JPS6335794A - 板状加工品の電気めつき装置 - Google Patents
板状加工品の電気めつき装置Info
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- JPS6335794A JPS6335794A JP62185349A JP18534987A JPS6335794A JP S6335794 A JPS6335794 A JP S6335794A JP 62185349 A JP62185349 A JP 62185349A JP 18534987 A JP18534987 A JP 18534987A JP S6335794 A JPS6335794 A JP S6335794A
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- clamp
- workpiece
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/24—Reinforcing of the conductive pattern
- H05K3/241—Reinforcing of the conductive pattern characterised by the electroplating method; means therefor, e.g. baths or apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/005—Contacting devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D17/06—Suspending or supporting devices for articles to be coated
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、水平に通過中に処理すべき板状加工品、例
えばプリント配線基板のための電気めっき装置に関する
。
えばプリント配線基板のための電気めっき装置に関する
。
[従来の技術]
電解液の中に配置された少なくとも一つの陽極と、水平
に移動する加工品を陰極へ接触させるために脇に配置さ
れた少なくとも一つの接触装置とを備えた電気めっき装
置は、ドイツ連邦共和国特許出願公開第3238545
号明細書により知られている。そこに記載された装置で
は板状加工品は電解液の中を水平に導かれる。加工品の
送りは駆動された複数の接触軸を介して行われ、これら
の接触軸は、処理室の一側に配置されて同時に加工品の
陰極への接触のための接触装置としても働く。
に移動する加工品を陰極へ接触させるために脇に配置さ
れた少なくとも一つの接触装置とを備えた電気めっき装
置は、ドイツ連邦共和国特許出願公開第3238545
号明細書により知られている。そこに記載された装置で
は板状加工品は電解液の中を水平に導かれる。加工品の
送りは駆動された複数の接触軸を介して行われ、これら
の接触軸は、処理室の一側に配置されて同時に加工品の
陰極への接触のための接触装置としても働く。
電解液から接触軸を守るために、移動方向に延びる遮蔽
体が各加工品に接触する封止帯板を備えている。処理室
の接触軸と反対の側では、加工品の案内兼支持のために
特別の固定案内具が配置されている。
体が各加工品に接触する封止帯板を備えている。処理室
の接触軸と反対の側では、加工品の案内兼支持のために
特別の固定案内具が配置されている。
前記の電気めっき装置ではパツキンを使用しても、加工
品の側縁の接触範囲及び接触軸への電解液の侵入を完全
には防止できない、この不完全な封1Fの結果として、
接触範囲におけるスポンジ状の金属析出、転がり接触の
速やかな劣化及び電解析出された金属層の不都合な層厚
さ分布つまり層厚さの著しいばらつきを招く。
品の側縁の接触範囲及び接触軸への電解液の侵入を完全
には防止できない、この不完全な封1Fの結果として、
接触範囲におけるスポンジ状の金属析出、転がり接触の
速やかな劣化及び電解析出された金属層の不都合な層厚
さ分布つまり層厚さの著しいばらつきを招く。
[発明が解決しようとする問題点]
この発明は、前記の種類の電気めっき装置において加工
品の陰極接触を改善することを目的とする。
品の陰極接触を改善することを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
この目的はこの発明に基づき、接触装置が加工品と共に
その脇を走行可能なかん子状の接触クランプにより形成
されていることにより達成される。
その脇を走行可能なかん子状の接触クランプにより形成
されていることにより達成される。
この発明は、転がり接触もすり接触も電解液との接触に
対して特に敏感であり、締め付は接触はこの観点ではる
かに困難が少ない、という知見に基づいている。しかし
加工品の締め付は接触をかん子状の接触クランプにより
実現でさるためには、この接触クランプはそれぞれ通過
する加工品に同期して走行しなければならない。接触ク
ランプの必要な走行可能性にもかかわらず、接触クラン
プへの陰極’、ttI&の供給は問題を生じない、なぜ
ならば相応の接触部は電解液の侵入及びその他の不利な
影響から守られた範囲にJ装置できるからである。
対して特に敏感であり、締め付は接触はこの観点ではる
かに困難が少ない、という知見に基づいている。しかし
加工品の締め付は接触をかん子状の接触クランプにより
実現でさるためには、この接触クランプはそれぞれ通過
する加工品に同期して走行しなければならない。接触ク
ランプの必要な走行可能性にもかかわらず、接触クラン
プへの陰極’、ttI&の供給は問題を生じない、なぜ
ならば相応の接触部は電解液の侵入及びその他の不利な
影響から守られた範囲にJ装置できるからである。
移動する加工品の接触の一層の数片は、相互に間隔を置
いて加工品と共にその脇を走行可能な複数の接触クラン
プが設けられていることにより達成できる。更に複数の
箇所での接触は、特に比較的薄い銅張りを備えたプリン
ト配線基板の場合に、層厚さ分布の著しい改りをもたら
す、それ故に通過軌道の両側に加工品と共に走行可能な
接触クランプが設けられているときには特に有利である
。
いて加工品と共にその脇を走行可能な複数の接触クラン
プが設けられていることにより達成できる。更に複数の
箇所での接触は、特に比較的薄い銅張りを備えたプリン
ト配線基板の場合に、層厚さ分布の著しい改りをもたら
す、それ故に通過軌道の両側に加工品と共に走行可能な
接触クランプが設けられているときには特に有利である
。
この発明の特に有利な実施態様によれば、通過軌道の少
