JPS633473B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS633473B2 JPS633473B2 JP53045215A JP4521578A JPS633473B2 JP S633473 B2 JPS633473 B2 JP S633473B2 JP 53045215 A JP53045215 A JP 53045215A JP 4521578 A JP4521578 A JP 4521578A JP S633473 B2 JPS633473 B2 JP S633473B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- path
- light laser
- invisible
- processing
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高出力レーザを用いたレーザ加工機等
において非可視光レーザの経路を可視する非可視
光レーザの経路可視装置に関するものである。
において非可視光レーザの経路を可視する非可視
光レーザの経路可視装置に関するものである。
従来、この種の装置としては例えば第１図に示
す如く、加工用の高出力非可視光レーザ（例えば
CO2レーザ）ａの経路に半透明鏡ｂを設け、該半
透明鏡ｂに経路可視用の低出力可視光レーザ（例
えばHe−Neレーザ）ｃを照射して非可視光レー
ザａと可視光レーザｃとを重畳させることにより
非可視光レーザａの経路を可視できるようにした
ものが知られている。ｄはビームダンパである。
す如く、加工用の高出力非可視光レーザ（例えば
CO2レーザ）ａの経路に半透明鏡ｂを設け、該半
透明鏡ｂに経路可視用の低出力可視光レーザ（例
えばHe−Neレーザ）ｃを照射して非可視光レー
ザａと可視光レーザｃとを重畳させることにより
非可視光レーザａの経路を可視できるようにした
ものが知られている。ｄはビームダンパである。
しかし、この構造であると非可視光レーザａ及
び可視光レーザｃの出力LC，LHの1/2（LC2，LH2）
が半透明鏡ｂを通してビームダンパｄに与えられ
るので各レーザａ，ｃの出力の1/2が損失となつ
てしまい効率が悪い、特に、加工用の高出力レー
ザａの出力（光エネルギー）の1/2を失うことは
レーザ加工の効率を低下するとの不具合を有す
る。
び可視光レーザｃの出力LC，LHの1/2（LC2，LH2）
が半透明鏡ｂを通してビームダンパｄに与えられ
るので各レーザａ，ｃの出力の1/2が損失となつ
てしまい効率が悪い、特に、加工用の高出力レー
ザａの出力（光エネルギー）の1/2を失うことは
レーザ加工の効率を低下するとの不具合を有す
る。
また、半透明鏡ｂには常時加工用の高出力非可
視光レーザａが照射されているので、半透明鏡ｂ
が損傷されるとの不具合を有する。
視光レーザａが照射されているので、半透明鏡ｂ
が損傷されるとの不具合を有する。
また、第２図に示す如く加工用の高出力非可視
光レーザａの経路に全反射鏡ｅを回動自在に設
け、該全反射鏡ｅに経路可視用の低出力可視光レ
ーザｃを照射して全反射鏡ｅを経路を横切る位置
（実線位置）に回動した時に可視光レーザｃが全
反射鏡ｅに反射されて非可視光レーザ経路と同軸
に照射されるようにしたものが知られている。
光レーザａの経路に全反射鏡ｅを回動自在に設
け、該全反射鏡ｅに経路可視用の低出力可視光レ
ーザｃを照射して全反射鏡ｅを経路を横切る位置
（実線位置）に回動した時に可視光レーザｃが全
反射鏡ｅに反射されて非可視光レーザ経路と同軸
に照射されるようにしたものが知られている。
しかし、この構造であると全反射鏡ｅを横切る
位置とすると非可視光レーザａはビームダンパｄ
に全て反射されるので、非可視光レーザａでレー
ザ加工している時にはその経路を可視することが
できないから安全性、作業性の面で不利であると
の不具合を有している。
位置とすると非可視光レーザａはビームダンパｄ
に全て反射されるので、非可視光レーザａでレー
ザ加工している時にはその経路を可視することが
できないから安全性、作業性の面で不利であると
の不具合を有している。
本発明は上記の事情に鑑みなされたものであ
り、その目的は非可視光レーザをレーザ加工時に
おいても可視できると共に、非可視光レーザの出
力損失を著しく減少してレーザ加工効率を向上で
きるようにした非可視光レーザの経路可視装置を
提供することである。
り、その目的は非可視光レーザをレーザ加工時に
おいても可視できると共に、非可視光レーザの出
力損失を著しく減少してレーザ加工効率を向上で
きるようにした非可視光レーザの経路可視装置を
提供することである。
以下第３図以降を参照して本発明の実施例を説
明する。
明する。
加工用レーザ発生装置１から発生される加工用
