JPS63311731A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS63311731A JPS63311731A JP62147650A JP14765087A JPS63311731A JP S63311731 A JPS63311731 A JP S63311731A JP 62147650 A JP62147650 A JP 62147650A JP 14765087 A JP14765087 A JP 14765087A JP S63311731 A JPS63311731 A JP S63311731A
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- JP
- Japan
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- bonding
- films
- wires
- semiconductor device
- chip
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- Pending
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
- H10W72/07551—Connecting or disconnecting of bond wires characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting
-
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/531—Shapes of wire connectors
- H10W72/5363—Shapes of wire connectors the connected ends being wedge-shaped
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/5449—Dispositions of bond wires not being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. fan-out arrangements
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/931—Shapes of bond pads
- H10W72/932—Plan-view shape, i.e. in top view
-
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置に関し、特にダイシング用に形成さ
れるスクライブ線構造を有する半導体装置に関する。
れるスクライブ線構造を有する半導体装置に関する。
従来、この踵の半導体装置は、ウェーハ状態からチップ
状態にするときダイヤモンドカッター等で個々のチップ
に分離するためのシリコン基板がむき出しになったスク
ライブ線を有している。このシリコン基板をむき出しに
しtいるのは、ダイシングする際にスクライブ線上に酸
化膜や金属が形成されていると、切断線が乱れたり、あ
るいはカッターの歯が汚れたりするからである。
状態にするときダイヤモンドカッター等で個々のチップ
に分離するためのシリコン基板がむき出しになったスク
ライブ線を有している。このシリコン基板をむき出しに
しtいるのは、ダイシングする際にスクライブ線上に酸
化膜や金属が形成されていると、切断線が乱れたり、あ
るいはカッターの歯が汚れたりするからである。
第4図はかかる従来の半導体装置の組立断面図である。
第4図に示すようにこの半導体装置はシリコン基板17
上にボンディングパッド13が被着されており、まなこ
のパッド13とスクライブ線11を除く基板17の表面
領域には表面保護膜18が被覆されている。かかる半導
体装置をアイランド(島状領域)16上に固着し、しか
る後パッド13とリード側電極15とをボンディングワ
イヤ14によりボンディング接続している。これにより
シリコン基板17上に形成された半導体素子(図示省略
)はリードに電気的に接続される。
上にボンディングパッド13が被着されており、まなこ
のパッド13とスクライブ線11を除く基板17の表面
領域には表面保護膜18が被覆されている。かかる半導
体装置をアイランド(島状領域)16上に固着し、しか
る後パッド13とリード側電極15とをボンディングワ
イヤ14によりボンディング接続している。これにより
シリコン基板17上に形成された半導体素子(図示省略
)はリードに電気的に接続される。
上述した従来の半導体装置はシリコン基板がむき出しに
なったスクライブ22 M ’Aiとなっているので、
ボンディング接続など半導体装置の組立の際にボンデイ
ングライヤ部分が、第4図に示すコーナ一部分す部のよ
うに、チップ分離用に形成されたスクライブ線に接触し
、いわゆるエツジタッチ不良を発生し易いという欠点が
ある。
なったスクライブ22 M ’Aiとなっているので、
ボンディング接続など半導体装置の組立の際にボンデイ
ングライヤ部分が、第4図に示すコーナ一部分す部のよ
うに、チップ分離用に形成されたスクライブ線に接触し
、いわゆるエツジタッチ不良を発生し易いという欠点が
ある。
本発明の目的は、かかるボンディング接続におけるボン
ディング線のエツジタッチ不良を解消するような半導体
装置を提供することにある。
ディング線のエツジタッチ不良を解消するような半導体
装置を提供することにある。
本発明の半導体装置は、チップ分離用に設けられたスク
ライブ線上の一部に各チップのボンディングパッドに対
応して絶縁、膜を形成するように構成される。
ライブ線上の一部に各チップのボンディングパッドに対
応して絶縁、膜を形成するように構成される。
次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第1図は本発明の一実施例を説明するための半導体装B