なくとも一側に、かん子状の接触クランプの走行可能な
支持体として、少なくとも一つのエンドレス伝動装置が
配置される。所要面桔が少ないことにより電気めっき装
置の中に収容するのに特に適しているかかるエンドレス
伝動装置は、かんT状の接触クランプの必要な可動性を
容易に保証する。
なくとも一側に、かん子状の接触クランプの走行可能な
支持体として、少なくとも一つのエンドレス伝動装置が
配置される。所要面桔が少ないことにより電気めっき装
置の中に収容するのに特に適しているかかるエンドレス
伝動装置は、かんT状の接触クランプの必要な可動性を
容易に保証する。
エンドレス伝動装置としてチェーンを用いることができ
る。しかしながら耐食性及び可とう性の観点から、エン
ドレス伝動装置が少なくとも一つの歯付きベルトにより
構成されているときには著しい長所が得られる。この場
合には接触クランプの上側のクランプあごに上側の歯付
きベルトが従属し、接触クランプの下側のクランプあご
に下側の歯付きベルトが従属していることもまた可能で
ある。そのとき上側の歯付きベルトと下側の歯付きベル
トへの力)かる分;13は、クランプあご′への陰極電
流の供給の際に特に有利である。なぜならば歯付きベル
トの間の空間が接触のために利用できるからである。
る。しかしながら耐食性及び可とう性の観点から、エン
ドレス伝動装置が少なくとも一つの歯付きベルトにより
構成されているときには著しい長所が得られる。この場
合には接触クランプの上側のクランプあごに上側の歯付
きベルトが従属し、接触クランプの下側のクランプあご
に下側の歯付きベルトが従属していることもまた可能で
ある。そのとき上側の歯付きベルトと下側の歯付きベル
トへの力)かる分;13は、クランプあご′への陰極電
流の供給の際に特に有利である。なぜならば歯付きベル
トの間の空間が接触のために利用できるからである。
この発明の特に有利な別の実施態様によれば、エンドレ
ス伝動装置が駆動可能であり、連動体としてのかん子状
の接触クランプと共に、加工品の水平移動のための搬送
装置を形成する。接触装置と搬送装置とのかかる組み合
わせにより、電気めっき装置全体の特に簡単な構成が得
られる。
ス伝動装置が駆動可能であり、連動体としてのかん子状
の接触クランプと共に、加工品の水平移動のための搬送
装置を形成する。接触装置と搬送装置とのかかる組み合
わせにより、電気めっき装置全体の特に簡単な構成が得
られる。
エンドレス伝動装置を使用することの別の著しい長所は
、エンドレス伝動装置の戻り側の範囲に、接触クランプ
の接触面の機械的及び/又は化学的な清掃のための少な
くとも一つの清掃装置が配置されているということにあ
る0例えばブラシ、砥石、腐食剤浴又は腐食液のスプレ
ーノズルとすることもできるかかる清掃装置を用いれば
、接触クランプの接触面上にたまたま析出された金属を
除去することができる。エンドレス伝動装置の循環ごと
に清掃された接触面は、接触の極めて高い信頼性を保証
する。
、エンドレス伝動装置の戻り側の範囲に、接触クランプ
の接触面の機械的及び/又は化学的な清掃のための少な
くとも一つの清掃装置が配置されているということにあ
る0例えばブラシ、砥石、腐食剤浴又は腐食液のスプレ
ーノズルとすることもできるかかる清掃装置を用いれば
、接触クランプの接触面上にたまたま析出された金属を
除去することができる。エンドレス伝動装置の循環ごと
に清掃された接触面は、接触の極めて高い信頼性を保証
する。
陰極電流がすり接触により接触クランプに供給可能なよ
うにすると合口的である。この場合にはすり接触を非常
に信頼性の高い接触と見なすことができる。なぜならば
すり接触は、そのために計画された場所では電解液の侵
入により損なわれるおそれがないからである。
うにすると合口的である。この場合にはすり接触を非常
に信頼性の高い接触と見なすことができる。なぜならば
すり接触は、そのために計画された場所では電解液の侵
入により損なわれるおそれがないからである。
加工品の」二面と下面の陰極電流が別々にすなわち別々
の整流器を介して供給可能であるときには、加工品の上
面及び下面上の1せ解による金属析出の層厚さが別々に
制御できる。
の整流器を介して供給可能であるときには、加工品の上
面及び下面上の1せ解による金属析出の層厚さが別々に
制御できる。
加工品の両面に陰極電流が供給可能であるときには、特
に10gm未満の厚さの銅張りを備えたプリント配線基
板の場合に、基板の幅にわたって一様な層厚さ分布が得
られる。
に10gm未満の厚さの銅張りを備えたプリント配線基
板の場合に、基板の幅にわたって一様な層厚さ分布が得
られる。
陰極゛電流を加工品の通過方向に見て分離された少なく
とも二つの長手区間を経て供給することもできる。かか
る手段により例えばプリント配線基板の入口範囲におい
て、無電流析出された銅層の焼失が確実に防止できるよ
うな小さい電vt密度を選ぶことができる。
とも二つの長手区間を経て供給することもできる。かか
る手段により例えばプリント配線基板の入口範囲におい
て、無電流析出された銅層の焼失が確実に防止できるよ
うな小さい電vt密度を選ぶことができる。
加工品の上面と下面との上の金属析出の別々の制御は、
陰極電流が接触クランプの上側のクランプあごには上側
の通電レールを経て供給可能であり、接触クランプの下
側のクランプあごには下側の通電レールを経て供給可f
@であることにより容易に実現できる。そのとき上側の
通電レールと下側の通電レールとが同時に、電気めっき
範囲で接触クランプを閉じるためのリンク装置として働
くように、これらの電流レールが構成され、ているのが
合目的である・ 接触構成の別の有利な実施態様によれば、陰極電流が、
接触クランプの上側のクランプあごには通過方向に延び
ると側のブラシを経て供給可能であり、接触クランプの
下側のクランプあごには通過方向に延びる下側のブラシ
を経て供給可能であるように行われる。かかるブラシは
非常に信頼性の高い接触を保証する。更にクランプあご
の直接の接触は、L―側のブラシには上側のクランプあ
ごの後側に付加成形された集電子が従属し、下側のブラ
シには下側のクランプあごの後側に付加成形された集電
子が従属することにより達成できる。
陰極電流が接触クランプの上側のクランプあごには上側
の通電レールを経て供給可能であり、接触クランプの下
側のクランプあごには下側の通電レールを経て供給可f
@であることにより容易に実現できる。そのとき上側の
通電レールと下側の通電レールとが同時に、電気めっき
範囲で接触クランプを閉じるためのリンク装置として働
くように、これらの電流レールが構成され、ているのが
合目的である・ 接触構成の別の有利な実施態様によれば、陰極電流が、
