JPS626640B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS626640B2 JPS626640B2 JP57012648A JP1264882A JPS626640B2 JP S626640 B2 JPS626640 B2 JP S626640B2 JP 57012648 A JP57012648 A JP 57012648A JP 1264882 A JP1264882 A JP 1264882A JP S626640 B2 JPS626640 B2 JP S626640B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film thickness
- substrate holder
- correction plate
- revolution
- rotation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、プラネタリー式成膜装置における
膜厚修正装置に関するものである。
膜厚修正装置に関するものである。
従来、公転型基板ホルダを備えた成膜装置にお
いて基板ホルダと蒸発源（又はターゲツト）との
間に固定修正板を設けることは提案されており、
また近年自公転型基板ホルダにも固定修正板を組
合せることが提案されてきた。しかし、このよう
な固定修正板では計算により修正板の形状を決め
ることは困難であり、試行錯誤によつて行なわれ
るが分布が複雑な場合には多数の試行が必要とな
り、また修正板でカツトしなくてよい部分まで蹴
られ蒸着の効率が悪くなる等の欠点がある。
いて基板ホルダと蒸発源（又はターゲツト）との
間に固定修正板を設けることは提案されており、
また近年自公転型基板ホルダにも固定修正板を組
合せることが提案されてきた。しかし、このよう
な固定修正板では計算により修正板の形状を決め
ることは困難であり、試行錯誤によつて行なわれ
るが分布が複雑な場合には多数の試行が必要とな
り、また修正板でカツトしなくてよい部分まで蹴
られ蒸着の効率が悪くなる等の欠点がある。
例えば自公転型基板ホルダの公転リング沿に固
定修正板を挿置する場合を考えると、自転と公転
との比によつて挿置すべき固定修正板の数が決ま
つてくる。しかし自公転型治具の特長として自転
と公転との比は割り切れないように設計されてお
り、１公転に対しては上記のように配置すればよ
いが、２公転目には基点がずれてしまい、従つて
修正板を固定することは不可となり、あえて固定
すると所望の修正分布が得られなくなる。このよ
うな理由で自公転型治具の修正板として固定修正
板を用いることは不適当である。すなわちシユビ
ヤーな分布の得られる条件を試行錯誤で求めるこ
とは実際問題として困難である。
定修正板を挿置する場合を考えると、自転と公転
との比によつて挿置すべき固定修正板の数が決ま
つてくる。しかし自公転型治具の特長として自転
と公転との比は割り切れないように設計されてお
り、１公転に対しては上記のように配置すればよ
いが、２公転目には基点がずれてしまい、従つて
修正板を固定することは不可となり、あえて固定
すると所望の修正分布が得られなくなる。このよ
うな理由で自公転型治具の修正板として固定修正
板を用いることは不適当である。すなわちシユビ
ヤーな分布の得られる条件を試行錯誤で求めるこ
とは実際問題として困難である。
この発明は自公転型基板ホルダを備えたプラネ
タリー式成膜装置に公転修正板を組合わせて成膜
厚を所望のように修正できるようにすることにあ
る。
タリー式成膜装置に公転修正板を組合わせて成膜
厚を所望のように修正できるようにすることにあ
る。
従つて、この発明によれば、自公転型基板ホル
ダの内側面に対向させてそれと共に公転する膜厚
修正板を設け、各膜厚修正板が組合さつた基板ホ
ルダの自転軸を中心として半径方向に沿つて一様
な膜厚分布をもたらすような広がりをもつことを
特徴とするプラネタリー式成膜装置における膜厚
修正装置が提供される。
ダの内側面に対向させてそれと共に公転する膜厚
修正板を設け、各膜厚修正板が組合さつた基板ホ
ルダの自転軸を中心として半径方向に沿つて一様
な膜厚分布をもたらすような広がりをもつことを
特徴とするプラネタリー式成膜装置における膜厚
修正装置が提供される。
以下この発明を添附図面を参照してさらに説明
する。
する。
第１，２図には、この発明を実施しているプラ
ネタリー式成膜装置を示し、１は蒸発源、２は公
転環状部材で、この公転環状部材２には取付けア
ーム３を介して基板ホルダ組立体４が取付けられ
ている。図示実施例では三つの基板ホルダ組立体
４がほぼ等間隔に配列されている。各基板ホルダ
組立体４は取付けアーム３に固定された回転軸受
５と摩擦車６と基板ホルダ７とから成り、各基板
