JPS6334963B2 - - Google Patents
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- JPS6334963B2 JPS6334963B2 JP6622581A JP6622581A JPS6334963B2 JP S6334963 B2 JPS6334963 B2 JP S6334963B2 JP 6622581 A JP6622581 A JP 6622581A JP 6622581 A JP6622581 A JP 6622581A JP S6334963 B2 JPS6334963 B2 JP S6334963B2
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- Japan
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 10
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 8
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/026—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring distance between sensor and object
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、コヒーレント光を用いた測長方法
とその装置に関する。
とその装置に関する。
従来よりコヒーレント(レーザー)光を測長用
プローブに用いる技術は種々存在した。例えば第
1図に示すように、図示しないレーザー光源から
の平行レーザービームをレンズ3にて絞り、物体
4の表面の反射光を同一レンズ3で受け、結像点
fの前後に配置された2つのピンホール5,6を
通過した反射光を受光器1,2で受けてその光電
出力を差動増幅し、その出力の正負により合焦点
状態を検知するもの、或は、図示しないが、結像
点上に光軸方向に振動するピンホールを配置し、
ピンホール通過後の光電出力信号の位相を検出し
て合焦点状態を検知するもの、或は平行レーザー
ビームを光軸方向に振動するレンズで絞り、焦点
距離を変調し、その時の物体からの反射光の光電
出力信号の位相差で合焦点状態を検出するもの、
或はレーザー光の直進性を利用して幾何学的な配
置関係から距離を測定するもの等々がある。
プローブに用いる技術は種々存在した。例えば第
1図に示すように、図示しないレーザー光源から
の平行レーザービームをレンズ3にて絞り、物体
4の表面の反射光を同一レンズ3で受け、結像点
fの前後に配置された2つのピンホール5,6を
通過した反射光を受光器1,2で受けてその光電
出力を差動増幅し、その出力の正負により合焦点
状態を検知するもの、或は、図示しないが、結像
点上に光軸方向に振動するピンホールを配置し、
ピンホール通過後の光電出力信号の位相を検出し
て合焦点状態を検知するもの、或は平行レーザー
ビームを光軸方向に振動するレンズで絞り、焦点
距離を変調し、その時の物体からの反射光の光電
出力信号の位相差で合焦点状態を検出するもの、
或はレーザー光の直進性を利用して幾何学的な配
置関係から距離を測定するもの等々がある。
しかしこれらの技術を、加工された金属面等の
ように、反射率が高く、波長と同程度(0.1μm〜
1.0μm)の粗さ(凹凸)が、ある程度の規則性を
もつて並んでいるような物体表面に適用した場
合、干渉性のランダムなレーザー・スペツクル・
パターンと呼ばれる明暗模様が形成され、前記の
ような測定系においては雑音として作用し、測
長、位置決め精度の低下の主要因となる。
ように、反射率が高く、波長と同程度(0.1μm〜
1.0μm)の粗さ(凹凸)が、ある程度の規則性を
もつて並んでいるような物体表面に適用した場
合、干渉性のランダムなレーザー・スペツクル・
パターンと呼ばれる明暗模様が形成され、前記の
ような測定系においては雑音として作用し、測
長、位置決め精度の低下の主要因となる。
この発明は、コヒーレント光と加工金属表面と
の相互作用の結果、生ずるレーザー・スペツク
ル・パターンを積極的に利用し、被測定物表面の
反射率、表面状態に依存しない安定かつ高精度な
測長、或は形状測定を非接触にて行う光プローブ
システムを提供することを目的とするものであ
る。
の相互作用の結果、生ずるレーザー・スペツク
ル・パターンを積極的に利用し、被測定物表面の
反射率、表面状態に依存しない安定かつ高精度な
測長、或は形状測定を非接触にて行う光プローブ
システムを提供することを目的とするものであ
る。
一般に、第2図a,bに示すような構成におい
て、レーザー光をレンズLで収束させた収束ガウ
ス・ビームを拡散性の半透膜Mに照射した場合、
その後方散乱光は、拡散性半透膜Mの表面状態に