接触クランプの上側のクランプあごには通過方向に延び
ると側のブラシを経て供給可能であり、接触クランプの
下側のクランプあごには通過方向に延びる下側のブラシ
を経て供給可能であるように行われる。かかるブラシは
非常に信頼性の高い接触を保証する。更にクランプあご
の直接の接触は、L―側のブラシには上側のクランプあ
ごの後側に付加成形された集電子が従属し、下側のブラ
シには下側のクランプあごの後側に付加成形された集電
子が従属することにより達成できる。
この発明の別の有利な実施態様では、接触クランプの接
触圧力が開成ばねによりもたらされ、接触クランプを開
くために入口範囲及び出口範囲で加工品に作用するリン
ク装置が設けられる。この実施態様の長所は特に一様な
接触圧力にある。そのとき開放は、閉成ばねの力に逆ら
って働く接触クランプの開放ピンがリンク装置に付Jジ
されていることにより実現できる。
触圧力が開成ばねによりもたらされ、接触クランプを開
くために入口範囲及び出口範囲で加工品に作用するリン
ク装置が設けられる。この実施態様の長所は特に一様な
接触圧力にある。そのとき開放は、閉成ばねの力に逆ら
って働く接触クランプの開放ピンがリンク装置に付Jジ
されていることにより実現できる。
最後に接触範囲における望ましくない金属析出の観点か
ら、接触クランプが、脇で移動方向に延びそれぞれの加
工品に接触するパツキンにより電解液の侵入から守られ
ているのが特に有利である。
ら、接触クランプが、脇で移動方向に延びそれぞれの加
工品に接触するパツキンにより電解液の侵入から守られ
ているのが特に有利である。
[実施例]
次にこの発明にノ1(づ〈電気めっき装置の複数の実施
例を示す図面により、この発明の詳細な説明する。
例を示す図面により、この発明の詳細な説明する。
i1図は、プリント配線基板のスルーホール形成と電気
めっきとのためのモジュール方式で構成された水平連続
処理設備の基本原理を示す、プリント配線基板しpは入
口Efへ送り込まれ、そして相前後して配置されたモジ
ュール旧ないしM5を通過し、それから出口Atを経て
矢印Pflの方向へ再び連続処理設備から送り出される
。
めっきとのためのモジュール方式で構成された水平連続
処理設備の基本原理を示す、プリント配線基板しpは入
口Efへ送り込まれ、そして相前後して配置されたモジ
ュール旧ないしM5を通過し、それから出口Atを経て
矢印Pflの方向へ再び連続処理設備から送り出される
。
連続処理設備全体は3種類の基本モジュールから集成さ
れている。第1図には、実地で実際使用されるモジュー
ルのうちの数モジュールだけがモジュールMlないしM
5により示されている。各モジュールMlないしM5は
捕集槽Afw 、処理室Bz、プリント配線基板LPの
ための搬送システム及びそれぞれ用いられる処理液のた
めの貯蔵容器vbからなる。
れている。第1図には、実地で実際使用されるモジュー
ルのうちの数モジュールだけがモジュールMlないしM
5により示されている。各モジュールMlないしM5は
捕集槽Afw 、処理室Bz、プリント配線基板LPの
ための搬送システム及びそれぞれ用いられる処理液のた
めの貯蔵容器vbからなる。
各捕集槽Afwは台架G上に配置され蓋Deにより外に
向かって閉じられている。捕集槽Armの中には、必要
な搬送ローラTpt−備えた従属する処理室Bzlびに
入口側と出口側とに設けられた絞りローラAqが配置さ
れている。捕集槽Afwの中に捕集された処理液は流出
管AIを経て、その下に配置された貯蔵容器Vbの中に
導き戻される。移動可能な貯蔵容器vbの中に配置され
た液中ポンプ丁pと立ち上がり管S+とを経て、処理液
は処理室Bzの中へ押し上げられる。その際それぞれ所
望の11j流51.の調節が、立ち」―がり管S1の中
に配置された弁Vにより行われる。
向かって閉じられている。捕集槽Armの中には、必要
な搬送ローラTpt−備えた従属する処理室Bzlびに
入口側と出口側とに設けられた絞りローラAqが配置さ
れている。捕集槽Afwの中に捕集された処理液は流出
管AIを経て、その下に配置された貯蔵容器Vbの中に
導き戻される。移動可能な貯蔵容器vbの中に配置され
た液中ポンプ丁pと立ち上がり管S+とを経て、処理液
は処理室Bzの中へ押し上げられる。その際それぞれ所
望の11j流51.の調節が、立ち」―がり管S1の中
に配置された弁Vにより行われる。
既に述べたように、連続処理設備は3種類の、!、(本
モジュールから集成される。その際スプレーモジュール
は、次の浴の中への処理液の持ち込みを防止するという
任務を有する。このために捕集槽の中には通過軌道の上
方及び下方にノズルユニットが配置されている。その際
上側及び下側のノズルシステムのスプレー剤fQ jM
は弁により別々に調節可能である。入目側と出口側に対
を成して配置された前記の絞りローラAqは、洗浄剤と
処理液との混合を防止する。かがるスプレーモジュール
についての詳細は例えばドイツ連邦共和国特許第301
1081号明細書により知られている。
モジュールから集成される。その際スプレーモジュール
は、次の浴の中への処理液の持ち込みを防止するという
任務を有する。このために捕集槽の中には通過軌道の上
方及び下方にノズルユニットが配置されている。その際
上側及び下側のノズルシステムのスプレー剤fQ jM
は弁により別々に調節可能である。入目側と出口側に対
を成して配置された前記の絞りローラAqは、洗浄剤と
処理液との混合を防止する。かがるスプレーモジュール
についての詳細は例えばドイツ連邦共和国特許第301
1081号明細書により知られている。
第2の種類の基本モジュールとして化学的な処理モジュ
ールを挙げることができ、このモジュールは例えば板表
面上及びスルーホールの中の無電流鋼めっきのための用
いられる。その際流量調節装置が、すべてのスルーホー
ルを通る均一な貫流とプリント配線基板表面全体への均
一な流れとを保証する。
ールを挙げることができ、このモジュールは例えば板表
面上及びスルーホールの中の無電流鋼めっきのための用
いられる。その際流量調節装置が、すべてのスルーホー
ルを通る均一な貫流とプリント配線基板表面全体への均
一な流れとを保証する。
最後に第3の種類の基本モジュールとして電気めっきモ
ジュールが使用され、次にこのモジュールを第2図に示
す電気めっき装置により説明する。
ジュールが使用され、次にこのモジュールを第2図に示
す電気めっき装置により説明する。
第2図は部分的に破断された斜視図で電気めっき装置の
詳細を示す。図から分かるように、捕集槽Arwの両端
面は通過軌道の高さにスリットszを備え、このスリッ
トによりプリント配線基板Lpの通り抜けが可能である
