JPS6338570A - 真空蒸着用蒸発装置 - Google Patents
真空蒸着用蒸発装置Info
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- JPS6338570A JPS6338570A JP18003886A JP18003886A JPS6338570A JP S6338570 A JPS6338570 A JP S6338570A JP 18003886 A JP18003886 A JP 18003886A JP 18003886 A JP18003886 A JP 18003886A JP S6338570 A JPS6338570 A JP S6338570A
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title description 10
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 22
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 7
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 abstract description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 5
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 4
- 238000001304 sample melting Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 235000006716 Broussonetia kazinoki Nutrition 0.000 description 1
- 240000006248 Broussonetia kazinoki Species 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は真空蒸着用蒸発装置に関するものである。
従来、半導体ICやハイブリッドIC等の電極形成、複
写機やプリンター等に使用される感光体作製には真空蒸
着法が利用されている。真空蒸着法としてはエレクトロ
ンビームタイプのもの、ボート、コイル及びるつぼ等を
用いた抵抗加熱方式のもの、及びスパッタリング蒸着方
式等がある。
写機やプリンター等に使用される感光体作製には真空蒸
着法が利用されている。真空蒸着法としてはエレクトロ
ンビームタイプのもの、ボート、コイル及びるつぼ等を
用いた抵抗加熱方式のもの、及びスパッタリング蒸着方
式等がある。
これらのうち、抵抗加熱方式による蒸着膜の形成は加熱
機構が簡単であるため、広く用いられている。特に薄膜
サーマルヘッドであるとか、電子写真感光体等の広面積
基板への蒸着膜形成には抵抗加熱方式が有効である。
− ところで、サーマルヘッド及び電子写真感光体の膜とし
ては広い基板面積上に、均一でしかも蒸発源からの飛沫
物が無い良質な腰を形成することが要求される。
機構が簡単であるため、広く用いられている。特に薄膜
サーマルヘッドであるとか、電子写真感光体等の広面積
基板への蒸着膜形成には抵抗加熱方式が有効である。
− ところで、サーマルヘッド及び電子写真感光体の膜とし
ては広い基板面積上に、均一でしかも蒸発源からの飛沫
物が無い良質な腰を形成することが要求される。
サーマルヘッドの場合、フォトエツチングによるパター
ン形成時に蒸発源からこの飛沫物があると、短絡あるい
は断線の原因となるし、電子写真感光体の場合、この飛
沫物が帯電工程時に均一な帯電を妨げ、現像、転写時の
画像ムラ、及びクリーニング時のクリーニング不良を引
き起こしてしまうことになる。
ン形成時に蒸発源からこの飛沫物があると、短絡あるい
は断線の原因となるし、電子写真感光体の場合、この飛
沫物が帯電工程時に均一な帯電を妨げ、現像、転写時の
画像ムラ、及びクリーニング時のクリーニング不良を引
き起こしてしまうことになる。
第3図(a)及び(b)は従来一般に使用されている真
空蒸着用蒸発源としてのボートの平面及び側面を示すも
のである。ボートは’yy、 Mo、 Ta、ステンレ
ス鋼(SO3)等からなる平板1の中央部に溶融溜め2
を形成し、蒸着物質が溶融時にボートから流出しない様
に構成されており、両端の3.3′に通電し、加熱する
ことにより蒸発を行なう。しかし、従来のこの様なボー
トでは試料(Cr、Pd。
空蒸着用蒸発源としてのボートの平面及び側面を示すも
のである。ボートは’yy、 Mo、 Ta、ステンレ
ス鋼(SO3)等からなる平板1の中央部に溶融溜め2
を形成し、蒸着物質が溶融時にボートから流出しない様
に構成されており、両端の3.3′に通電し、加熱する
ことにより蒸発を行なう。しかし、従来のこの様なボー
トでは試料(Cr、Pd。
Au、 Ni、Cr、AL、Se、 Te等)の沸騰、
突沸による飛沫の発生が起こりや丁いという欠点があっ
た。
突沸による飛沫の発生が起こりや丁いという欠点があっ
た。
この沸騰及び突沸は、溶融した試料の対流が悪く、ボー
ト表面付近に存在する溶融試料が過熱状態になることが
原因で起こる現象である。
ト表面付近に存在する溶融試料が過熱状態になることが
原因で起こる現象である。
従来、飛沫を防ぐ方法として、ボート表面のぬれ性をよ
くしたり(特公昭57−22990号)、ボート表面を
粗面化(特開昭56−156868号、同57−137
468号)あるいは研磨(特開昭57−194253号