依存するスペツクル・パターンを含んでいる。い
ま、拡散性半透膜Mが光軸と垂直な面内で図中矢
符aに示すように一方向に移動する場合、拡散性
半透膜Mとビーム・ウエストω(ビーム半径最小
の点)との間の位置関係に依存して、後方の観測
面Sにおける移動方向が異なる。すなわち第2図
aにおいては、拡散性半透膜Mと同方向aに、第
2図bにおいては、拡散性半透膜Mと逆方向bに
移動する。
て、レーザー光をレンズLで収束させた収束ガウ
ス・ビームを拡散性の半透膜Mに照射した場合、
その後方散乱光は、拡散性半透膜Mの表面状態に
依存するスペツクル・パターンを含んでいる。い
ま、拡散性半透膜Mが光軸と垂直な面内で図中矢
符aに示すように一方向に移動する場合、拡散性
半透膜Mとビーム・ウエストω(ビーム半径最小
の点)との間の位置関係に依存して、後方の観測
面Sにおける移動方向が異なる。すなわち第2図
aにおいては、拡散性半透膜Mと同方向aに、第
2図bにおいては、拡散性半透膜Mと逆方向bに
移動する。
拡散性半透膜Mとビーム・ウエストω0間の距
離が余り近くなければ、スペツクル・パターンは
ほぼ同形を保ちながら平行移動を行う
(translation領域)。前記距離が非常に小さくな
ると、スペツクル・パターンの平行移動が認めら
れず、スペツクル・パターンは完全に形を変え、
湧き出し、吸い込み運動が支配的になる範囲
(boiling領域)が存在する。この領域の大きさ
は、a=πω0 2/λに依存する。ここでλは使用
されるレーザー光の波長、ω0はガウスビームを
レンズで絞つたときの最小ビーム径である。
離が余り近くなければ、スペツクル・パターンは
ほぼ同形を保ちながら平行移動を行う
(translation領域)。前記距離が非常に小さくな
ると、スペツクル・パターンの平行移動が認めら
れず、スペツクル・パターンは完全に形を変え、
湧き出し、吸い込み運動が支配的になる範囲
(boiling領域)が存在する。この領域の大きさ
は、a=πω0 2/λに依存する。ここでλは使用
されるレーザー光の波長、ω0はガウスビームを
レンズで絞つたときの最小ビーム径である。
以上はすでに知られている事実であるが、被測
定面が反射面の場合にも全く同じ現象を観測する
ことができる。
定面が反射面の場合にも全く同じ現象を観測する
ことができる。
この発明では被測定面が移動するのではなく、
特殊の構成とした光学系によつて、収束ガウス・
ビームを、焦点面上で、光軸に垂直の方向に微小
量だけ移動させて被測定面に照射する。このよう
な照射条件で、被測定面の一点から反射する反射
光中に含まれるスペツクル・パターンの移動方向
と、ビーム・ウエストの移動方向との関係を把握
して、被測定面とビーム・ウエストとの間の位置
関係を知る。すなわちスペツクル・パターンとビ
ーム・ウエストの移動方向の反転を検知し、この
状態を合焦点状態と見倣す。
特殊の構成とした光学系によつて、収束ガウス・
ビームを、焦点面上で、光軸に垂直の方向に微小
量だけ移動させて被測定面に照射する。このよう
な照射条件で、被測定面の一点から反射する反射
光中に含まれるスペツクル・パターンの移動方向
と、ビーム・ウエストの移動方向との関係を把握
して、被測定面とビーム・ウエストとの間の位置
関係を知る。すなわちスペツクル・パターンとビ
ーム・ウエストの移動方向の反転を検知し、この
状態を合焦点状態と見倣す。
光学系全体を、サーボ機構に搭載し、光軸方向
に移動可能に構成し、前記移動方向の情報をサー
ボ機構にフイードバツクして、常に合焦点状態に
なるように駆動する、その移動量を、例えばリニ
アスケール等にて計測し、測長を行う。また2次
元、或は3次元駆動装置を採用することにより、
物体の形状測定を行うこともできる。なおこの発
明は、ビーム・ウエストを移動させる代りに被測
定面を移動させてもよく、被測定面が透過面であ
つてもこの発明を適用することができる。
に移動可能に構成し、前記移動方向の情報をサー
ボ機構にフイードバツクして、常に合焦点状態に
なるように駆動する、その移動量を、例えばリニ
アスケール等にて計測し、測長を行う。また2次
元、或は3次元駆動装置を採用することにより、
物体の形状測定を行うこともできる。なおこの発
明は、ビーム・ウエストを移動させる代りに被測
定面を移動させてもよく、被測定面が透過面であ
つてもこの発明を適用することができる。
以下この発明を具体化した実施例について説明
する。第3図は以上の原理に基づいた半導体レー
ザー光による測長装置を示すブロツク図である。
する。第3図は以上の原理に基づいた半導体レー
ザー光による測長装置を示すブロツク図である。
光軸方向に移動可能とした移動台10上に、半
導体レーザー11、コンデンサレンズ12、対物
レンズ13を設け、レンズ12,13間の光軸上
に、ビーム・ウエスト位置を光軸に垂直な面内で
移動させるための音響光学偏向素子14と、反射