。蓋De(第1図参照)と捕集4PIArwとの間の内
部空間は一側面上に吸い込みt+Agを備え、この吸い
込み口はこの空間の中に負圧を形成するために中央の吸
い込み装置に接続されている。吸い込み口Agの下方に
は、矢印Pf2の方向に駆動回部で長手方向に配置され
た駆動軸Awが示され、この駆動軸は搬送ローラTrと
下側の絞りローラAqとを相応に配置された傘歯車Kr
を介して駆動する。
詳細を示す。図から分かるように、捕集槽Arwの両端
面は通過軌道の高さにスリットszを備え、このスリッ
トによりプリント配線基板Lpの通り抜けが可能である
。蓋De(第1図参照)と捕集4PIArwとの間の内
部空間は一側面上に吸い込みt+Agを備え、この吸い
込み口はこの空間の中に負圧を形成するために中央の吸
い込み装置に接続されている。吸い込み口Agの下方に
は、矢印Pf2の方向に駆動回部で長手方向に配置され
た駆動軸Awが示され、この駆動軸は搬送ローラTrと
下側の絞りローラAqとを相応に配置された傘歯車Kr
を介して駆動する。
貯蔵容器vb(第1図参照)からポンプで押し上げられ
る電解液の供給は、矢印Pf3により示されるように、
処理室Bzの側面に開口する供給管口Zsを経て行われ
る。その際電解液の供給は、矢印Pf4により示され上
に向かう流れが、プリント配線基板Lpのスルーホール
Dkを通って生じるように設計されている。他の前提条
件が満たされる限りでは、この際立った流れによりスル
ーホールめっきに対する高品質の強化が保証される。そ
して電解液は上側の陽極Aoを貫流し、一部は矢印Pf
5の方向に側面のせきwhを経て捕集槽Afwの中へ流
れ込む。捕集槽Afwは流出管口Asを備え、捕集され
た電解液は矢印Pf8の方向へ流出管口を経て再び従属
する貯蔵容器vb(第1図参照)の中へ導かれる。
る電解液の供給は、矢印Pf3により示されるように、
処理室Bzの側面に開口する供給管口Zsを経て行われ
る。その際電解液の供給は、矢印Pf4により示され上
に向かう流れが、プリント配線基板Lpのスルーホール
Dkを通って生じるように設計されている。他の前提条
件が満たされる限りでは、この際立った流れによりスル
ーホールめっきに対する高品質の強化が保証される。そ
して電解液は上側の陽極Aoを貫流し、一部は矢印Pf
5の方向に側面のせきwhを経て捕集槽Afwの中へ流
れ込む。捕集槽Afwは流出管口Asを備え、捕集され
た電解液は矢印Pf8の方向へ流出管口を経て再び従属
する貯蔵容器vb(第1図参照)の中へ導かれる。
前記の上側の陽極Aoはプリント配線基板t、pの通過
軌道の上方に僅かな間隔を置いて配置され、水モに整列
している。上側のgsJ4iはfiKbとこの魔の中に
一層又は複数層に配置された陽極材料Amとから成る。
軌道の上方に僅かな間隔を置いて配置され、水モに整列
している。上側のgsJ4iはfiKbとこの魔の中に
一層又は複数層に配置された陽極材料Amとから成る。
iKbはチタンから成り、その際エキスバンドメタルか
ら構成された底は電解液を容易に透過する。陽極材料A
層はこの場合には銅球であり、この銅球はしばしば銅ペ
レットと呼ばれる。容易に分かるように、かかる銅球は
蓋口e(第1図参照)を開放後に容易に交換又は補給で
きる。
ら構成された底は電解液を容易に透過する。陽極材料A
層はこの場合には銅球であり、この銅球はしばしば銅ペ
レットと呼ばれる。容易に分かるように、かかる銅球は
蓋口e(第1図参照)を開放後に容易に交換又は補給で
きる。
プリント配線基板t、pの通過軌道の下方に僅かな距離
を置いて、同様に水平に整列した下側の陽極Auが配(
4され、下側の陽極はエキスバンドメタルのふるいとし
て構成され白金めっきしたチタンから成る。従って下側
の陽極Auは上側の陽極AOと対照的に溶けない陽極で
あり、それ故にプリント配線)^板Lpの通過軌道に対
するその間隔は一定のままである。エキスバンドメタル
のふるいとして構成されることにより、電解液交換及び
電解液の流れに対する妨害が防止される。
を置いて、同様に水平に整列した下側の陽極Auが配(
4され、下側の陽極はエキスバンドメタルのふるいとし
て構成され白金めっきしたチタンから成る。従って下側
の陽極Auは上側の陽極AOと対照的に溶けない陽極で
あり、それ故にプリント配線)^板Lpの通過軌道に対
するその間隔は一定のままである。エキスバンドメタル
のふるいとして構成されることにより、電解液交換及び
電解液の流れに対する妨害が防止される。
目標とする成果にとって決定的に重要であるプリント配
線基板Lpの陰極への接触は第2図には示されていない
、相応の接触装置の二つの異なる実施例を次に第3図と
第4図、並びに第5図、第6図と第7図により説明する
。
線基板Lpの陰極への接触は第2図には示されていない
、相応の接触装置の二つの異なる実施例を次に第3図と
第4図、並びに第5図、第6図と第7図により説明する
。
第3図に示された接触装置では、図の左縁に処理室Hz
の側壁、 籠Kbと陽極材料Amとを備えた上側の陽極
Ao、電気めっきすべきブリト配線基板t、p及び下側
の陽極Auが示されている。プリント配線基板Lpはそ
の側縁範囲を処理室Bzの壁を通り抜けて導かれ、その
際このために必要な通過方向にスリット状に延びる開口
はパツキンDにより閉じられている。パツキンDは固定
配置された下側の封止帯板と垂直方向に可動な上側の封
止帯板とから成り、北側の封止帯板は圧縮ばねDflに
よりプリント配線基板LPに押し付けられている。パツ
キンDの例えばポリテトラフルオロエチレンから成る封
止帯板は、通過するプリント配線基板LPの表面に密若
して電解液の流出を少なくともほとんど防止するという
任務を有する。
の側壁、 籠Kbと陽極材料Amとを備えた上側の陽極
Ao、電気めっきすべきブリト配線基板t、p及び下側
の陽極Auが示されている。プリント配線基板Lpはそ
の側縁範囲を処理室Bzの壁を通り抜けて導かれ、その
際このために必要な通過方向にスリット状に延びる開口
はパツキンDにより閉じられている。パツキンDは固定
配置された下側の封止帯板と垂直方向に可動な上側の封
止帯板とから成り、北側の封止帯板は圧縮ばねDflに
よりプリント配線基板LPに押し付けられている。パツ
キンDの例えばポリテトラフルオロエチレンから成る封
止帯板は、通過するプリント配線基板LPの表面に密若
して電解液の流出を少なくともほとんど防止するという
任務を有する。
パツキンol経て側方に突出するプリント配線基板t、
pの縁は、陰極への接触のために、相互に間隔を置いて
配置されかん子状に形成された複数の接触クランプKk
lによりつかまれている。これらの各接触クランプKk
1は上側のクランプあごKbo 1と下側のクランプあ
