JPS6343863B2 - - Google Patents
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- JPS6343863B2 JPS6343863B2 JP1317480A JP1317480A JPS6343863B2 JP S6343863 B2 JPS6343863 B2 JP S6343863B2 JP 1317480 A JP1317480 A JP 1317480A JP 1317480 A JP1317480 A JP 1317480A JP S6343863 B2 JPS6343863 B2 JP S6343863B2
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- Japan
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- valve
- gas
- pressure
- filling
- box
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- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 15
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/38—Exhausting, degassing, filling, or cleaning vessels
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、環形螢光ランプの製造方法に関し、
特にバルブの曲成準備工程におけるバルブへの不
活性ガスの充填方法の改良に関するものである。
特にバルブの曲成準備工程におけるバルブへの不
活性ガスの充填方法の改良に関するものである。
一般に、環形螢光ランプは直管状のバルブの内
周面に螢光膜を塗布する工程、このバルブの両端
に電極を具えたステムを封着する工程、バルブを
加熱しながらバルブ内に不活性ガスを充填する工
程、及び加熱されて軟化したバルブを環形に曲成
する工程を経て製造されている。例えば、不活性
ガスを充填する曲成準備工程から曲成工程を従来
は第１図乃至第４図に示すような装置を用いて後
述要領で行つていた。
周面に螢光膜を塗布する工程、このバルブの両端
に電極を具えたステムを封着する工程、バルブを
加熱しながらバルブ内に不活性ガスを充填する工
程、及び加熱されて軟化したバルブを環形に曲成
する工程を経て製造されている。例えば、不活性
ガスを充填する曲成準備工程から曲成工程を従来
は第１図乃至第４図に示すような装置を用いて後
述要領で行つていた。
上記第１図乃至第４図に於いて、１は間歇回転
する回転側のセンターバルブ、２はセンターバル
ブ１と共に間歇回転するターンテーブル（図示せ
ず）の上面周辺部に複数個を等間隔で配置したヘ
ツド、３は各ヘツド２に排気管４を介して取付け
られたバルブ、５はセンターバルブ１を載置する
固定側のセンターバルブである。回転側のセンタ
ーバルブ１は固定側のセンターバルブ５上を間歇
回転して、各ヘツド２を順次ポジシヨンＡ，Ｂ，
Ｃ、…へと送る。又、固定側のセンターバルブ５
の、例えばポジシヨンＡには真空引き機構６が配
備され（第２図参照）、次のポジシヨンＢには不
活性ガスの充填機構７が配備され（第３図参照）、
更に所要のポジシヨンＣ，Ｄ、…の先にあるポジ
シヨンＭにはバルブの曲成機構（図示せず）が配
備されている。
する回転側のセンターバルブ、２はセンターバル
ブ１と共に間歇回転するターンテーブル（図示せ
ず）の上面周辺部に複数個を等間隔で配置したヘ
ツド、３は各ヘツド２に排気管４を介して取付け
られたバルブ、５はセンターバルブ１を載置する
固定側のセンターバルブである。回転側のセンタ
ーバルブ１は固定側のセンターバルブ５上を間歇
回転して、各ヘツド２を順次ポジシヨンＡ，Ｂ，
Ｃ、…へと送る。又、固定側のセンターバルブ５
の、例えばポジシヨンＡには真空引き機構６が配
備され（第２図参照）、次のポジシヨンＢには不
活性ガスの充填機構７が配備され（第３図参照）、
更に所要のポジシヨンＣ，Ｄ、…の先にあるポジ
シヨンＭにはバルブの曲成機構（図示せず）が配
備されている。