光の一部を光軸と直角方向に反射するビーム・ス
プリツター17とを設け、ビーム・スプリツター
17の反射光軸上に、結像レンズ18と1次元固
体イメージセンサー19を設けて、これらを移動
台10上に配置する。
導体レーザー11、コンデンサレンズ12、対物
レンズ13を設け、レンズ12,13間の光軸上
に、ビーム・ウエスト位置を光軸に垂直な面内で
移動させるための音響光学偏向素子14と、反射
光の一部を光軸と直角方向に反射するビーム・ス
プリツター17とを設け、ビーム・スプリツター
17の反射光軸上に、結像レンズ18と1次元固
体イメージセンサー19を設けて、これらを移動
台10上に配置する。
0.8μm帯の発振波長、基本モードをもつ半導体
レーザー11を出たコヒーレント光は、コンデン
サレンズ12を経て収束発散し、再び対物レンズ
13にて絞られ、ビーム・ウエストを対物レンズ
13の前方に持つ収束ガウス・ビームとなる。信
号発生器15で作られた信号を、増幅器16にて
増幅、変調し、音響光学偏向素子14を駆動す
る。
レーザー11を出たコヒーレント光は、コンデン
サレンズ12を経て収束発散し、再び対物レンズ
13にて絞られ、ビーム・ウエストを対物レンズ
13の前方に持つ収束ガウス・ビームとなる。信
号発生器15で作られた信号を、増幅器16にて
増幅、変調し、音響光学偏向素子14を駆動す
る。
対物レンズ13を出た収束ガウス・ビームは、
被測定面(図示せず)で反射し、スペツクル・パ
ターンを含む反射光が再びレンズ13にて集光さ
れ、ビーム・スプリツター17、結像レンズ18
にて1次元固体イメージセンサー19上に結像す
る。
被測定面(図示せず)で反射し、スペツクル・パ
ターンを含む反射光が再びレンズ13にて集光さ
れ、ビーム・スプリツター17、結像レンズ18
にて1次元固体イメージセンサー19上に結像す
る。
1次元固体イメージセンサー19の素子配列方
向は、予め、スペツクル・パターンの移動方向と
平行になるように調節してあつて、スペツクル・
パターンの移動方向は、1次元固体イメージセン
サー19から出るビデオ信号の位相進み又は遅れ
として信号処理電子回路20に弁別され、被測定
面とビーム・ウエスト間の位置関係を判断する。
そして該電子回路20の出力をサーボモーター駆
動回路21に入力して、移動台10を光軸方向に
駆動するためのサーボモータ22を信号処理電子
回路20の判断結果に従つて駆動し、移動台10
を前進又は後退させる。23は半導体レーザー1
1に印加する定電圧電源である。
向は、予め、スペツクル・パターンの移動方向と
平行になるように調節してあつて、スペツクル・
パターンの移動方向は、1次元固体イメージセン
サー19から出るビデオ信号の位相進み又は遅れ
として信号処理電子回路20に弁別され、被測定
面とビーム・ウエスト間の位置関係を判断する。
そして該電子回路20の出力をサーボモーター駆
動回路21に入力して、移動台10を光軸方向に
駆動するためのサーボモータ22を信号処理電子
回路20の判断結果に従つて駆動し、移動台10
を前進又は後退させる。23は半導体レーザー1
1に印加する定電圧電源である。
スペツクル・パターンの移動方向と、1次元固
体イメージセンサー19からのビデオ信号の位相
の進み、遅れの関係を、第4図a,b、第5図
a,b、第6図a,b、第7図a,b、第8図
a,bに示す。
体イメージセンサー19からのビデオ信号の位相
の進み、遅れの関係を、第4図a,b、第5図
a,b、第6図a,b、第7図a,b、第8図
a,bに示す。
半導体レーザー11からのコヒーレント光を前
記各レンズ12,13により収束ガウス・ビーム
として被測定面Aに照射した場合、その反射光は
干渉しあい、ランダムなスペツクル・パターンと
呼ばれる明暗模様となることは既述の通りであ
り、1次元固体イメージセンサー19に結像する
光に、第5図a,bに示す如き暗部S1,S2…が含
まれている。
記各レンズ12,13により収束ガウス・ビーム
として被測定面Aに照射した場合、その反射光は
干渉しあい、ランダムなスペツクル・パターンと
呼ばれる明暗模様となることは既述の通りであ
り、1次元固体イメージセンサー19に結像する
光に、第5図a,bに示す如き暗部S1,S2…が含
まれている。
いまビーム・ウエストωと被測定面Aとの位置
関係が第4図aの如く合焦点状態近傍であるとし
て、音響光学偏向素子(第3図)により、ビー
ム・ウエストωの位置を光軸に垂直な面内で
ω′の位置に移動させると、反射光R.Lが結像する
1次元固体イメージセンサー19上の結像面で、
スペツクル・パターンが第5図aからbに示すよ
うに矢符a方向に移動する。すなわち1次元固体
イメージセンサー19からのビデオ信号に、横軸
に時間t、縦軸に明暗をとつた第6図aからbに
示す如き位相の遅れが生じる。
関係が第4図aの如く合焦点状態近傍であるとし
て、音響光学偏向素子(第3図)により、ビー
ム・ウエストωの位置を光軸に垂直な面内で