ごKbulとから成り、その際両クランプあごは垂直に
整列した連動ピンMsl上に移動可撤に配置されている
。連動ピンMsL自体は、チェーン伝動装置のチェーン
Keの連動体Mglの中に保持されている0個々の接触
クランプKklの連動ピンMslは更に補助的に、上側
の支持レールHoと下側の支持レールHuとのU字形の
溝Nの中で導かれている。しかしながらこの長子案内は
、プリント配線ノ、(板t、pが陰極に接触され、かつ
接触クランプKklを備えたチェーン伝動装置が同時に
プリント配線基板Lpの水平通過のための搬送装置の任
務を満たすような範囲に限られている。
pの縁は、陰極への接触のために、相互に間隔を置いて
配置されかん子状に形成された複数の接触クランプKk
lによりつかまれている。これらの各接触クランプKk
1は上側のクランプあごKbo 1と下側のクランプあ
ごKbulとから成り、その際両クランプあごは垂直に
整列した連動ピンMsl上に移動可撤に配置されている
。連動ピンMsL自体は、チェーン伝動装置のチェーン
Keの連動体Mglの中に保持されている0個々の接触
クランプKklの連動ピンMslは更に補助的に、上側
の支持レールHoと下側の支持レールHuとのU字形の
溝Nの中で導かれている。しかしながらこの長子案内は
、プリント配線ノ、(板t、pが陰極に接触され、かつ
接触クランプKklを備えたチェーン伝動装置が同時に
プリント配線基板Lpの水平通過のための搬送装置の任
務を満たすような範囲に限られている。
チェーン伝動装置の方向変換範囲及び戻り側の範囲では
この案内は行われない、下側の支持レールHuはアング
ル片Wiと板PIとに結合されて固定のユニットとなり
、このユニット自体は複数の間隔兼支持ピンE1)Iを
介して上側の支持レールHaに強固に結合されている。
この案内は行われない、下側の支持レールHuはアング
ル片Wiと板PIとに結合されて固定のユニットとなり
、このユニット自体は複数の間隔兼支持ピンE1)Iを
介して上側の支持レールHaに強固に結合されている。
1−側の支持レールHaはその下面に−上側の通電レー
ルSsoを支持し、一方下側の支持レールHuはその上
面に下側の通電レールSsuを支持する0両通電し−ル
SsaとS、suは例えばグラファイト又は銅から成り
、一方円支持レールHaとHuのための材料としては高
分子のポリエチレンが特に適している。
ルSsoを支持し、一方下側の支持レールHuはその上
面に下側の通電レールSsuを支持する0両通電し−ル
SsaとS、suは例えばグラファイト又は銅から成り
、一方円支持レールHaとHuのための材料としては高
分子のポリエチレンが特に適している。
−上側及び下側のクランプあごKbolとKbulの後
側の部分は板ばねB「を支持し、これらの板ばねは4−
側の通゛准レールSsa又は下側の通′市レールSsu
上を滑る。その際上側の通電レールSsoと下側の通電
レールSsuとの間の間隔は、板ばねBfが圧縮されて
上側のクランプあごKbolと下側のクランプあごKb
ulとを介してプリント配線基板Lp上に加えるべき接
触圧力をもたらすように設計されている。
側の部分は板ばねB「を支持し、これらの板ばねは4−
側の通゛准レールSsa又は下側の通′市レールSsu
上を滑る。その際上側の通電レールSsoと下側の通電
レールSsuとの間の間隔は、板ばねBfが圧縮されて
上側のクランプあごKbolと下側のクランプあごKb
ulとを介してプリント配線基板Lp上に加えるべき接
触圧力をもたらすように設計されている。
通電レールSsoとSsuは別々の!!lt器に接続さ
れているので、プリント配線基板t、pの−E面と下面
の電流密度を変更できる0通電レールSsoとSsuは
長平方向に分割し異なる整流器に接続することもできる
ので、例えばプリント配線基板t、pの入口範囲では焼
失を避けるために比較的小さい電流密度に調節できる。
れているので、プリント配線基板t、pの−E面と下面
の電流密度を変更できる0通電レールSsoとSsuは
長平方向に分割し異なる整流器に接続することもできる
ので、例えばプリント配線基板t、pの入口範囲では焼
失を避けるために比較的小さい電流密度に調節できる。
第3図の右縁には、ここでは開かれた接触クランプKk
lを備えたチェーン伝動装置の戻り側が示されている。
lを備えたチェーン伝動装置の戻り側が示されている。
板ばねBfはもやは負荷されていない、更に二つの圧縮
ばねBf2とBf3が示され、板ばねBfがもはや通電
レールSSOとSsuに接触しなくなると直ちに、これ
らの圧縮ばねは接触クランプKklを開く、開放行程の
制限のために連動ピンMslの端部に挿入された′、1
1リピンspが用いられる。
ばねBf2とBf3が示され、板ばねBfがもはや通電
レールSSOとSsuに接触しなくなると直ちに、これ
らの圧縮ばねは接触クランプKklを開く、開放行程の
制限のために連動ピンMslの端部に挿入された′、1
1リピンspが用いられる。
第3図に示すように、開放された接触クランプKklの
戻りは、それらの接触面KfolとKfulとを望まし
くない金属析出、銅スラッジ及び場合によっては接触を
損なう他の汚れから解放するために利用される。このた
めに第3図には、ブラシ支持体Btと二つのブラシBu
eとを備えた機械的な清掃装置REIが示されている。
戻りは、それらの接触面KfolとKfulとを望まし
くない金属析出、銅スラッジ及び場合によっては接触を
損なう他の汚れから解放するために利用される。このた
めに第3図には、ブラシ支持体Btと二つのブラシBu
eとを備えた機械的な清掃装置REIが示されている。
ばねにより接触面KfolとKfulとに押し付けられ
る砥石を使用することも同様に可能である。チタンから
成る接触クランプKklの接触に用いられていない残り
の範囲が、望ましくない金属析出から守るためにポリテ
トラフルオロエチレンにより被覆されていることをここ
で述べておこう。
る砥石を使用することも同様に可能である。チタンから
成る接触クランプKklの接触に用いられていない残り
の範囲が、望ましくない金属析出から守るためにポリテ
トラフルオロエチレンにより被覆されていることをここ
で述べておこう。
第4図は軸−eにより矢印Pf7の方向に駆動されるス
ブロケッ)KRの範囲で、第3図に示す接触装置と反対
側に置かれた接触装置を示す。その他の点では接触装置
の配置はプリント配線基板の通過軌道に対し対称である
。
ブロケッ)KRの範囲で、第3図に示す接触装置と反対
側に置かれた接触装置を示す。その他の点では接触装置
の配置はプリント配線基板の通過軌道に対し対称である
。
第4図は加えるに接触クランプKklの化学的な洗す装
