JPS6333627U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6333627U JPS6333627U JP1986126887U JP12688786U JPS6333627U JP S6333627 U JPS6333627 U JP S6333627U JP 1986126887 U JP1986126887 U JP 1986126887U JP 12688786 U JP12688786 U JP 12688786U JP S6333627 U JPS6333627 U JP S6333627U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- back side
- nozzle
- dry
- holding plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
第１図は本考案の実施例の上部からの平面図、
第２図は第１図のａ―ａ′断面図である。第３図
は、本考案の実施例の上部からの平面図、第４図
は、第３図のｂ―ｂ′断面図である。 １……半導体ウエハー、２……ウエハー保持板
、３……パツキン、４，８……乾燥空気噴射用ノ
ズル、５，９……ステンレスチユーブ、６……洗
浄液噴霧用ノズル、７……ビニールチユーブ。
第２図は第１図のａ―ａ′断面図である。第３図
は、本考案の実施例の上部からの平面図、第４図
は、第３図のｂ―ｂ′断面図である。 １……半導体ウエハー、２……ウエハー保持板
、３……パツキン、４，８……乾燥空気噴射用ノ
ズル、５，９……ステンレスチユーブ、６……洗
浄液噴霧用ノズル、７……ビニールチユーブ。
Claims (1)
- ウエハー洗浄装置において、ウエハーの裏面に
接触する事なく、ウエハーを保持する為の保持板
と、ウエハーの裏面を洗浄する為に洗浄液を噴霧
させるノズルと、ウエハーの裏面を乾燥する為に
乾燥空気を噴射させるノズルを有することを特徴
とするウエハー裏面洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986126887U JPS6333627U (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986126887U JPS6333627U (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6333627U true JPS6333627U (ja) | 1988-03-04 |
Family
ID=31021117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986126887U Pending JPS6333627U (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6333627U (ja) |
-
1986
- 1986-08-19 JP JP1986126887U patent/JPS6333627U/ja active Pending