まず、ヘツド２に装着された直管状のバルブ３
が加熱炉８中で加熱されながらセンターバルブ１
の間歇回転に伴つてポジシヨンＡにくると、ここ
でバルブ３内が真空引き機構６によつて真空引き
される。そしてセンターバルブ１が１ピツチ間歇
回転してバルブ３が次のポジシヨンＢにくると、
バルブ３内と不活性ガスの充填機構７とが直結さ
れて、バルブ３内に不活性ガス、例えばN2ガス
が充填される。このN2ガスの充填速度はオリフ
イス９の内径を一定の大きさにしておくことによ
り、バルブ３の内周面に塗布した螢光膜を剥離さ
せない程度の速さに調整されている。尚、オリフ
イス９はガラス、金属などの棒状体の軸中心に小
孔を形成して構成されている。又、バルブ３は加
熱され続けて徐々に軟化しているため、N2ガス
の充填はバルブ内圧が大気圧より若干高めになる
まで行われる。即ち、N2ガスの充填圧が大気圧
より余り高くなり過ぎると、軟化したバルブ３が
内圧で膨出し、逆にN2ガスの充填ガスの充填圧
が大気圧より余り低いとバルブ３が凹むため、
N2ガスの充填でバルブ内圧を大気圧より若干高
めにして、バルブ３の軟化に伴う変形を防止して
いる。またN2ガスの充填によつて、バルブ３の
両端に封着した電極の酸化を防止している。この
ようなN2ガスの充填がポジシヨンＢだけでは十
分に間に合わない場合は、次のポジシヨンＣにも
充填機構を設けて、このポジシヨンＣでもN2ガ
ス充填を行うようにしている。
が加熱炉８中で加熱されながらセンターバルブ１
の間歇回転に伴つてポジシヨンＡにくると、ここ
でバルブ３内が真空引き機構６によつて真空引き
される。そしてセンターバルブ１が１ピツチ間歇
回転してバルブ３が次のポジシヨンＢにくると、
バルブ３内と不活性ガスの充填機構７とが直結さ
れて、バルブ３内に不活性ガス、例えばN2ガス
が充填される。このN2ガスの充填速度はオリフ
イス９の内径を一定の大きさにしておくことによ
り、バルブ３の内周面に塗布した螢光膜を剥離さ
せない程度の速さに調整されている。尚、オリフ
イス９はガラス、金属などの棒状体の軸中心に小
孔を形成して構成されている。又、バルブ３は加
熱され続けて徐々に軟化しているため、N2ガス
の充填はバルブ内圧が大気圧より若干高めになる
まで行われる。即ち、N2ガスの充填圧が大気圧
より余り高くなり過ぎると、軟化したバルブ３が
内圧で膨出し、逆にN2ガスの充填ガスの充填圧
が大気圧より余り低いとバルブ３が凹むため、
N2ガスの充填でバルブ内圧を大気圧より若干高
めにして、バルブ３の軟化に伴う変形を防止して
いる。またN2ガスの充填によつて、バルブ３の
両端に封着した電極の酸化を防止している。この
ようなN2ガスの充填がポジシヨンＢだけでは十
分に間に合わない場合は、次のポジシヨンＣにも
充填機構を設けて、このポジシヨンＣでもN2ガ
ス充填を行うようにしている。
そして、ポジシヨンＢでN2ガスの一定圧の充
填が完了すると、バルブ３はセンターバルブ１の
間歇回転毎にポジシヨンＣからポジシヨンＤ、ポ
ジシヨンＤからポジシヨンＥ、…へと順次に送ら
れ、この各ポジシヨンＣ，Ｄ、…の移動中に更に
加熱されて軟化し、十分に軟化したところでポジ
シヨンＭにきて、ここでバルブ３は環状に曲げ加
工される。このポジシヨンＣから曲成ポジシヨン
Ｍの区間のバルブ３は第４図に示すように大気開
放される。即ち、ポジシヨンＢでバルブ３内に
N2ガスを大気圧より若干高めに充填しておけば、
その後にバルブ３は加熱され続けるので、バルブ
内圧が上ることはあつても下ることはなく、従つ
て大気開放しても空気がバルブ３内に流入する心
配はない。又、大気開放しなければバルブ３の内
圧が上り過ぎて、バルブ３が変形する恐れがあ
る。
填が完了すると、バルブ３はセンターバルブ１の
間歇回転毎にポジシヨンＣからポジシヨンＤ、ポ
ジシヨンＤからポジシヨンＥ、…へと順次に送ら
れ、この各ポジシヨンＣ，Ｄ、…の移動中に更に
加熱されて軟化し、十分に軟化したところでポジ
シヨンＭにきて、ここでバルブ３は環状に曲げ加
工される。このポジシヨンＣから曲成ポジシヨン
Ｍの区間のバルブ３は第４図に示すように大気開
放される。即ち、ポジシヨンＢでバルブ３内に
N2ガスを大気圧より若干高めに充填しておけば、
その後にバルブ３は加熱され続けるので、バルブ
内圧が上ることはあつても下ることはなく、従つ
て大気開放しても空気がバルブ３内に流入する心