置の変形例を示す、このために清掃装置RE2が示され
、この清掃装置は矢印Pf8の方向に供給された腐食溶
液を接触面KfolとKful上に噴射する。そしてこ
の腐食液は、電気めっき装置の内部に配置された補助の
槽を介して捕集し、新たに清掃装置RE2に供給できる
。相応の腐食剤浴の配置も同様に可能である。このため
に清掃すべき面を部分的に浸すことができるように、エ
ンドレス伝動装置を戻り側の範囲で相応に方向転換でき
る。
置の変形例を示す、このために清掃装置RE2が示され
、この清掃装置は矢印Pf8の方向に供給された腐食溶
液を接触面KfolとKful上に噴射する。そしてこ
の腐食液は、電気めっき装置の内部に配置された補助の
槽を介して捕集し、新たに清掃装置RE2に供給できる
。相応の腐食剤浴の配置も同様に可能である。このため
に清掃すべき面を部分的に浸すことができるように、エ
ンドレス伝動装置を戻り側の範囲で相応に方向転換でき
る。
第5図ないし第7図は第2図に示す電気めっき装置の中
で採用可能な接触装置の第2の実施例を示す、ここでは
チェーンの代わりに上側の歯付きベルトZroと下側の
歯付きベルトZruとが設けられ、これらの歯付きベル
トには均一のピッチで連動体Mg2が付加成形されてい
る。これらの連動体)4g2の中には垂直に整列された
連動ピンMs2が支持されている。連動ピンNs2の上
端は上側の支持レールHsoのU字形溝Nの中で導かれ
、一方下端は下側の支持レールHsuの相応の溝Nの中
で導かれている。高分子のポリエチレンから成る上側及
び下側の支持レールH30とHsuは、間隔ピンD2を
介して相互に強固に結合されている。
で採用可能な接触装置の第2の実施例を示す、ここでは
チェーンの代わりに上側の歯付きベルトZroと下側の
歯付きベルトZruとが設けられ、これらの歯付きベル
トには均一のピッチで連動体Mg2が付加成形されてい
る。これらの連動体)4g2の中には垂直に整列された
連動ピンMs2が支持されている。連動ピンNs2の上
端は上側の支持レールHsoのU字形溝Nの中で導かれ
、一方下端は下側の支持レールHsuの相応の溝Nの中
で導かれている。高分子のポリエチレンから成る上側及
び下側の支持レールH30とHsuは、間隔ピンD2を
介して相互に強固に結合されている。
上側の歯付きベル)Zroと下側の歯付きベルトZru
との間には6二つの連動ピンMs2上で、接触クランプ
Kk2の上側の接触あごKbo2と下側の接触あごKb
u2とが可動に導かれている。接触クランプKk2を閉
じかつプリント配線基板Lpに確実に接触するのに必要
な圧力は閉成ばねSrによりもたらされ、この閉成ばね
はそれぞれ連動体Mg2と上側のクランプあごKbo2
との間で連動ビンMs2上に配置されている。
との間には6二つの連動ピンMs2上で、接触クランプ
Kk2の上側の接触あごKbo2と下側の接触あごKb
u2とが可動に導かれている。接触クランプKk2を閉
じかつプリント配線基板Lpに確実に接触するのに必要
な圧力は閉成ばねSrによりもたらされ、この閉成ばね
はそれぞれ連動体Mg2と上側のクランプあごKbo2
との間で連動ビンMs2上に配置されている。
上側のクランプあごKbo2の後側にはアングル形の集
電子Saoが付加成形され、この集電子は陰極電流の伝
達のために上側のブラシ支持体を滑る。同様に下側のク
ランプあごKbu2の後側にはアングル形の集電子Sa
uが付加成形され、この集電子は陰極電流の伝達のため
に下側のブラシnu上を滑る。
電子Saoが付加成形され、この集電子は陰極電流の伝
達のために上側のブラシ支持体を滑る。同様に下側のク
ランプあごKbu2の後側にはアングル形の集電子Sa
uが付加成形され、この集電子は陰極電流の伝達のため
に下側のブラシnu上を滑る。
例えばステンレス鋼のような耐食性材料から成るブラシ
BOとBuは後側で銅などから成る梁丁ro又はTru
に結合され、絶縁性の中間層Zと共に支持レールHso
とHsuとの間に締め付けられている。
BOとBuは後側で銅などから成る梁丁ro又はTru
に結合され、絶縁性の中間層Zと共に支持レールHso
とHsuとの間に締め付けられている。
集゛電子SaoとSau及びブラシnoとBuを用いた
上記の通電方式並びに閉成ばねSfの配置により、ここ
では接触圧力が著しく変化することなく、接触クランプ
Kk2を種々の厚さのプリント配線基板t、pに対して
採用できる。
上記の通電方式並びに閉成ばねSfの配置により、ここ
では接触圧力が著しく変化することなく、接触クランプ
Kk2を種々の厚さのプリント配線基板t、pに対して
採用できる。
閉成ばねsrl 備えた接触クランプKk2を装備する
ことにより、入口範囲でプリント配線基板Lpをつかむ
ために、また出口範囲でプリトン配線基板t、pを離す
ために、接触クランプKk2を強制的に開かなければな
らない、このためにプリント配線基板の人口範囲及び出
口範囲にリンク装置が設けられ、このリンク装置は第5
図において一点鎖線Ksにより、また第7図において開
放ピンObにより暗示されている。かかる開放ピンOb
の頭部は下側の支持レールHsuの相応の脚部面上の溝
Nの上を滑る。入口範囲及び出口範囲においてだけこの
脚部面はカム状に一点鎖線Ksの高さまで上昇し、従っ
て開放ピンObを押し上げる。その際下側のクランプあ
ごKbu2を緩く貫通して導かれた開放ピンObは、従
属する両閉成ばねSfの力に抗して上側のクランプあご
Kbo2を持ち上げ、それにより接触クランプに1c2
を開く。
ことにより、入口範囲でプリント配線基板Lpをつかむ
ために、また出口範囲でプリトン配線基板t、pを離す
ために、接触クランプKk2を強制的に開かなければな
らない、このためにプリント配線基板の人口範囲及び出
口範囲にリンク装置が設けられ、このリンク装置は第5
図において一点鎖線Ksにより、また第7図において開
放ピンObにより暗示されている。かかる開放ピンOb
の頭部は下側の支持レールHsuの相応の脚部面上の溝
Nの上を滑る。入口範囲及び出口範囲においてだけこの
脚部面はカム状に一点鎖線Ksの高さまで上昇し、従っ
て開放ピンObを押し上げる。その際下側のクランプあ
ごKbu2を緩く貫通して導かれた開放ピンObは、従
属する両閉成ばねSfの力に抗して上側のクランプあご
Kbo2を持ち上げ、それにより接触クランプに1c2
を開く。
fjSB図に示された平面図では接触クランプKk2は
異なる高さで切断されているので、一つの箇所で下側の
接触面Kfu2の形が示されている。そのほかには接触
面Kfo2とKfu2とを接触クランプKk2の戻りの
際に、既に第3図及び第4図に関連して述べた方法で清
掃できる。
異なる高さで切断されているので、一つの箇所で下側の
