JPS6336551A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS6336551A
JPS6336551A JP61178846A JP17884686A JPS6336551A JP S6336551 A JPS6336551 A JP S6336551A JP 61178846 A JP61178846 A JP 61178846A JP 17884686 A JP17884686 A JP 17884686A JP S6336551 A JPS6336551 A JP S6336551A
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JP
Japan
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semiconductor chip
die
bonding
insulating substrate
die bonding
Prior art date
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Application number
JP61178846A
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English (en)
Inventor
Manabu Bonshihara
學 盆子原
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
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    • H10W90/756Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置に関し、特に薄型樹脂封止半導体装
置に関する。
〔従来の技術〕
従来、薄型樹脂封止半導体装置はチップオンボード又は
COBと称されており、例えば、日経エレクトロニクス
マイクロデバイセズ1984年6月11日号、 P2S
5−P2S5に記載されているように、チップ搭載用プ
リント配線基板に直接半導体チップを゛載せ、これをポ
ツティング樹脂で封止する構成となっている。
このような従来のCOB型薄望薄型樹脂封止半導体装置
例を第5図に示す。即ち、図示のように、この種の半導
体装置は回路基板31を主体として構成している。この
回路基板31は、ガラスエポキシ、ポリイミド、トリア
ジン等からなる絶縁基板320表面に接着剤N33を介
して導体配線層34を形成している。また、プリント配
線基板と同一構造を有するこの回路基板31の略中夫に
はチップ塔載用開孔35を開設するとともに、この裏面
位置には接着剤層36によって銅板等の支持基板37を
固着している。そして、半導体チップ38は銀ペースト
のようなダイボンド材39を用いてこの支持基板37上
に載置し、固定している。
この半導体チップ38のポンディングパッド38aと導
体配線N34は金線等のボンディング線40で結線し、
更に、接着剤層41で導体配線層34上に固着した樹脂
枠42内に充填したエポキシ等のポッティング樹脂43
で封止を行った構成となっている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来のCOB型樹脂封止半導体装置は、回路基
板に半導体チップを載置するキャビティを形成するため
に、開孔を設け、更に半導体チップを載置すべき支持基
板を回路基板の裏に設ける必要があり、或いは、基板自
体を座ぐり加工する必要がある。しかしながら、このよ
うな構造では回路基板31の厚さに、支持基tfi37
及びポッティング樹脂43の厚さが加わって厚さの増大
を招き、せいぜい1.5fi厚、更に薄くても1龍厚程
度までしか実現できなかった。特に、最近のICカード
と呼ばれる半導体装置応用では、厚さは1fl以下にす
る必要が出ており、これを実現するためには上記した従
来構造の半導体装置を適用することは困難である。
また、従来技術では、回路基板を形成した後で、支持基
板を設けなければならず、加工が複雑になるという問題
もある。
〔問題点を解決するための手段〕
−本発明の半導体装置は、パフケージの厚さの低減を図
るとともに製造の容易化を達成するものである。
本発明の半導体装置は、絶縁基板と、この上に設けた導
体配線とで回路基板を構成し、前記導体配線には半導体
チップを搭載するダイボンド部及びこれを支持する吊り
リード部を形成し、絶縁基板には前記ダイボンド部及び
吊りリード部と略同一寸法の開孔を夫々設け、ダイボン
ド部及び吊りリード部を押し下げ加工して夫々を各開孔
内に収納し、かつダイボンド部に半導体チップを搭載し
た構成としている。
〔実施例〕
次に、本発明を図面を参照して説明する。
第1図(A)及び(B)は本発明の第1実施例の平面図
及びそのBB線に沿う断面図であり、半導体装置1は回
路基板3に半導体チ・ノブ2を載置し、ポッティング樹
脂4で封止された構造となっている。
即ち、前記回路基板3は0.2m厚のガラスエポキシ類
の絶縁基板5を主体に構成しており、この略中央位置に
は正方形をしたダイボンド部用開孔6を開設し、更にこ
のダイボンド部用開孔6の対向辺2箇所には切り欠き状
