JPS63311731A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPS63311731A
JPS63311731A JP62147650A JP14765087A JPS63311731A JP S63311731 A JPS63311731 A JP S63311731A JP 62147650 A JP62147650 A JP 62147650A JP 14765087 A JP14765087 A JP 14765087A JP S63311731 A JPS63311731 A JP S63311731A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bonding
films
wires
semiconductor device
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62147650A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeru Koshimaru
越丸 茂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP62147650A priority Critical patent/JPS63311731A/ja
Publication of JPS63311731A publication Critical patent/JPS63311731A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置に関し、特にダイシング用に形成さ
れるスクライブ線構造を有する半導体装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、この踵の半導体装置は、ウェーハ状態からチップ
状態にするときダイヤモンドカッター等で個々のチップ
に分離するためのシリコン基板がむき出しになったスク
ライブ線を有している。このシリコン基板をむき出しに
しtいるのは、ダイシングする際にスクライブ線上に酸
化膜や金属が形成されていると、切断線が乱れたり、あ
るいはカッターの歯が汚れたりするからである。
第4図はかかる従来の半導体装置の組立断面図である。
第4図に示すようにこの半導体装置はシリコン基板17
上にボンディングパッド13が被着されており、まなこ
のパッド13とスクライブ線11を除く基板17の表面
領域には表面保護膜18が被覆されている。かかる半導
体装置をアイランド(島状領域)16上に固着し、しか
る後パッド13とリード側電極15とをボンディングワ
イヤ14によりボンディング接続している。これにより
シリコン基板17上に形成された半導体素子(図示省略
)はリードに電気的に接続される。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来の半導体装置はシリコン基板がむき出しに
なったスクライブ22 M ’Aiとなっているので、
ボンディング接続など半導体装置の組立の際にボンデイ
ングライヤ部分が、第4図に示すコーナ一部分す部のよ
うに、チップ分離用に形成されたスクライブ線に接触し
、いわゆるエツジタッチ不良を発生し易いという欠点が
ある。
本発明の目的は、かかるボンディング接続におけるボン
ディング線のエツジタッチ不良を解消するような半導体
装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の半導体装置は、チップ分離用に設けられたスク
ライブ線上の一部に各チップのボンディングパッドに対
応して絶縁、膜を形成するように構成される。
〔実施例〕
次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
第1図は本発明の一実施例を説明するための半導体装B
itの平面図である。この半導体装置はチップに分■す
る萌の状態を示している。
第1図に示すように、スクライブ線1はシリコン基板が
むき出しになった領域であり、そのスクライブ線領域1
内に絶縁膜2が形成されている。
この絶縁膜2を形成する個所にはチップ領域の各外周部
に形成されるボンディング用パッド3に対応して被覆さ
れる。
第2図は本発明の半導体装置を組立した際の平面図であ
る。
第2図に示すように、各チップに分離された半導体装置
をアイランド(島状領域)6上にマウント固着し、しか
る後、半導体装置のパラ1〈3とリードフレームのボン
ディング電極部5とを組立ボンディングワイヤ4により
ボンディング接続した状態である。このときチップの周
囲に残っているスクライブ線領域1内のパッド3の対応
個所には絶縁膜2が形成されているのでポンティングワ
イヤ4は必ず絶縁膜2の上方に配線される。
第3図は」二連した第2図におけるA−A’線の縦断面
図である。
第3図に示すようにシリコン基板上上にボンディングパ
ッド3と絶縁膜2および表面保護膜8を形成された半導
体装置がアイランドG上にマウン1− ’され、ボンデ
ィングワイヤ11によりパッド3とリード側電極5とを
接続している。かがる半導体装置において、ボンデイン
クワイヤ4は絶縁膜2があるのでシリコン基板7とショ
ー)・することはない。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は複数個の半導体′iA置
を形成したウェーハ上のスクライブ線の一部に絶縁成金
形成することにより、ボンディング接続などの半導体装
置の組立時におけるワイヤのエツジタッチ不良を皆無に
することができる効果がある。
図面の簡りiな説明 第1図は本発明の一実施例を説明するための半導体装置
の平面図、第2図は本発明による半導体装11′げにボ
ンディング接続を行った状態のJ1面図、第3図は第2
U′Aに示す、l−A′線線断断面図第4図は従来の一
例を説明するための半導体装置の組立断面図である。
1゛・・・スクライブ線領域、2・・・絶縁膜、3・・
ポンディグパッド、4・・・ボンデインクワイヤ、5 
・リード側電極、6・・・アイランド、7・・・シリコ
ン1占板、8・・・k面保護膜。
代理人 升埋士 内 原  昔 ゛ (・

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. シリコン基板上に半導体素子を形成した半導体装置にお
    いて、チップ分離用に設けられた境界線上の一部に各チ
    ップのボンディングパッドに対応して絶縁膜を形成した
    ことを特徴とする半導体装置。
JP62147650A 1987-06-12 1987-06-12 半導体装置 Pending JPS63311731A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62147650A JPS63311731A (ja) 1987-06-12 1987-06-12 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62147650A JPS63311731A (ja) 1987-06-12 1987-06-12 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63311731A true JPS63311731A (ja) 1988-12-20

Family

ID=15435147

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62147650A Pending JPS63311731A (ja) 1987-06-12 1987-06-12 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63311731A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100512395B1 (ko) * 2000-07-31 2005-09-07 엔이씨 일렉트로닉스 가부시키가이샤 반도체 웨이퍼, 반도체 장치 및 그 제조 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100512395B1 (ko) * 2000-07-31 2005-09-07 엔이씨 일렉트로닉스 가부시키가이샤 반도체 웨이퍼, 반도체 장치 및 그 제조 방법

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