JPS6334292Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6334292Y2 JPS6334292Y2 JP1979145499U JP14549979U JPS6334292Y2 JP S6334292 Y2 JPS6334292 Y2 JP S6334292Y2 JP 1979145499 U JP1979145499 U JP 1979145499U JP 14549979 U JP14549979 U JP 14549979U JP S6334292 Y2 JPS6334292 Y2 JP S6334292Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reflecting mirror
- reflector
- view
- present
- perspective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案はレーザ発振器の共振器内に使用される
反射鏡の構造に関するものであり、反射鏡の強度
をそこなうことなく反射鏡の取扱や真空維持を確
実に行なうことを目的としたものである。
反射鏡の構造に関するものであり、反射鏡の強度
をそこなうことなく反射鏡の取扱や真空維持を確
実に行なうことを目的としたものである。
第１図は従来の反射鏡を示すものであり、１は
光の反射面、１１は側面である。この反射鏡の外
周は平らで特別な加工は施されてない。このため
取扱や保持が困難である。
光の反射面、１１は側面である。この反射鏡の外
周は平らで特別な加工は施されてない。このため
取扱や保持が困難である。
第２図も従来例で反射鏡の側面１１に数個の穴
２を有するもので反射鏡を取扱う時はこの穴に第
３図に示す保持用治具４をセツトして行なう。こ
の形状のものは治具をセツトする位置が穴２の位
置によつて限定されるとともに取扱い時や発振時
にこの穴から破壊が起る危険性があり、また第３
図の様に保持されたまま反射鏡が容易に回転して
しまい安心して取扱えないなどの欠点があつた。
また第２図に示した従来の反射鏡の場合、レーザ
発振中における熱応力の集中のため、反射鏡が破
損したり、反射面の曲率が場所により不均一、非
対称形になるので、出力・ビーム形状・ビームモ
ードに望ましくない影響を与える。第４図、第５
図によりこのことを説明する。
２を有するもので反射鏡を取扱う時はこの穴に第
３図に示す保持用治具４をセツトして行なう。こ
の形状のものは治具をセツトする位置が穴２の位
置によつて限定されるとともに取扱い時や発振時
にこの穴から破壊が起る危険性があり、また第３
図の様に保持されたまま反射鏡が容易に回転して
しまい安心して取扱えないなどの欠点があつた。
また第２図に示した従来の反射鏡の場合、レーザ
発振中における熱応力の集中のため、反射鏡が破
損したり、反射面の曲率が場所により不均一、非
対称形になるので、出力・ビーム形状・ビームモ
ードに望ましくない影響を与える。第４図、第５
図によりこのことを説明する。
第４図ａは第２図に示した従来の反射鏡にレー
ザ光線８１（光束８２）が当り、反射面１による
吸収率が８３の如く外周方向へ伝導することを示
した図である。第４図ｂはａの平面図で、９２は
等温線を示す。この図で明らかな様に保持用穴２
の付近に等温線の乱れがあり、ここに応力が集中
して破損の原因になる。
ザ光線８１（光束８２）が当り、反射面１による
吸収率が８３の如く外周方向へ伝導することを示
した図である。第４図ｂはａの平面図で、９２は
等温線を示す。この図で明らかな様に保持用穴２
の付近に等温線の乱れがあり、ここに応力が集中
して破損の原因になる。
本考案は、上記のような欠点を解消し反射鏡自
身の機械的強度を局部的にそこなうことなく、取
扱いや、反射鏡ホルダへのマウントが容易な反射
鏡を提供するものである。第５図は本考案の一実
施例における反射鏡を示すものである。第５図は
本考案の一実施例における反射鏡を示すものであ
る。
身の機械的強度を局部的にそこなうことなく、取
扱いや、反射鏡ホルダへのマウントが容易な反射
鏡を提供するものである。第５図は本考案の一実
施例における反射鏡を示すものである。第５図は
本考案の一実施例における反射鏡を示すものであ
る。
第５図ａは斜視図、ｂは側面図である。図にお
いて、１は光の反射面であり、側面１１に連続し
た溝３が設けられている。この溝３は１本である
必要はなく複数本であつても良い。
いて、１は光の反射面であり、側面１１に連続し
た溝３が設けられている。この溝３は１本である
必要はなく複数本であつても良い。
第６図ａ及びｂは本考案の反射鏡の保持方法を
示すものである。
示すものである。
第６図において４は反射鏡ホルダーで矢印４１
の様に把手部４３を動かすことにより保持リング
部が４２の様に拡縮し反射鏡を着脱して取扱うこ
とができる。第６図ｂは反射鏡をホルダー４で確
実に保持した状態を示す側面図である。本考案の
場合、側面に溝３が設けられているので、高精度
に加工され汚染を特にきらう反射面１に接触する
ことなく、反射鏡を取扱える。また外周全体にわ
たつて溝３が切られているので、保持位置が限定
されるようなこともない。
の様に把手部４３を動かすことにより保持リング
部が４２の様に拡縮し反射鏡を着脱して取扱うこ
とができる。第６図ｂは反射鏡をホルダー４で確
実に保持した状態を示す側面図である。本考案の
場合、側面に溝３が設けられているので、高精度
に加工され汚染を特にきらう反射面１に接触する
ことなく、反射鏡を取扱える。また外周全体にわ
たつて溝３が切られているので、保持位置が限定
されるようなこともない。
第７図は反射鏡ホルダー５へ本考案の反射鏡１
０（この場は出力鏡）を取付けた場合の断面図で
ある。５１は反射鏡１の支持用Ｏリング、５２は
真空保持用Ｏリングである。本考案の反射鏡の場
合、溝が形成されているので支持用Ｏリング５１
がはずれたりすることなく安定して反射鏡ホルダ
ー５にマウントされる。さらに真空は通常Ｏリン
グ５２で維持される支持用Ｏリング５１も真空保
持の一助となり、より確実な真空維持ができる。