接触面Kfu2の形が示されている。そのほかには接触
面Kfo2とKfu2とを接触クランプKk2の戻りの
際に、既に第3図及び第4図に関連して述べた方法で清
掃できる。
第1図はこの発明に基づく電気めっき装置が用いられる
水平連続処理設備の一部を破断した立面図、第2図はこ
の発明に基づく電気めっき装置の一実施例の内部を示す
斜視図、第3図は第2図に示す装置に用いられる接触装
置の一実施例の縦断面図、第4図は第5図に示す接触装
置のスプロケットの範囲における縦断面図、第5図ない
し第7図はそれぞれ接触装置の別の実施例の縦断面図、
水モ断面図及び側面図である。 Bo 、 Bu・・・ブラシ、 D・・Oパツキン、K
bo1; Kbo2. Kbu1; Kbu2* *
*クランプあご、Kfo1; Kfo2. Kfu1;
Kfu2・a *接触面、 Kk1;Kk2 ・・
・接触クランプ、Ob・・・開放ピン、REI、 RE
2−−−清掃装置、 Sao、 Sau* 11 e集
電子、 5f−−−閉成ばね、 Sso、 5stIe
−11電流レール、 Zro、Zru・・・尚付きベ
ルト。 ′f+118)代理人弁理士富村 溜 −、、−1″、
〜・ IG I IG2 FIG 3 FIG4 FIG 5
水平連続処理設備の一部を破断した立面図、第2図はこ
の発明に基づく電気めっき装置の一実施例の内部を示す
斜視図、第3図は第2図に示す装置に用いられる接触装
置の一実施例の縦断面図、第4図は第5図に示す接触装
置のスプロケットの範囲における縦断面図、第5図ない
し第7図はそれぞれ接触装置の別の実施例の縦断面図、
水モ断面図及び側面図である。 Bo 、 Bu・・・ブラシ、 D・・Oパツキン、K
bo1; Kbo2. Kbu1; Kbu2* *
*クランプあご、Kfo1; Kfo2. Kfu1;
Kfu2・a *接触面、 Kk1;Kk2 ・・
・接触クランプ、Ob・・・開放ピン、REI、 RE
2−−−清掃装置、 Sao、 Sau* 11 e集
電子、 5f−−−閉成ばね、 Sso、 5stIe
−11電流レール、 Zro、Zru・・・尚付きベ
ルト。 ′f+118)代理人弁理士富村 溜 −、、−1″、
〜・ IG I IG2 FIG 3 FIG4 FIG 5
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)電解液の中に配置された少なくとも一つの陽極と、
水平に移動する加工品を陰極へ接触させるために脇に配
置された少なくとも一つの接触装置とを備えた、処理す
べき板状加工品のための電気めっき装置において、接触
装置が加工品と共にその脇を走行可能なかん子状の接触
クランプ(Kk1;Kk2)により形成されていること
を特徴とする板状加工品の電気めっき装置。 2)相互に間隔を置いて加工品と共にその脇を走行可能
な複数の接触クランプ(Kk1;Kk2)が設けられて
いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の装置
。 3)通過軌道の両側に加工品と共に走行可能な接触クラ
ンプ(Kk1;Kk2)が設けられていることを特徴と
する特許請求の範囲第1項又は第2項記載の装置。 4)通過軌道の少なくとも一側に、かん子状の接触クラ
ンプ(Kk1;Kk2)の走行可能な支持体として、少
なくとも一つのエンドレス伝動装置が配置されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第3項のい
ずれか 1項に記載の装置。 5)エンドレス伝動装置がチェーン(Ke)により形成
されていることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載
の装置。 6)エンドレス伝動装置が少なくとも一つの歯付きベル
ト(Zro、Zru)により形成されていることを特徴
とする特許請求の範囲第4項記載の装置。 7)接触クランプ(Kk2)の上側のクランプあご(K
bo2)に上側の歯付きベルト(Zro)が従属し、接
触クランプ(Kk2)の下側のクランプあご(Kbu2
)に下側の歯付きベルト(Zru)が従属していること
を特徴とする特許請求の範囲第6項記載の装置。 8)エンドレス伝動装置が駆動可能であり、連動体とし
てのかん子状の接触クランプ(Kk1;Kk2)と共に
、加工品の水平移動のための搬送装置を形成することを
特徴とする特許請求の範囲第4項ないし第7項のいずれ
か1項に記載の装置。 9)エンドレス伝動装置の戻り側の範囲に、接触クラン
プ(Kk1;Kk2)の接触面(Kfo1、Kfu1;
Kfo2、Kfu2)の機械的及び/又は化学的な清掃
のための少なくとも一つの清掃装置 (RE1;RE2)が配置されていることを特徴とする
特許請求の範囲第4項ないし第8項のいずれか1項に記
載の装置。 10)陰極電流がすり接触により接触クランプ(Kk1
;Kk2)に供給可能であることを特徴とする特許請求
の範囲第1項ないし第9項のいずれか1項に記載の装置
。 11)陰極電流が加工品の上面及び下面に別々に供給可
能であることを特徴とする特許請求の範囲第10項記載
の装置。 12)陰極電流が加工品の両面に別々に供給可能である
ことを特徴とする特許請求の範囲 第10項又は第11項記載の装置。 13)陰極電流が加工品の通過方向に見て分離された少
なくとも二つの長手区間を経て供給可能であることを特
徴とする特許請求の範囲第10項ないし第12項のいず
れか1項に記載の装置。 14)陰極電流が接触クランプ(Kk1)の上側のクラ
ンプあご(Kbo1)には上側の通電レール(Sso)
を経て供給可能であり、接触クランプ(Kk1)の下側
のクランプあご(Kbu1)には下側の通電レール(S
su)を経て供給可能であることを特徴とする特許請求
の範囲 第10項ないし第13項のいずれか1項に記載の装置。 15)上側の通電レール(Sso)と下側の通電レール
(Ssu)とが同時に、電気めっき範囲で接触クランプ
(Kk1)を閉じるためのリンク装置として働くように
、これらの電流レールが構成されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第14項記載の装置。 16)陰極電流が、接触クランプ(Kk2)の上側のク
ランプあご(Kbo2)には通過方向に延びる上側のブ
ラシ(Bo)を経て供給可能であり、接触クランプ(K
k2)の下側のクランプあご(Kbu2)には通過方向
に延びる下側のブラシ(Bu)を経て供給可能であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第10項ないし 第13項のいずれか1項に記載の装置。 17)上側のブラシ(Bo)には上側のクランプあご(