ホルダ７は、摩擦車６が公転環状部材２の回転
（公転）により自転ホイール８上を転動すること
によつて回転（自転）する。基板ホルダ７の内側
面は、例えば多角形を構成する平板が恰かも花び
らのように一体となり、下方に位置した蒸発源１
に面向するように構成され得る。この発明におい
ては公転環状部材２に着脱可能に取付けられた取
付アーム９に公転膜厚修正板１０が設けられ、各
膜厚修正板１０は組合さつた基板ホルダ７の内側
面に相対して位置決めされ、基板ホルダ７の公転
と共に公転するように構成されている。
ネタリー式成膜装置を示し、１は蒸発源、２は公
転環状部材で、この公転環状部材２には取付けア
ーム３を介して基板ホルダ組立体４が取付けられ
ている。図示実施例では三つの基板ホルダ組立体
４がほぼ等間隔に配列されている。各基板ホルダ
組立体４は取付けアーム３に固定された回転軸受
５と摩擦車６と基板ホルダ７とから成り、各基板
ホルダ７は、摩擦車６が公転環状部材２の回転
（公転）により自転ホイール８上を転動すること
によつて回転（自転）する。基板ホルダ７の内側
面は、例えば多角形を構成する平板が恰かも花び
らのように一体となり、下方に位置した蒸発源１
に面向するように構成され得る。この発明におい
ては公転環状部材２に着脱可能に取付けられた取
付アーム９に公転膜厚修正板１０が設けられ、各
膜厚修正板１０は組合さつた基板ホルダ７の内側
面に相対して位置決めされ、基板ホルダ７の公転
と共に公転するように構成されている。
次に膜厚修正板１０の形状について説明する
と、まず修正板なしで成膜装置を作動させ、その
成膜厚分布データーを同一条件で繰返し測定し、
その平均の膜厚分布を第３図に示すようにして決
める。第３図においてToは平均分布曲線におけ
る最小膜厚値、Tiは基板ホルダ７の自転軸から
半径方向に沿つて距離Xiの位置における膜厚の
値を示す。従つて基板ホルダ７の自転軸から半径
方向に沿つて最小値Toより厚い部分（Ti）をカ
ツトすれば一様な成膜厚を得ることができる。そ
こで各部位の膜厚を最小値（To）に収欽させる
とすると、位置Xiにおける膜厚については自転
する全円周について考えなければならないので、 Ｔｉ―Ｔｏ／Ｔｉ×360゜＝θｉ で表わすことができ、従つてQiは自転軸を中心
として距離Xiの位置を通る全円周におけるマス
クすべき範囲を意味する。そこで自転軸から距離
X1〜Ｘoのｎ等分し、各位置を通る全円周につい
て同様にθ１〜θoを求め、そして第４図に示す
ように各位置を通る円周上の各点を求めたθの値
でプロツトし、それらの各点を結べばマスクすべ
き全体の形状を得ることができる。従つて修正板
７はこうして求めた形状に一致させて形成され、
しかも基板ホルダに対して位置決めされる。
と、まず修正板なしで成膜装置を作動させ、その
成膜厚分布データーを同一条件で繰返し測定し、
その平均の膜厚分布を第３図に示すようにして決
める。第３図においてToは平均分布曲線におけ
る最小膜厚値、Tiは基板ホルダ７の自転軸から
半径方向に沿つて距離Xiの位置における膜厚の
値を示す。従つて基板ホルダ７の自転軸から半径
方向に沿つて最小値Toより厚い部分（Ti）をカ
ツトすれば一様な成膜厚を得ることができる。そ
こで各部位の膜厚を最小値（To）に収欽させる
とすると、位置Xiにおける膜厚については自転
する全円周について考えなければならないので、 Ｔｉ―Ｔｏ／Ｔｉ×360゜＝θｉ で表わすことができ、従つてQiは自転軸を中心
として距離Xiの位置を通る全円周におけるマス
クすべき範囲を意味する。そこで自転軸から距離
X1〜Ｘoのｎ等分し、各位置を通る全円周につい
て同様にθ１〜θoを求め、そして第４図に示す
ように各位置を通る円周上の各点を求めたθの値
でプロツトし、それらの各点を結べばマスクすべ
き全体の形状を得ることができる。従つて修正板
７はこうして求めた形状に一致させて形成され、
しかも基板ホルダに対して位置決めされる。
なお膜厚分布の指向性が非常に大きい場合には
修正板のマスク面を第５図に示すように分割し、
基板ホルダの中心軸を利用し、振動防止させるこ
とができる。
修正板のマスク面を第５図に示すように分割し、
基板ホルダの中心軸を利用し、振動防止させるこ
とができる。
以上説明してきたようにこの発明によれば従来
のように試行錯誤によらずに所望の膜厚分布をも
たらす公転膜厚修正板を構成することができ、そ
してカツトしなくてよい部分への影響を最小とす
ることが出来るため、成膜効率を低下させること
がなく、さらには薄膜の膜厚分布修正にも適した
成膜装置を得ることができる。従つて例えば±５
％のばらつきも許されない成膜にも十分適用でき
る膜厚分布を得ることができる。
のように試行錯誤によらずに所望の膜厚分布をも
たらす公転膜厚修正板を構成することができ、そ
してカツトしなくてよい部分への影響を最小とす