)することによって、沸騰や突沸現象を防ごうとする試
みや、ボートの形状を工夫すること(特開昭57−12
3973号、同57−192957号)によって、ボー
トから飛沫が基板へ到達するのを防ごうとする試みがな
されてきたが、連続的なボートの使用によるボート表面
変化やボート形状の不完全さ等から必ずしも十分に飛沫
を回避しきれなかった。
くしたり(特公昭57−22990号)、ボート表面を
粗面化(特開昭56−156868号、同57−137
468号)あるいは研磨(特開昭57−194253号
)することによって、沸騰や突沸現象を防ごうとする試
みや、ボートの形状を工夫すること(特開昭57−12
3973号、同57−192957号)によって、ボー
トから飛沫が基板へ到達するのを防ごうとする試みがな
されてきたが、連続的なボートの使用によるボート表面
変化やボート形状の不完全さ等から必ずしも十分に飛沫
を回避しきれなかった。
つまり、従来の様なボートを使い、比較的短時間で蒸着
膜を形成しようとした場合、ボート表面付近での溶融試
料の過熱状態は避けることはできず、従って完全に沸騰
、突沸を押さえた飛沫の回避は極めて困難である。
膜を形成しようとした場合、ボート表面付近での溶融試
料の過熱状態は避けることはできず、従って完全に沸騰
、突沸を押さえた飛沫の回避は極めて困難である。
本発明の目的は比較的短時間で蒸着膜を形成し、しかも
沸騰や突沸による飛沫が起こらない真空蒸着用蒸発装置
を提供することにある。
沸騰や突沸による飛沫が起こらない真空蒸着用蒸発装置
を提供することにある。
すなわち、本発明は膜面が平滑で、良質の蒸着膜を形成
するための真空蒸着用蒸発源を提供することを目的とす
る。
するための真空蒸着用蒸発源を提供することを目的とす
る。
本発明は、従来の抵抗加熱方式による真空蒸着用蒸発装
置の欠点であった溶融試料の対流の悪さが原因で生ずる
試料の沸騰あるいは突沸現象を回避するために、溶融試
料を液膜化した後、ただちに蒸発させるようにしたもの
である。
置の欠点であった溶融試料の対流の悪さが原因で生ずる
試料の沸騰あるいは突沸現象を回避するために、溶融試
料を液膜化した後、ただちに蒸発させるようにしたもの
である。
丁なわち、本発明は蒸発物質を貯溜し溶融するボートと
、このボート内の蒸発物質を加熱する手段を具備する真
空蒸着用蒸発装置において、前記ボートの底板面に沿っ
て開口部を有する仕切板でボート内を試料溶融溜め部と
溶融試料蒸発部とに分割した真空蒸着用蒸発装置である
。
、このボート内の蒸発物質を加熱する手段を具備する真
空蒸着用蒸発装置において、前記ボートの底板面に沿っ
て開口部を有する仕切板でボート内を試料溶融溜め部と
溶融試料蒸発部とに分割した真空蒸着用蒸発装置である
。
以下添付図面に基づいて説明する。
第1図(、)、Cb)および<c>は本発明の真空蒸着
用蒸発装置例のそれぞれ側面図、正面図および平面図で
ある。
用蒸発装置例のそれぞれ側面図、正面図および平面図で
ある。
この装置は、平板lの中央凹部が仕切り板4で試料溶融
溜め部2aと溶融資料2bとに仕切られた講造の変型ボ
ートである。
溜め部2aと溶融資料2bとに仕切られた講造の変型ボ
ートである。
ボートの底板5は試料溶融溜め部で薄く、溶融試料蒸発
部で厚くなっており、かつ溶融試料が試料溜め部へと流
れるように傾斜している。
部で厚くなっており、かつ溶融試料が試料溜め部へと流
れるように傾斜している。
仕切り板4は試料溶融溜め部の溶融試料が底板面上に沿
って流れるような講造のものであればよく、例えばメツ
シュ板(第1図(a))あるいは底板との間に隙間のあ
る状態に保時されたしきい板(第2図)等である。
って流れるような講造のものであればよく、例えばメツ
シュ板(第1図(a))あるいは底板との間に隙間のあ
る状態に保時されたしきい板(第2図)等である。
この装置では試料溶融溜め部21に蒸発すべき物質を装
填し、平板端部3,3′間に電圧を印加すると、溶融試
料蒸発部2bの板厚の厚い部分から薄い部分へと温度勾
配を持つように加熱される。試料溶融溜め部2aの底板
部分が試料を溶融させるに十分な温度になると、溶融試
料蒸発部2bでは、溶融資料が蒸発部2bの最下部に到
達する前に蒸発が完了するに十分な温度になっている。
填し、平板端部3,3′間に電圧を印加すると、溶融試
料蒸発部2bの板厚の厚い部分から薄い部分へと温度勾
配を持つように加熱される。試料溶融溜め部2aの底板
部分が試料を溶融させるに十分な温度になると、溶融試
料蒸発部2bでは、溶融資料が蒸発部2bの最下部に到
達する前に蒸発が完了するに十分な温度になっている。
試料溶融溜め部21の底板付近において溶融した試料は
底板が傾斜しているため、メツシュ板あるいは板状部材
の下部を通過し、液膜状態で溶融試料蒸発部2bへ流れ
ていく。溶融試料は液膜化しているため、極めて蒸発し
や丁く、また液膜は過熱状態になりにくいので沸騰や突
沸を起こすことなく腹膜状態のまま静かに蒸発が行われ
る。
底板が傾斜しているため、メツシュ板あるいは板状部材
の下部を通過し、液膜状態で溶融試料蒸発部2bへ流れ
ていく。溶融試料は液膜化しているため、極めて蒸発し
や丁く、また液膜は過熱状態になりにくいので沸騰や突
沸を起こすことなく腹膜状態のまま静かに蒸発が行われ
る。
以上のように、本発明による蒸発源を用いることにより
、溶融試料の沸騰あるいは突沸現象を起こ丁ことなく、
真空蒸着を行なうことができる。
、溶融試料の沸騰あるいは突沸現象を起こ丁ことなく、
真空蒸着を行なうことができる。
また、蒸着試料に化合物を使用する様な場合でも、沸騰
あるいは突沸を起こしにくいよう工夫されていた従来の