ω′の位置に移動させると、反射光R.Lが結像する
1次元固体イメージセンサー19上の結像面で、
スペツクル・パターンが第5図aからbに示すよ
うに矢符a方向に移動する。すなわち1次元固体
イメージセンサー19からのビデオ信号に、横軸
に時間t、縦軸に明暗をとつた第6図aからbに
示す如き位相の遅れが生じる。
一方、ビーム・ウエストωと被測定面Aとの位
置関係が第4図bとなるように移動台10(第3
図)を送り基本単位ステツプlだけ光軸方向に移
動させ、同様にビーム・ウエストωをω位置から
ω′位置に移動させると、スペツクル・パターン
は、第7図aからbに示すように結像面上で矢符
b方向に移動する。すなわち1次元固体イメージ
センサー19からのビデオ信号に、第8図aから
bに示す如き位相の進みが生じる。
置関係が第4図bとなるように移動台10(第3
図)を送り基本単位ステツプlだけ光軸方向に移
動させ、同様にビーム・ウエストωをω位置から
ω′位置に移動させると、スペツクル・パターン
は、第7図aからbに示すように結像面上で矢符
b方向に移動する。すなわち1次元固体イメージ
センサー19からのビデオ信号に、第8図aから
bに示す如き位相の進みが生じる。
要するに、移動台10を送り基本単位ステツプ
lだけ移動させることにより、スペツクル・パタ
ーンによるビデオ信号の位相が反転する。図にお
いてS.P.はビデオ・スイープ・スタート、E.P.は
ビデオ・スイープ・エンドを示す。
lだけ移動させることにより、スペツクル・パタ
ーンによるビデオ信号の位相が反転する。図にお
いてS.P.はビデオ・スイープ・スタート、E.P.は
ビデオ・スイープ・エンドを示す。
このように、移動台10の送り基本単位ステツ
プlだけの移動で、スペツクル・パターンの位相
が反転するとき、この送り基本単位ステツプlの
範囲中に合焦点状態が含まれているとする。従つ
て、送り基本単位ステツプlの送り量を、必要測
定精度によつて決めてやればよい。そして必要測
定精度により、a1点(=1/2l)、a2点あるいはa3 点を合焦点位置と見倣せばよく、これにより基準
位置Pに対する距離L1,L2,L3を測定すること
ができる。
プlだけの移動で、スペツクル・パターンの位相
が反転するとき、この送り基本単位ステツプlの
範囲中に合焦点状態が含まれているとする。従つ
て、送り基本単位ステツプlの送り量を、必要測
定精度によつて決めてやればよい。そして必要測
定精度により、a1点(=1/2l)、a2点あるいはa3 点を合焦点位置と見倣せばよく、これにより基準
位置Pに対する距離L1,L2,L3を測定すること
ができる。
また移動台10の移動を、光軸方向だけでな
く、2次元、3次元方向に移動させることによ
り、前記の測長のみに止まらず、物体の形状測定
を行うことが可能である。
く、2次元、3次元方向に移動させることによ
り、前記の測長のみに止まらず、物体の形状測定
を行うことが可能である。
この発明は以上のように、反射面である金属の
加工表面の測長又は形状測定において、点状の非
接触光プローブで、高精度、且つ安定したミクロ
ン・オーダーの測定を行うことができ、しかもそ
の操作が簡便である特徴を有する。
加工表面の測長又は形状測定において、点状の非
接触光プローブで、高精度、且つ安定したミクロ
ン・オーダーの測定を行うことができ、しかもそ
の操作が簡便である特徴を有する。
第1図は従来方法の一例を示す図、第2図a,
bはレーザー光を収束ガウス・ビームとしたとき
のビーム・ウエストと拡散半透膜との間の位置関
係による特性の説明図、第3図はこの発明の装置
の一例を示すブロツク図、第4図a,bはビーム
ウエストと被測定面との位置関係を示す説明図、
第5図a,bと第7図a,bはそれぞれスペツク
ル・パターンの移動を示す説明図、第6図a,b
と第8図a,bはそれぞれビデオ信号の位相の遅
れ・進みを示す説明図である。 10……移動台、11……半導体レーザー、1
2……コンデンサレンズ、13……対物レンズ、
14……音響光学偏向素子、15……信号発生
器、17……ビーム・スプリツター、18……結
像レンズ、19……1次元固体イメージセンサ
ー、20……信号処理電子回路、21……サーボ
モーター駆動回路、22……サーボモーター、
ω,ω′……ビーム・ウエスト、A……被測定面、
R.L……反射光、S1,S2,S3,S3′……スペツク
ル・パターンの暗部。
bはレーザー光を収束ガウス・ビームとしたとき
のビーム・ウエストと拡散半透膜との間の位置関
係による特性の説明図、第3図はこの発明の装置
の一例を示すブロツク図、第4図a,bはビーム
ウエストと被測定面との位置関係を示す説明図、
第5図a,bと第7図a,bはそれぞれスペツク
ル・パターンの移動を示す説明図、第6図a,b
と第8図a,bはそれぞれビデオ信号の位相の遅
れ・進みを示す説明図である。 10……移動台、11……半導体レーザー、1