ることが出来るため、成膜効率を低下させること
がなく、さらには薄膜の膜厚分布修正にも適した
成膜装置を得ることができる。従つて例えば±５
％のばらつきも許されない成膜にも十分適用でき
る膜厚分布を得ることができる。
第１図はこの発明の一実施例を示す概略斜視
図、第２図は第１図の一部を拡大して示す断面
図、第３図は修正板なしの平均膜厚分布を示す曲
線、第４図は修正板の形状の決め方を示す説明
図、第５図は修正板の変形例を示す図である。 図中、１：蒸発源、２：公転環状部材、７：基
板ホルダ、１０：膜厚修正板。
図、第２図は第１図の一部を拡大して示す断面
図、第３図は修正板なしの平均膜厚分布を示す曲
線、第４図は修正板の形状の決め方を示す説明
図、第５図は修正板の変形例を示す図である。 図中、１：蒸発源、２：公転環状部材、７：基
板ホルダ、１０：膜厚修正板。
Claims (1)
- １ 蒸発源（又はターゲツト）および蒸発源（又
はターゲツト）を通る軸を中心として回転する公
転支持体に回転自在に支持された少なくとも一つ
の自公転型基板ホルダを有するプラネタリー式成
膜装置において、各基板ホルダの内側面に対向し
てそれと共に公転する膜厚修正板を設け、各膜厚
修正板が組合さつた基板ホルダの自転軸を中心と
して半径方向に沿つて一様な膜厚分布をもたらす
ような広がりをもつことを特徴とする膜厚修正装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1264882A JPS58131129A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | プラネタリ−式成膜装置における膜厚修正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1264882A JPS58131129A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | プラネタリ−式成膜装置における膜厚修正装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58131129A JPS58131129A (ja) | 1983-08-04 |
| JPS626640B2 true JPS626640B2 (ja) | 1987-02-12 |
Family
ID=11811182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1264882A Granted JPS58131129A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | プラネタリ−式成膜装置における膜厚修正装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58131129A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2002304649A1 (en) * | 2002-03-28 | 2003-10-13 | Satis Vacuum Industries S.P.A. | Vacuum deposition apparatus and method for depositing thin optical films on high curvature substrates |
| CN103088298B (zh) * | 2011-10-31 | 2016-05-11 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 镀膜修正板及镀膜装置 |
| CN120844027A (zh) * | 2025-09-23 | 2025-10-28 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 一种镀膜设备及线性渐变滤光片膜厚均匀性修正方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5213511A (en) * | 1975-07-22 | 1977-02-01 | Kanebo Ltd | Composite of alkaliiproof glass and alakliiproof glass fiber |
-
1982
- 1982-01-29 JP JP1264882A patent/JPS58131129A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58131129A (ja) | 1983-08-04 |
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