ボートで生ずる分溜を起こしにくいという利点がある。
あるいは突沸を起こしにくいよう工夫されていた従来の
ボートで生ずる分溜を起こしにくいという利点がある。
以下、実施例および比較例により本発明の真空蒸着用蒸
発装置を説明する。
発装置を説明する。
比較例
第3図に示す構造の従来用いられているボート(ステン
レス0.5鱈、中央部門サイズ巾50mX長さ120■
×深さ10m)を使用して蒸発材料5s70tを装填し
、320℃迄6分で昇温、その後その温度で15分保持
し、蒸着を終了させた。なお蒸発源と基板との距離は3
0cm、真空度はlXl0−’Torr 、基板温度は
70℃とした。この時基板に付着した飛沫による蒸着面
の突起は、大小あわせて0.5個/dであった。
レス0.5鱈、中央部門サイズ巾50mX長さ120■
×深さ10m)を使用して蒸発材料5s70tを装填し
、320℃迄6分で昇温、その後その温度で15分保持
し、蒸着を終了させた。なお蒸発源と基板との距離は3
0cm、真空度はlXl0−’Torr 、基板温度は
70℃とした。この時基板に付着した飛沫による蒸着面
の突起は、大小あわせて0.5個/dであった。
実施例
第1図の本発明蒸着装置において、凹部サイズ巾70諺
×長さ150mX深さ最大20m、メツシュ3mφとし
、熱電対を溶融溜め底板部に取りつけた。
×長さ150mX深さ最大20m、メツシュ3mφとし
、熱電対を溶融溜め底板部に取りつけた。
Se 70 fを溶融溜めに装填し、250℃迄6分で
昇温し、その後その温度で20分保持し、蒸着を完了さ
せた。なお他の条件は比較例と同一で行った。この時基
板に付着した飛沫による蒸着面の突起は大小あわせて0
.01個/−であった。
昇温し、その後その温度で20分保持し、蒸着を完了さ
せた。なお他の条件は比較例と同一で行った。この時基
板に付着した飛沫による蒸着面の突起は大小あわせて0
.01個/−であった。
第1図(鳳)、(b)及び(C)は本発明による真空蒸
着用蒸発装置例の、それぞれ側面図、正面図及び平面図
であり、第2図は他の実施例の側面断面図であり、第3
図(@)及び(b)は従来の抵抗加熱型真空蒸着用蒸発
装置の平面図及び側面図である。 図中符号: 1・・・平板;2・・・溶融溜め;2鳳・・・試料溶融
溜め部:2b・・・溶融試料蒸発部:3,3’・・・電
圧印加部:4・・・仕切り板;5・・・底板。
着用蒸発装置例の、それぞれ側面図、正面図及び平面図
であり、第2図は他の実施例の側面断面図であり、第3
図(@)及び(b)は従来の抵抗加熱型真空蒸着用蒸発
装置の平面図及び側面図である。 図中符号: 1・・・平板;2・・・溶融溜め;2鳳・・・試料溶融
溜め部:2b・・・溶融試料蒸発部:3,3’・・・電
圧印加部:4・・・仕切り板;5・・・底板。
Claims (1)
- 蒸発物質を貯溜し溶融するボートと、このボート内の
蒸発物質を加熱する手段を具備する真空蒸着用蒸発装置
において、前記ボートの底板面に沿つて開口部を有する
仕切板でボート内を試料溶融溜め部と溶融試料蒸発部と
に分割したことを特徴とする真空蒸着用蒸発装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18003886A JPS6338570A (ja) | 1986-08-01 | 1986-08-01 | 真空蒸着用蒸発装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18003886A JPS6338570A (ja) | 1986-08-01 | 1986-08-01 | 真空蒸着用蒸発装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6338570A true JPS6338570A (ja) | 1988-02-19 |
Family
ID=16076393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18003886A Pending JPS6338570A (ja) | 1986-08-01 | 1986-08-01 | 真空蒸着用蒸発装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6338570A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20140101965A1 (en) * | 2012-10-11 | 2014-04-17 | Alan Richard Priebe | Applying heating liquid to remove moistening liquid |
-
1986
- 1986-08-01 JP JP18003886A patent/JPS6338570A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20140101965A1 (en) * | 2012-10-11 | 2014-04-17 | Alan Richard Priebe | Applying heating liquid to remove moistening liquid |
| US8904668B2 (en) * | 2012-10-11 | 2014-12-09 | Eastman Kodak Company | Applying heating liquid to remove moistening liquid |
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