 | 1991-05-01 | Fujitsu Ltd | 半導体メモリ装置 |
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