配はない。又、大気開放しなければバルブ３の内
圧が上り過ぎて、バルブ３が変形する恐れがあ
る。
ところで、上記製造工程に於いて、N2ガス充
填のポジシヨンＢに次の問題点があつた。つま
り、バルブ３へのN2ガスの充填速度をオリフイ
ス９の内径とN2ガスの元圧Ｐで調整しているが、
加熱炉の温度変動やバルブ３の肉厚の変動のため
に、インデツクスを絶えず変化させる必要があ
り、バルブ３の充填圧にバラツキが生じた。即
ち、インデツクスが早くなげば、バルブ３の充填
圧は小さくなり、インデツクスが遅くなければ、
バルブ３の充填圧は大きくなる。さらにオリフイ
ス９の真空グリス、ほこりなどに起困する微少な
詰りなどの条件変化により、バルブ３の充填圧の
バラツキはさらに大きくなつていた。尚、電磁弁
１３はオリフイス９に比し内径が大きいので、詰
まることは全くない。そのため、N2ガスの充填
圧が、例えば大気圧より高過ぎるとバルブ３が膨
出し、また充填圧が大気圧以下だと、次の大気開
放時にバルブ３内に空気が入り、電極が酸化され
る等のトラブルが生じた。
填のポジシヨンＢに次の問題点があつた。つま
り、バルブ３へのN2ガスの充填速度をオリフイ
ス９の内径とN2ガスの元圧Ｐで調整しているが、
加熱炉の温度変動やバルブ３の肉厚の変動のため
に、インデツクスを絶えず変化させる必要があ
り、バルブ３の充填圧にバラツキが生じた。即
ち、インデツクスが早くなげば、バルブ３の充填
圧は小さくなり、インデツクスが遅くなければ、
バルブ３の充填圧は大きくなる。さらにオリフイ
ス９の真空グリス、ほこりなどに起困する微少な
詰りなどの条件変化により、バルブ３の充填圧の
バラツキはさらに大きくなつていた。尚、電磁弁
１３はオリフイス９に比し内径が大きいので、詰
まることは全くない。そのため、N2ガスの充填
圧が、例えば大気圧より高過ぎるとバルブ３が膨
出し、また充填圧が大気圧以下だと、次の大気開
放時にバルブ３内に空気が入り、電極が酸化され
る等のトラブルが生じた。
本発明は上記従来の問題点に鑑み、これを解決
したもので、バルブへの不活性ガス充填回路の一
部に大気圧より若干高めの一定圧で不活性ガスを
常時充填したガスボツクスを設け、このガスボツ
クス内にバルブを開放させて、バルブ内の不活性
ガス充填圧が常に一定になるようにした製造方法
を提供する。以下、本発明を図面の実施例を参照
して説明する。
したもので、バルブへの不活性ガス充填回路の一
部に大気圧より若干高めの一定圧で不活性ガスを
常時充填したガスボツクスを設け、このガスボツ
クス内にバルブを開放させて、バルブ内の不活性
ガス充填圧が常に一定になるようにした製造方法
を提供する。以下、本発明を図面の実施例を参照
して説明する。
例えば、第１図に示した装置に本発明を適用し
た例を第５図乃至第７図に示すと、１０はポジシ
ヨンＢに配備した不活性ガスの第１の充填機構、
１１はポジシヨンＣに配備した不活性ガスの第２
の充填機構で、他の同一符号は上記従来と同一物
を示す。第１の充填機構１０はオリフイス９を介
してバルブ３に不活性ガス、例えばN2ガスを充
填する充填回路１２のオリフイス弁９より後方の
一部に電磁弁１３を介してガスボツクス１４を直
結した構成を有する。このガスボツクス１４は
N2ガスの入口１４ａと、大気中に開口した出口
１４ｂとが設けられ、入口１４ａからガスボツク
ス１４内にN2ガスが常時供給されて、ガスボツ
クス１４内にはN2ガスが大気圧より若干高めの
一定圧まで常時充填されている。又、前記電磁弁
１３は一定のタイミング信号でもつて開き、N2
ガス充填は閉じている。又、ポジシヨンＣに於け
る第２の充填機構１１は第１の充填機構１０のガ
スボツクス１４と同様なガスボツクス１５を有す
る。このガスボツクス１５は固定側のセンターバ
ルブ５のガス充填回路１２′に直結され、又、N2
ガスの入口１５ａと出口１５ｂを有し、内部には
大気圧より若干高めの一定圧力でN2ガスが常時
充填されている。尚、ガスボツクス１４，１５は
図示のように、それからバルブ３に至る経路の容
積に比し充分に大きくなるように設定されてい
る。
た例を第５図乃至第７図に示すと、１０はポジシ
ヨンＢに配備した不活性ガスの第１の充填機構、
１１はポジシヨンＣに配備した不活性ガスの第２
の充填機構で、他の同一符号は上記従来と同一物
を示す。第１の充填機構１０はオリフイス９を介