の吊りリード用開孔7を形成している。そして、この絶
縁基板5の表面には、35μm厚の銅箔の導体層を所要
のパターンに形成した導体配線8を数10μm厚のエポ
キシ接着剤層9によって貼付している。この導体配線8
の中央部にはダイボンド部8aを形成しており、このダ
准ボンド部8aに前記半導体チップ2を搭載している。
このダイボンド部8aは吊りリード部8bによってリー
ド部8cに連続形成しており、この吊りリード部8bを
吊りリード用開孔7において曲げ加工することにより、
前記絶縁基板5のダイボンド部用開孔6内において基板
5の厚さ内に配設している。なお、前記導体層′fa8
は銅板の表面にNiメツキ5μm、Auメツキ0.5μ
mを施しである。
しかる上で、半導体チップ2のポンディングパッド2a
と外部導出用リード部8dとをポンデイ′ング線10に
より接続し、かつこの上にポッティング樹脂4を被着し
てこれら半導体チップ2及びボンディング線10を樹脂
封止している。ここで、ポッティング樹脂4を基板上面
に0.3μm程度の厚さに形成すれば、本実施例では、
0.6〜0.7朋厚程度の薄型半導体装置を構成できる
前記半導体装置の製造方法を第2図を用いて節単に説明
する。
先ず、第2図(a、)に示すように、絶縁基板5を打抜
き加工してダイボンド部用開孔6と、これに続く吊りリ
ード用開孔7を開設する。そして、この絶縁基板5の上
面に同図(a2)のように接着剤層9によって導体配線
8となるメツキ済みの銅箔を貼り付ける。
次いで、同図(bl )のように、この銅箔に対してフ
ォトレジスト エツチング加工処理を施し、ダイボンド
部3a、吊りリード部8b、  リード部8c及び8d
をパターン形成し、導体配線8を形成する。そして、こ
の絶縁基板4及び導体配線8を、同図(b2)のように
下方に曲げ形成可能な曲げ装置20内に設置し、ダイボ
ンド部8a及び吊りリード部8bを曲げ加工する。この
曲げ装置20は、ポンチ金型21.押え金型22.受は
金型23を有しており、抑え金型22で絶縁基板4の周
囲を押圧固定し、ポンチ金型21でダイボンド部8a及
び吊りリード部8bを下方に曲げ加工する。
この曲げ加工によって、同図(c、)、  (c、)の
ように、導体配線8は、ダイボンド部8aの底面が絶縁
基板5の底面と略同−レベルとなるように曲げ加工され
る。このとき、ダイボンド部8a及び吊りリード部8b
は、夫々ダイボンド部用開孔6及び吊りリード用開孔7
と略同一寸法に形成しているので両者間に隙間が生じる
ことは殆どない。
したがって、このように加工された導体配線8のダイボ
ンド部8にダイボンド剤11を用いて半導体チップ2を
載置固着し、ボンディング線10で半導体チップ2のボ
ンディングバンド2aと導体配線8のリード部8dを結
線し、エポキシ等の゛ポツティング樹脂4で封止するこ
とにより、樹脂洩れが殆どない第1図に示す半導体装置
を得ることができる。
したがって、この半導体装置によれば、半導体チップ2
を支持するための導体配線のダイボンド部8aを回路基
板3の厚さ内に収納しているので従来のように半導体チ
ップを支持するための部材を回路基板の裏面に設ける必
要はなく、半導体装置の厚さの低減を図ることができ、
薄型のCOBパッケージとして極めて有効となる。
第3図は本発明の第2実施例の断面図であり、図中第1
図と同一部分には同一符号を付している。
この実施例の薄型半導体装置は、樹脂4をポッティング
する前に、ボンディング線10を囲むように0.3 m
m程度のポリイミド製の樹脂止め枠12を接着剤13に
よって導体配線8の表面上に接着固定したものである。
これによりポツティング樹脂4に粘性の低いものを使用
することが可能となり、その表面に平坦化を図って半導
体装置の全体厚さを更に低減することができる。この実
施例では0.7mm厚程度の薄型のものを得ることがで
きた。
第4図には、本発明の第3実施例の平面図を示し、半導
体装置をより安定してダイボンドできるように、改良さ
れた半導体装置用フィルムキャリヤフレーム14を示し
である。即ち、導体配線15に形成したダイボンド部1
5aはフレーム14に設けられたダイボンド用開孔16
の中に、4本の吊りリード部15bで支えられながら押
し込まれている。このダイボンド用開孔16には、4箇
所の吊りリード用開孔17が周辺に設けられている。吊
りリード部15bは4箇所の吊りリード開孔17位置で
曲げ加工を受けており、ダイボンド部15aを並行に支
える役割をしてダイボンドが容易に行えるよう考慮して
いる。図中、15cは吊りリード15bに連続するリー
ド部、15dは外部導出用のリード部である。
更に、T字状の吊りリード支え補強部15eは、外部端
子リードとして使用しない場合のために、吊りリードの
フレーム材への接着を強化したものである。
′ ここで、本フレーム14は、アウターリードボンド
用の開孔18を設けた場合を示したが、半導体チップを
載置してこれを実装封止をすれば、前記第1及び第2の
各実施例と殆ど同一厚の薄型半導体装置を得られること
は言うまでもない。
また、長尺のフィルムキャリヤ状フレームとして構成し
ても何ら差し支えないことも明らかである。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、絶縁基板と導体配線とで
回路基板を構成し、絶縁基板には導体配線に設けたダイ