2……コンデンサレンズ、13……対物レンズ、
14……音響光学偏向素子、15……信号発生
器、17……ビーム・スプリツター、18……結
像レンズ、19……1次元固体イメージセンサ
ー、20……信号処理電子回路、21……サーボ
モーター駆動回路、22……サーボモーター、
ω,ω′……ビーム・ウエスト、A……被測定面、
R.L……反射光、S1,S2,S3,S3′……スペツク
ル・パターンの暗部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 コヒーレント(レーザー)光を照射する反射
面、透過面等の反射光、透過光中に、スペツク
ル・パターンが形成されるような被測定面の測
長、形状測定等を行う測長方法において、 収束レーザー・ビームのビーム・ウエスト又は
被測定面を光軸に垂直な面内で移動させ、 その移動方向と、スペツクル・パターンの移動
方向とにより、ビーム・ウエストと被測定面との
位置関係を判定し、 その位置関係が予め定めた範囲にあるときを合
焦点状態と見倣して、被測定面とビーム・ウエス
トとが合焦点状態になるように光学系を光軸方向
に駆動して、 その移動距離により測長、形状測定を行うこと
を特徴とする測長方法。 2 コヒーレント光の収束レーザー・ビームで被
測定面を照射すると共に、そのビーム・ウエスト
を光軸に垂直な面内で移動させる手段を備えた光
学系と、 前記被測定面からの反射光を結像面に結像させ
る受光光学系と、 前記結像面に結像する反射光のスペツクル・パ
ターンを検出してビデオ信号とする手段と、 該手段のビデオ信号の位相の進み、遅れを検出
する信号処理電子回路と、 該信号処理電子回路の信号により光学系全体を
光軸方向に駆動し、ビーム・ウエストと被測定面
との位置関係を常に合焦点状態とするサーボ機構
と、 該サーボ機構による光学系の光軸方向の移動量
により、被測定面の測長、形状測定を行う移動距
離測定手段とを備えたことを特徴とする測長装
置。 3 ビーム・ウエストを光軸に垂直な面内で移動
させる手段が、信号発生器と、その信号で駆動さ
れる音響光学偏向素子とからなる特許請求の範囲
2記載の測長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6622581A JPS57179704A (en) | 1981-04-30 | 1981-04-30 | Method and device for measuring length |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6622581A JPS57179704A (en) | 1981-04-30 | 1981-04-30 | Method and device for measuring length |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57179704A JPS57179704A (en) | 1982-11-05 |
| JPS6334963B2 true JPS6334963B2 (ja) | 1988-07-13 |
Family
ID=13309674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6622581A Granted JPS57179704A (en) | 1981-04-30 | 1981-04-30 | Method and device for measuring length |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57179704A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07107481B2 (ja) * | 1987-05-21 | 1995-11-15 | アンリツ株式会社 | 変位測定装置 |
| JP2668937B2 (ja) * | 1988-05-16 | 1997-10-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 位置指定装置 |
| JP2529049B2 (ja) * | 1991-10-30 | 1996-08-28 | 株式会社ミツトヨ | 光学式変位計 |
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-
1981
- 1981-04-30 JP JP6622581A patent/JPS57179704A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57179704A (en) | 1982-11-05 |
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