JPS634067A - 蒸着用治具 - Google Patents
蒸着用治具Info
- Publication number
- JPS634067A JPS634067A JP14892786A JP14892786A JPS634067A JP S634067 A JPS634067 A JP S634067A JP 14892786 A JP14892786 A JP 14892786A JP 14892786 A JP14892786 A JP 14892786A JP S634067 A JPS634067 A JP S634067A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sensor
- vapor deposition
- slits
- deposited
- jig
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、蒸着金属膜厚検知センサのセンサ表面に蒸
着される金属量を減少させる蒸着用治具に関するもので
ある。
着される金属量を減少させる蒸着用治具に関するもので
ある。
蒸着金属膜厚検知センサには、水晶発振子が使用される
が、無蒸着時はこの水晶発振子は約６ＭＨｚで振動する
が、その表面に金属膜が蒸着されるにつれ、その振動数
が減少し、蒸着膜厚と振動数の相関から膜厚が求められ
る。この蒸着金属膜厚検知センサの使用期間を延ばすた
めに蒸着用治具が用いられる。
が、無蒸着時はこの水晶発振子は約６ＭＨｚで振動する
が、その表面に金属膜が蒸着されるにつれ、その振動数
が減少し、蒸着膜厚と振動数の相関から膜厚が求められ
る。この蒸着金属膜厚検知センサの使用期間を延ばすた
めに蒸着用治具が用いられる。
第２図は従来のこの種の蒸着用治具を示す拡大図であり
、図において、１は蒸着用治具の本体、２はこの本体１
に開けられた穴、３（よ蒸着金属膜厚検知センサ（以下
単にセンサという）で、特に、その該当部分、すなわち
飛来する蒸着金属が蒸着されるセンサ表面を示すもので
ある。また本体１はセンサ３に対し、静的に固定されて
いる。
、図において、１は蒸着用治具の本体、２はこの本体１
に開けられた穴、３（よ蒸着金属膜厚検知センサ（以下
単にセンサという）で、特に、その該当部分、すなわち
飛来する蒸着金属が蒸着されるセンサ表面を示すもので
ある。また本体１はセンサ３に対し、静的に固定されて
いる。
次に動作について説明する。
センサ３に対して静的に固定された本体１の、センサ表
面に向かって飛来する蒸着金属は、穴２の面積に応じて
減少してセンサ表面に蒸着される。
面に向かって飛来する蒸着金属は、穴２の面積に応じて
減少してセンサ表面に蒸着される。
従来の蒸着用治具は以上のように構成されているので、
センサ３を正常に動作させるためには、本体１に設けら
れた穴２は微細、かつ多数でなければならず、穴２の寸
法精度も高いことが必要で、治具作成のコストが非常に
高くなるなどの問題点があった。
センサ３を正常に動作させるためには、本体１に設けら
れた穴２は微細、かつ多数でなければならず、穴２の寸
法精度も高いことが必要で、治具作成のコストが非常に
高くなるなどの問題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するなめになさ
れたもので、加工が容易で、かつ安価にでき、精度の高
い蒸着用治具を得ることを目的とする。
れたもので、加工が容易で、かつ安価にでき、精度の高
い蒸着用治具を得ることを目的とする。
この発明に係る蒸着用治具は、円板に適宜な開口部を有
する所要数のスリットを中心部から半径方向に放射状に
形成した本体をその中心をセンサ表面に対して偏倚させ
、かつ回転自在に設けたものである。
する所要数のスリットを中心部から半径方向に放射状に
形成した本体をその中心をセンサ表面に対して偏倚させ
、かつ回転自在に設けたものである。
この発明においては、回転する本体の各スリットを通し
てセンサ表面に飛来する蒸着金属がスリットの幅と、こ
れに対応する非スリット部分の幅の比で定まる減少率に
より蒸着される。
てセンサ表面に飛来する蒸着金属がスリットの幅と、こ
れに対応する非スリット部分の幅の比で定まる減少率に
より蒸着される。
〔実施例〕
第１図はこの発明の一実施例を示す図で、１１は蒸着用
治具の本体、１２はこの本体１１に開けられなスリット
で、適宜な開口部を育し、中心部から半径方向に向けて
拡開する形状にそれぞれ形成され、かつ放射状に所要数
、例えば８本が形成される。そしてこの本体１１はセン
サ表面に対し偏倚して配置される。１３は前記本体１１
が回転する回転中心である。
治具の本体、１２はこの本体１１に開けられなスリット
で、適宜な開口部を育し、中心部から半径方向に向けて
拡開する形状にそれぞれ形成され、かつ放射状に所要数
、例えば８本が形成される。そしてこの本体１１はセン
サ表面に対し偏倚して配置される。１３は前記本体１１
が回転する回転中心である。
次に動作について説明する。
本体１１の回転中心１３をセンサ３に対して偏倚して位
置させ、その回転中心１３０回りに本体１１を回転させ
ると、センサ３に向かって飛来する蒸着金属は、スリッ
ト１２０幅と、これに対応する非スリット部分の幅の比
で定まる減少率によって回転数に依存することなく、セ
ンサ表面に蒸着される。この場合、スリット１２が先端
に行くに従って開いているが、センサ３が半径方向に移
動しても、回転中心１３を中心にしてどのような同心円
を描いてもその円周上において開口長とシールド長との
比は一定であり誤差を生じない。
置させ、その回転中心１３０回りに本体１１を回転させ
ると、センサ３に向かって飛来する蒸着金属は、スリッ
ト１２０幅と、これに対応する非スリット部分の幅の比
で定まる減少率によって回転数に依存することなく、セ
ンサ表面に蒸着される。この場合、スリット１２が先端
に行くに従って開いているが、センサ３が半径方向に移
動しても、回転中心１３を中心にしてどのような同心円
を描いてもその円周上において開口長とシールド長との
比は一定であり誤差を生じない。
なお、上記実施例ではスリット１２の数を８本のものを
示したが、スリット１２の数はこれに限定されるもので