の高出力非可視光レーザ２の経路には回転動され
るチヨツパー３の一部が臨まさせてある。
の高出力非可視光レーザ２の経路には回転動され
るチヨツパー３の一部が臨まさせてある。
該チヨツパー３は軸４に固設されたボス部５に
複数の巾狭なる反射部材６を放射状に固設すると
共に、各反射部材６の外周側を環体７に固設した
構造であり、Cu、Al等熱伝導性に優れた材料に
より形成してあると共に、反射部材６の回転方向
と直交する両面は平行かつ反射面となるように表
面加工してある。
複数の巾狭なる反射部材６を放射状に固設すると
共に、各反射部材６の外周側を環体７に固設した
構造であり、Cu、Al等熱伝導性に優れた材料に
より形成してあると共に、反射部材６の回転方向
と直交する両面は平行かつ反射面となるように表
面加工してある。
前記軸４は図示しない固定体に回転自在で非可
視光レーザ２の経路に対して45度の角度をもつて
支承され、該軸４はプーリ８、ベルト９を介して
モータ１０の出力軸１１に設けたプーリ１２に伝
動してある。
視光レーザ２の経路に対して45度の角度をもつて
支承され、該軸４はプーリ８、ベルト９を介して
モータ１０の出力軸１１に設けたプーリ１２に伝
動してある。
１３は可視光レーザ発生装置であり、その可視
光レーザ１４はコリメータ１５に送られて巾が拡
大された後に前記チヨツパー３の反射部材６の裏
面６ａに向けて照射され、その反射光は非可視光
レーザ２のチヨツパー３を透過した径路と一致す
るように構成してある。
光レーザ１４はコリメータ１５に送られて巾が拡
大された後に前記チヨツパー３の反射部材６の裏
面６ａに向けて照射され、その反射光は非可視光
レーザ２のチヨツパー３を透過した径路と一致す
るように構成してある。
１６はパワーメータであり、前記チヨツパー３
の反射部材６の表面６ｂと対向している。
の反射部材６の表面６ｂと対向している。
次に作動を説明する。
モータ１０を駆動してチヨツパー３を回転させ
ると、その反射部材６は間歇的に非可視光レーザ
２の経路内に臨む。
ると、その反射部材６は間歇的に非可視光レーザ
２の経路内に臨む。
反射部材６が非可視光レーザ２の経路内に臨む
と非可視光レーザ２の一部が反射部材６の表面６
ｂに照射反射されてパワーメータ１６に達する。
と非可視光レーザ２の一部が反射部材６の表面６
ｂに照射反射されてパワーメータ１６に達する。
これによりレーザ加工時においても非可視光レ
ーザ２の出力を検知できる。
ーザ２の出力を検知できる。
また、反射部材６が非可視光レーザ２の径路内
に臨み可視光レーザ１４がその裏面６ａに照射反
射されると、その反射した可視光レーザ１４は非
可視光レーザ２のチヨツパー３を透過した経路と
一致し非可視光レーザ２と重畳される。
に臨み可視光レーザ１４がその裏面６ａに照射反
射されると、その反射した可視光レーザ１４は非
可視光レーザ２のチヨツパー３を透過した経路と
一致し非可視光レーザ２と重畳される。
これによりレーザ加工時においても非可視光レ
ーザ２の経路を可視できる。
ーザ２の経路を可視できる。
また、反射部材６は非可視光レーザ２の光束径
よりも著しく狭くなつていると共に、チヨツパー
３を回転させることにより間歇的に非可視光レー
ザ２内に臨むのでパワーメータ１６に反射される
非可視光レーザ２は極く少量となるので、非可視
光レーザ２の損失となる出力は極く小さくレーザ
加工の効率を低下させることはほとんどない。
よりも著しく狭くなつていると共に、チヨツパー
３を回転させることにより間歇的に非可視光レー
ザ２内に臨むのでパワーメータ１６に反射される
非可視光レーザ２は極く少量となるので、非可視
光レーザ２の損失となる出力は極く小さくレーザ
加工の効率を低下させることはほとんどない。
また、可視光レーザ１４はコリメータ１５によ
りその光束径が非可視光レーザ２の光束径と一致
するように拡大されているので、各種オプテイカ
ルアクセサリーで加工用の非可視光レーザを光学
処理した後もその大きさ、位置が明確となる。
りその光束径が非可視光レーザ２の光束径と一致
するように拡大されているので、各種オプテイカ
ルアクセサリーで加工用の非可視光レーザを光学
処理した後もその大きさ、位置が明確となる。
なお、以上の実施例において非可視光レーザ２
はCO2レーザであり、可視光レーザ１４はHe−
Neレーザであると共に、可視光レーザ１４は出
力は小さくとも輝度は十分あるため可視光レーザ
１４を常時出し続けても良い。
はCO2レーザであり、可視光レーザ１４はHe−
Neレーザであると共に、可視光レーザ１４は出
力は小さくとも輝度は十分あるため可視光レーザ
１４を常時出し続けても良い。
本発明は以上の様になり、モータ１０により軸
４を回転することで巾狭なる反射部材６が高出力
非可視光レーザ２の経路に間歇的に臨み、その表