ボンド部及び吊りリード部と略同一寸法の開孔を夫々設
け、これらダイボンド部及び吊りリード部を押し下げ加
工して夫々を各開孔内に収納した上でダイボンド部に半
導体チップを搭載しているので、半導体装置の全体の厚
さを格段に低減でき、全体厚が1鶴以下の薄型半導体装
置を実現できる。また、上記開孔とダイボンド部。
吊りリード部の寸法を殆ど同一としているので、液洩れ
のない樹脂封止をも可能にする。特に、粘性の低い樹脂
を使用する場合にも上記開孔とダイボンド部、吊りリー
ド部の間の隙間からの樹脂洩れが生じることはなく樹脂
の厳しい管理は必要ない。また、半導体チップの支持基
板等を付設する必要はなく、製造工程を削減してその容
易化を達成できる。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)、  (B)は本発明の第1実施例の平面
図及びそのBB線断面図、第2図(’a、)。 (a2)乃至第2図(c+)、(c、)は第1図の半導
体装置を製造する工程を示す平面図及び断面図、第3図
は本発明の第2実施例の断面図、第4図は本発明の第3
実施例の平面図、第5図は従来構造の断面図である。 1・・・半導体装置、2・・・半導体チップ、3・・・
回路基板、4・・・ポツティング樹脂、5・・・絶縁基
板、6・・・ダイボンド部用開孔、7・・・吊りリード
用開孔、8・・・導体配線、8a・・・ダイボンド部、
8b・・・吊りリード部、10・・・ボンディング線、
12・・・樹脂止め枠、14・・・フィルムキャリヤフ
レーム、15・・・導”体配線、15a・・・ダイボン
ド部、15b・・・吊りリード部、16・・・ダイボン
ド部用開孔、17・・・吊りリード用開孔、18・・・
アウタリードボンド用開孔、20・・・曲げ装置、31
・・・回路基板、32・・・絶縁基板、34・・・導体
配線層、35・・・開孔、37・・・支持基板、38・
・・半導体チップ、40・・・ボンディング線、42・
・・樹脂枠、43・・・樹脂。 代理人 弁理士  鈴 木 章 夫 −2! (a2) 第2図           第 2図 第3図 第4図 第5図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁基板と、この上に設けた導体配線とで回路基
    板を構成し、前記導体配線には半導体チップを搭載する
    ダイボンド部及びこれを支持する吊りリード部を形成し
    、前記絶縁基板には前記ダイボンド部及び吊りリード部
    と略同一寸法の開孔を夫々設け、前記ダイボンド部及び
    吊りリード部を押し下げ加工して夫々を前記各開孔内に
    収納し、かつダイボンド部に半導体チップを搭載させた
    ことを特徴とする半導体装置。
  2. (2)各開孔内にポッティング樹脂を充填し、半導体チ
    ップ及びボンディング線を樹脂封止してなる特許請求の
    範囲第1項記載の半導体装置。
JP61178846A 1986-07-31 1986-07-31 半導体装置 Pending JPS6336551A (ja)

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JP61178846A JPS6336551A (ja) 1986-07-31 1986-07-31 半導体装置

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JP61178846A JPS6336551A (ja) 1986-07-31 1986-07-31 半導体装置

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JPS6336551A true JPS6336551A (ja) 1988-02-17

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JP61178846A Pending JPS6336551A (ja) 1986-07-31 1986-07-31 半導体装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7821116B2 (en) 2007-02-05 2010-10-26 Fairchild Semiconductor Corporation Semiconductor die package including leadframe with die attach pad with folded edge
JP2014222695A (ja) * 2013-05-13 2014-11-27 アオイ電子株式会社 半導体装置およびその製造方法

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US7821116B2 (en) 2007-02-05 2010-10-26 Fairchild Semiconductor Corporation Semiconductor die package including leadframe with die attach pad with folded edge
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