はなく、またスリット１２の面積も特定されるものでは
なく、何％減少させるかは容易に計算可能であり、蒸着
金属膜厚の減少率に応じたパターンを形成すればよい。
示したが、スリット１２の数はこれに限定されるもので
はなく、またスリット１２の面積も特定されるものでは
なく、何％減少させるかは容易に計算可能であり、蒸着
金属膜厚の減少率に応じたパターンを形成すればよい。
この発明は以上説明したとおり、円板に所要数のスリッ
トを形成した本体を回転自在に設けたので、飛来する蒸
着金属はこのスリットを通してセンサ表面に蒸着される
。したがって、スリットの本数、または開口面積を蒸着
金属膜厚の減少率に応じて変えることによりセンサ表面
に蒸着される金属膜厚を検知することができる。またス
リットは従来の穴を用いたものより開口面積が大きいの
で、蒸着用治具が容易に、かつ安価にでき、また制御性
の良いものが得られる効果がある。
トを形成した本体を回転自在に設けたので、飛来する蒸
着金属はこのスリットを通してセンサ表面に蒸着される
。したがって、スリットの本数、または開口面積を蒸着
金属膜厚の減少率に応じて変えることによりセンサ表面
に蒸着される金属膜厚を検知することができる。またス
リットは従来の穴を用いたものより開口面積が大きいの
で、蒸着用治具が容易に、かつ安価にでき、また制御性
の良いものが得られる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による蒸着用治具を示す図
、第２図は従来の蒸着用治具を示す図である。 図において、３は蒸着金属膜厚検知センサ、１１は本体
、１２はスリット、１３は回転中心である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。
、第２図は従来の蒸着用治具を示す図である。 図において、３は蒸着金属膜厚検知センサ、１１は本体
、１２はスリット、１３は回転中心である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 蒸着金属膜厚検知センサに向かって飛来する蒸着金属量
を減少させてセンサ表面に蒸着させる蒸着用治具におい
て、円板に適宜な開口部を有する所要数のスリットを中
心部から半径方向に放射状に形成した本体を前記センサ
表面に対し偏倚させ、かつ回転自在に設けたことを特徴
とする蒸着用治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14892786A JPS634067A (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | 蒸着用治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14892786A JPS634067A (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | 蒸着用治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS634067A true JPS634067A (ja) | 1988-01-09 |
Family
ID=15463774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14892786A Pending JPS634067A (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | 蒸着用治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS634067A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4942063A (en) * | 1989-04-20 | 1990-07-17 | North American Philips Corporation | Method for controlling the thickness distribution of an interference filter |
| US4982695A (en) * | 1989-04-20 | 1991-01-08 | North American Philips Corporation | Method and apparatus for controlling the thickness distribution of an interference filter |
| KR100684739B1 (ko) | 2005-11-22 | 2007-02-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기물 증착장치 |
-
1986
- 1986-06-24 JP JP14892786A patent/JPS634067A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4942063A (en) * | 1989-04-20 | 1990-07-17 | North American Philips Corporation | Method for controlling the thickness distribution of an interference filter |
| US4982695A (en) * | 1989-04-20 | 1991-01-08 | North American Philips Corporation | Method and apparatus for controlling the thickness distribution of an interference filter |
| KR100684739B1 (ko) | 2005-11-22 | 2007-02-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기물 증착장치 |
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