加えてレーザ発振中における光の吸収熱により発
生する熱応力の分布も一様で局部的な応力の集中
がないため機械的強度も高く反射面の歪も少な
い。以下このことを第８図ａ，ｂを用いて説明す
る。
０（この場は出力鏡）を取付けた場合の断面図で
ある。５１は反射鏡１の支持用Ｏリング、５２は
真空保持用Ｏリングである。本考案の反射鏡の場
合、溝が形成されているので支持用Ｏリング５１
がはずれたりすることなく安定して反射鏡ホルダ
ー５にマウントされる。さらに真空は通常Ｏリン
グ５２で維持される支持用Ｏリング５１も真空保
持の一助となり、より確実な真空維持ができる。
加えてレーザ発振中における光の吸収熱により発
生する熱応力の分布も一様で局部的な応力の集中
がないため機械的強度も高く反射面の歪も少な
い。以下このことを第８図ａ，ｂを用いて説明す
る。
第８図は本考案の反射鏡に第４図と同じくレー
ザ光線を照射した状態を示す図である。ａは斜視
図、ｂは平面図を示す。
ザ光線を照射した状態を示す図である。ａは斜視
図、ｂは平面図を示す。
第８図ｂにおいて、８１はレーザー光線、８２
は光束、８３は吸収された熱の流れを示す。１２
１は等温線で反射鏡の中心を中心とした円を画い
ており局部的な応力の集中は見られないので機械
的強度が高い他、熱変形が発生しても反射鏡の中
心を対称軸としているのでレーザ発振時の出力や
ビーム形状、ビームモードに与える影響は非常に
小さい。
は光束、８３は吸収された熱の流れを示す。１２
１は等温線で反射鏡の中心を中心とした円を画い
ており局部的な応力の集中は見られないので機械
的強度が高い他、熱変形が発生しても反射鏡の中
心を対称軸としているのでレーザ発振時の出力や
ビーム形状、ビームモードに与える影響は非常に
小さい。
以上のように本考案は、外周に連続した１条〜
数条の溝を有する反射鏡を提供するもので、反射
面を汚染することなく取扱いが容易になり、反射
鏡ホルダへのマウントが容易になり、さらに熱応
力の集中による破損や特性劣化をおこさない等の
利点を有する。
数条の溝を有する反射鏡を提供するもので、反射
面を汚染することなく取扱いが容易になり、反射
鏡ホルダへのマウントが容易になり、さらに熱応
力の集中による破損や特性劣化をおこさない等の
利点を有する。
第１図及び第２図は従来の反射鏡を示す斜視
図、第３図は従来の反射鏡の保持方法を示す斜視
図、第４図ａ，ｂは従来の反射鏡の熱応力状態を
示す図、第５図ａは本考案の一実施例における反
射鏡を示す斜視図、同ｂは同側面図、第６図ａは
本考案の反射鏡の保持方法を示す斜視図、同ｂは
同側面図、第７図は本考案の反射鏡をホルダに保
持した状態を示す断面図、第８図ａ，ｂは本考案
の反射鏡のレーザ発振時の熱応力状態を示す図で
ある。 １……反射面、３……溝、１１……外周面、５
……反射鏡ホルダ、８１……レーザ光線、８２…
…レーザ光束、９２，１２１……等温線。
図、第３図は従来の反射鏡の保持方法を示す斜視
図、第４図ａ，ｂは従来の反射鏡の熱応力状態を
示す図、第５図ａは本考案の一実施例における反
射鏡を示す斜視図、同ｂは同側面図、第６図ａは
本考案の反射鏡の保持方法を示す斜視図、同ｂは
同側面図、第７図は本考案の反射鏡をホルダに保
持した状態を示す断面図、第８図ａ，ｂは本考案
の反射鏡のレーザ発振時の熱応力状態を示す図で
ある。 １……反射面、３……溝、１１……外周面、５
……反射鏡ホルダ、８１……レーザ光線、８２…
…レーザ光束、９２，１２１……等温線。
Claims (1)
- 円形の反射鏡の円周側面に閉環状の１条または
数条の溝を円形反射鏡の軸心に対して対称に形成
したレーザ反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979145499U JPS6334292Y2 (ja) | 1979-10-19 | 1979-10-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979145499U JPS6334292Y2 (ja) | 1979-10-19 | 1979-10-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5663074U JPS5663074U (ja) | 1981-05-27 |
| JPS6334292Y2 true JPS6334292Y2 (ja) | 1988-09-12 |
Family
ID=29376669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1979145499U Expired JPS6334292Y2 (ja) | 1979-10-19 | 1979-10-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6334292Y2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4915251U (ja) * | 1972-05-13 | 1974-02-08 | ||
| DE2331466C3 (de) * | 1973-06-20 | 1981-12-17 | EUBAMA Eugen Bader Maschinenbau KG, 7210 Rottweil | Maschine zur Herstellung von kopflosen Gewindeteilen |
| JPS5747764Y2 (ja) * | 1977-11-21 | 1982-10-20 | ||
| JPS5849645Y2 (ja) * | 1978-01-17 | 1983-11-12 | 株式会社東芝 | レ−ザ用ミラ−マウント |
-
1979
- 1979-10-19 JP JP1979145499U patent/JPS6334292Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5663074U (ja) | 1981-05-27 |
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