itの平面図である。この半導体装置はチップに分■す
る萌の状態を示している。
itの平面図である。この半導体装置はチップに分■す
る萌の状態を示している。
第1図に示すように、スクライブ線1はシリコン基板が
むき出しになった領域であり、そのスクライブ線領域1
内に絶縁膜2が形成されている。
むき出しになった領域であり、そのスクライブ線領域1
内に絶縁膜2が形成されている。
この絶縁膜2を形成する個所にはチップ領域の各外周部
に形成されるボンディング用パッド3に対応して被覆さ
れる。
に形成されるボンディング用パッド3に対応して被覆さ
れる。
第2図は本発明の半導体装置を組立した際の平面図であ
る。
る。
第2図に示すように、各チップに分離された半導体装置
をアイランド(島状領域)6上にマウント固着し、しか
る後、半導体装置のパラ1〈3とリードフレームのボン
ディング電極部5とを組立ボンディングワイヤ4により
ボンディング接続した状態である。このときチップの周
囲に残っているスクライブ線領域1内のパッド3の対応
個所には絶縁膜2が形成されているのでポンティングワ
イヤ4は必ず絶縁膜2の上方に配線される。
をアイランド(島状領域)6上にマウント固着し、しか
る後、半導体装置のパラ1〈3とリードフレームのボン
ディング電極部5とを組立ボンディングワイヤ4により
ボンディング接続した状態である。このときチップの周
囲に残っているスクライブ線領域1内のパッド3の対応
個所には絶縁膜2が形成されているのでポンティングワ
イヤ4は必ず絶縁膜2の上方に配線される。
第3図は」二連した第2図におけるA−A’線の縦断面
図である。
図である。
第3図に示すようにシリコン基板上上にボンディングパ
ッド3と絶縁膜2および表面保護膜8を形成された半導
体装置がアイランドG上にマウン1− ’され、ボンデ
ィングワイヤ11によりパッド3とリード側電極5とを
接続している。かがる半導体装置において、ボンデイン
クワイヤ4は絶縁膜2があるのでシリコン基板7とショ
ー)・することはない。
ッド3と絶縁膜2および表面保護膜8を形成された半導
体装置がアイランドG上にマウン1− ’され、ボンデ
ィングワイヤ11によりパッド3とリード側電極5とを
接続している。かがる半導体装置において、ボンデイン
クワイヤ4は絶縁膜2があるのでシリコン基板7とショ
ー)・することはない。
以上説明したように、本発明は複数個の半導体′iA置
を形成したウェーハ上のスクライブ線の一部に絶縁成金
形成することにより、ボンディング接続などの半導体装
置の組立時におけるワイヤのエツジタッチ不良を皆無に
することができる効果がある。
を形成したウェーハ上のスクライブ線の一部に絶縁成金
形成することにより、ボンディング接続などの半導体装
置の組立時におけるワイヤのエツジタッチ不良を皆無に
することができる効果がある。
図面の簡りiな説明
第1図は本発明の一実施例を説明するための半導体装置
の平面図、第2図は本発明による半導体装11′げにボ
ンディング接続を行った状態のJ1面図、第3図は第2
U′Aに示す、l−A′線線断断面図第4図は従来の一
例を説明するための半導体装置の組立断面図である。
の平面図、第2図は本発明による半導体装11′げにボ
ンディング接続を行った状態のJ1面図、第3図は第2
U′Aに示す、l−A′線線断断面図第4図は従来の一
例を説明するための半導体装置の組立断面図である。
1゛・・・スクライブ線領域、2・・・絶縁膜、3・・
ポンディグパッド、4・・・ボンデインクワイヤ、5
・リード側電極、6・・・アイランド、7・・・シリコ
ン1占板、8・・・k面保護膜。
ポンディグパッド、4・・・ボンデインクワイヤ、5
・リード側電極、6・・・アイランド、7・・・シリコ
ン1占板、8・・・k面保護膜。
代理人 升埋士 内 原 昔 ゛
(・
Claims (1)
- シリコン基板上に半導体素子を形成した半導体装置にお
いて、チップ分離用に設けられた境界線上の一部に各チ
ップのボンディングパッドに対応して絶縁膜を形成した
ことを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62147650A JPS63311731A (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62147650A JPS63311731A (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63311731A true JPS63311731A (ja) | 1988-12-20 |
Family
ID=15435147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62147650A Pending JPS63311731A (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63311731A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100512395B1 (ko) * | 2000-07-31 | 2005-09-07 | 엔이씨 일렉트로닉스 가부시키가이샤 | 반도체 웨이퍼, 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
-
1987
- 1987-06-12 JP JP62147650A patent/JPS63311731A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100512395B1 (ko) * | 2000-07-31 | 2005-09-07 | 엔이씨 일렉트로닉스 가부시키가이샤 | 반도체 웨이퍼, 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
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