面６ｂより高出力非可視光レーザ２の一部をパワ
ーメータ１６に反射し、かつ裏面６ａより可視光
レーザが高出力非可視光レーザ２の経路に反射さ
れて非可視光レーザと可視光レーザとが重畳して
出力されるので、非可視光レーザの経路をレーザ
加工時において可視できると共に、高出力非可視
光レーザの一部のみがパワーメータ１６に反射さ
れて残りの部分は加工部に向けて照射されるので
高出力非可視光レーザの出力の損失を著しく減少
できてレーザ加工効率を向上でき、しかも高出力
非可視光レーザの出力をパワーメータ１６で測定
できる。
４を回転することで巾狭なる反射部材６が高出力
非可視光レーザ２の経路に間歇的に臨み、その表
面６ｂより高出力非可視光レーザ２の一部をパワ
ーメータ１６に反射し、かつ裏面６ａより可視光
レーザが高出力非可視光レーザ２の経路に反射さ
れて非可視光レーザと可視光レーザとが重畳して
出力されるので、非可視光レーザの経路をレーザ
加工時において可視できると共に、高出力非可視
光レーザの一部のみがパワーメータ１６に反射さ
れて残りの部分は加工部に向けて照射されるので
高出力非可視光レーザの出力の損失を著しく減少
できてレーザ加工効率を向上でき、しかも高出力
非可視光レーザの出力をパワーメータ１６で測定
できる。
また、モータ１０により軸４を回転させること
で反射部材６を連続して回転させるだけであり、
その制御も極めて容易となる。
で反射部材６を連続して回転させるだけであり、
その制御も極めて容易となる。
第１図、第２図はそれぞれ異なる従来例の説明
図、第３図は本発明の実施例を示す全体構成説明
図、第４図はチヨツパーの平面図、第５図はその
作動説明図である。 ２は非可視光レーザ、６は反射部材、１４は可
視光レーザ。
図、第３図は本発明の実施例を示す全体構成説明
図、第４図はチヨツパーの平面図、第５図はその
作動説明図である。 ２は非可視光レーザ、６は反射部材、１４は可
視光レーザ。
Claims (1)
- １ 加工用レーザ発生装置１から発生される加工
用の高出力非可視光レーザ２の経路に、軸４に巾
狭なる反射部材６を放射状に複数取付けたチヨツ
パー３を、その軸４が高出力非可視光レーザ２の
経路と45度を角度となるように配設し、その軸４
をモータ１０に連結すると共に、前記反射部材６
の加工用レーザ発生装置１と対向する表面６ａと
対向してパワーメータ１６を配設し、前記反射部
材６の裏面６ｂと対向して可視光レーザー発生装
置１３を配設したことを特徴とする非可視光レー
ザの経路可視装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4521578A JPS54137997A (en) | 1978-04-19 | 1978-04-19 | Device for visualizing invisible light laser path |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4521578A JPS54137997A (en) | 1978-04-19 | 1978-04-19 | Device for visualizing invisible light laser path |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54137997A JPS54137997A (en) | 1979-10-26 |
| JPS633473B2 true JPS633473B2 (ja) | 1988-01-23 |
Family
ID=12713036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4521578A Granted JPS54137997A (en) | 1978-04-19 | 1978-04-19 | Device for visualizing invisible light laser path |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54137997A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51146977U (ja) * | 1975-05-20 | 1976-11-25 |
-
1978
- 1978-04-19 JP JP4521578A patent/JPS54137997A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54137997A (en) | 1979-10-26 |
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