Kbo2)の後側に付加成形された集電子(Sao)が
従属し、下側のブラシ(Bu)には下側のクランプあご
(Kbu2)の後側に付加成形された集電子(Sau)
が従属することを特徴とする特許請求の範囲第16項記
載の装 置。 18)接触クランプ(Kk2)の接触圧力が閉成ばね(
Sf)によりもたらされ、接触クランプ(Kk2)を開
くために入口範囲及び出口範囲で加工品に作用するリン
ク装置が設けられていることを特徴とする特許請求の範
囲第1項ないし第14項又は第16項又は第17項のい
ずれか1項に記載の装置。 19)リンク装置には閉成ばね(Sf)の力に逆らって
働く接触クランプ(Kk2)用開放ピン(Ob)が付設
されていることを特徴とする特許請求の範囲第18項記
載の装置。 20)接触クランプ(Kk1;Kk2)が、脇で通過方
向に延びそれぞれの加工品に接触するパッキン(D)に
より、電解液の侵入から守ら れていることを特徴とする特許請求の範囲 第1項ないし第19項のいずれか1項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3625483 | 1986-07-28 | ||
| DE3625483.5 | 1986-07-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6335794A true JPS6335794A (ja) | 1988-02-16 |
Family
ID=6306135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62185349A Pending JPS6335794A (ja) | 1986-07-28 | 1987-07-24 | 板状加工品の電気めつき装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4755271A (ja) |
| EP (1) | EP0254962B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6335794A (ja) |
| AT (1) | ATE70571T1 (ja) |
| CA (1) | CA1317909C (ja) |
| DE (1) | DE3775297D1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008545883A (ja) * | 2005-05-25 | 2008-12-18 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 電解システムにおける被処理物品を搬送する方法、クランプ及び装置 |
| JP4781996B2 (ja) * | 2003-01-27 | 2011-09-28 | グルウプ 2ティー2 インク | ウインチ、それを備えた運搬車、および繋留方法 |
| KR20180037536A (ko) * | 2016-10-04 | 2018-04-12 | 대우조선해양 주식회사 | 잠호용접용 변형 저감 장치 |
| JP2021139005A (ja) * | 2020-03-06 | 2021-09-16 | 住友金属鉱山株式会社 | めっき装置およびめっき方法 |
Families Citing this family (35)
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| ATE89615T1 (de) * | 1988-09-01 | 1993-06-15 | Siemens Nixdorf Inf Syst | Galvanisiereinrichtung fuer plattenfoermige werkstuecke, insbesondere leiterplatten. |
| ATE89614T1 (de) * | 1988-09-01 | 1993-06-15 | Siemens Nixdorf Inf Syst | Galvanisiereinrichtung fuer plattenfoermige werkstuecke, insbesondere leiterplatten. |
| ATE89616T1 (de) * | 1988-09-01 | 1993-06-15 | Siemens Nixdorf Inf Syst | Galvanisiereinrichtung fuer plattenfoermige werkstuecke, insbesondere leiterplatten. |
| US4871435A (en) * | 1988-10-14 | 1989-10-03 | Charles Denofrio | Electroplating apparatus |
| DE4020820C2 (de) * | 1990-06-29 | 1998-04-16 | Ritter Starkstromtech | Kurzschließeranordnung für Hochstrom |
| US5211826A (en) * | 1991-09-26 | 1993-05-18 | Siemens Aktiengesellschaft | Electroplating means for perforated printed circuit boards to be treated in a horizontal pass |
| DE4212567A1 (de) * | 1992-03-14 | 1993-09-16 | Schmid Gmbh & Co Geb | Einrichtung zur behandlung von gegenstaenden, insbesondere galvanisiereinrichtungen fuer leiterplatten |
| GB2266727A (en) * | 1992-04-27 | 1993-11-10 | Kevin Oswald Laidler | Conveyorised system for electroplating PCBs or plates e.g. with photoresist |
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| CN1116449C (zh) * | 1994-05-11 | 2003-07-30 | 比利时西门子公司 | 电路板的处理设备 |
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