してバルブ３に不活性ガス、例えばN2ガスを充
填する充填回路１２のオリフイス弁９より後方の
一部に電磁弁１３を介してガスボツクス１４を直
結した構成を有する。このガスボツクス１４は
N2ガスの入口１４ａと、大気中に開口した出口
１４ｂとが設けられ、入口１４ａからガスボツク
ス１４内にN2ガスが常時供給されて、ガスボツ
クス１４内にはN2ガスが大気圧より若干高めの
一定圧まで常時充填されている。又、前記電磁弁
１３は一定のタイミング信号でもつて開き、N2
ガス充填は閉じている。又、ポジシヨンＣに於け
る第２の充填機構１１は第１の充填機構１０のガ
スボツクス１４と同様なガスボツクス１５を有す
る。このガスボツクス１５は固定側のセンターバ
ルブ５のガス充填回路１２′に直結され、又、N2
ガスの入口１５ａと出口１５ｂを有し、内部には
大気圧より若干高めの一定圧力でN2ガスが常時
充填されている。尚、ガスボツクス１４，１５は
図示のように、それからバルブ３に至る経路の容
積に比し充分に大きくなるように設定されてい
る。
次に上記構成による動作を順次説明する。まず
ポジシヨンＡでもつてバルブ３は従来同様に真空
引きされる。そして、回転側のセンターバルブ１
の１ピツチ間歇回転にてバルブ３がポジシヨンＢ
にくると、ここでオリフイス９を通つたN2ガス
が所定の速度でバルブ３内に充填される。この
時、電磁弁１３は閉じている。そして、一定時間
経過後に電磁弁１３が開き、ガスボツクス１４と
バルブ３とが連結（連通）される。この時、電磁
弁１３の開く直前のバルブ３内のN2ガス充填圧
がガスボツクス１４内のN2ガス圧より低い場合
にはガスボツクス１４内のN2ガスがバルブ３へ
と流入し、逆にバルブ３内のN2ガス充填圧がガ
スボツクス１４内のN2ガス圧より高ければバル
ブ３内のN2ガスがガスボツクス１４内へ流出し
ていく。いずれの場合にせよ、電磁弁１３の開放
状態によつてバルブ３内のN2ガス充填圧はガス
ボツクス１４内の圧力、即ち大気圧より若干高め
の一定圧に自動調整される。そして、一定時間経
過後、電磁弁１３は再び閉じ、センターバルブ１
が更に１ピツチ間歇回転して、バルブ３はポジシ
ヨンＣにくる。このポジシヨンＣにくるとバルブ
３はガスボツクス１５に連結される。この時、バ
ルブ３のN2ガス充填圧がガスボツクス１５のガ
ス圧より低ければ、ガスボツクス１５のN2ガス
がバルブ３へ流入し、バルブ３のN2ガス充填圧
がガスボツクス１５のN2ガス圧より高ければ、
バルブ３よりガスボツクス１５へ流出する。結局
バルブ３の内圧はガスボツクス１５の内圧、つま
り大気圧より若干高めの一定圧に再度自動調整さ
れる。
ポジシヨンＡでもつてバルブ３は従来同様に真空
引きされる。そして、回転側のセンターバルブ１
の１ピツチ間歇回転にてバルブ３がポジシヨンＢ
にくると、ここでオリフイス９を通つたN2ガス
が所定の速度でバルブ３内に充填される。この
時、電磁弁１３は閉じている。そして、一定時間
経過後に電磁弁１３が開き、ガスボツクス１４と
バルブ３とが連結（連通）される。この時、電磁
弁１３の開く直前のバルブ３内のN2ガス充填圧
がガスボツクス１４内のN2ガス圧より低い場合
にはガスボツクス１４内のN2ガスがバルブ３へ
と流入し、逆にバルブ３内のN2ガス充填圧がガ
スボツクス１４内のN2ガス圧より高ければバル
ブ３内のN2ガスがガスボツクス１４内へ流出し
ていく。いずれの場合にせよ、電磁弁１３の開放
状態によつてバルブ３内のN2ガス充填圧はガス
ボツクス１４内の圧力、即ち大気圧より若干高め
の一定圧に自動調整される。そして、一定時間経
過後、電磁弁１３は再び閉じ、センターバルブ１
が更に１ピツチ間歇回転して、バルブ３はポジシ
ヨンＣにくる。このポジシヨンＣにくるとバルブ
３はガスボツクス１５に連結される。この時、バ
ルブ３のN2ガス充填圧がガスボツクス１５のガ
ス圧より低ければ、ガスボツクス１５のN2ガス
がバルブ３へ流入し、バルブ３のN2ガス充填圧
がガスボツクス１５のN2ガス圧より高ければ、
バルブ３よりガスボツクス１５へ流出する。結局
バルブ３の内圧はガスボツクス１５の内圧、つま
り大気圧より若干高めの一定圧に再度自動調整さ
れる。
このように、ポジシヨンＢとポジシヨンＣの２
段階にわたつてバルブ３にN2ガスが充填され、
且つ充填圧が一定に自動調整されるため、充填圧
のバラツキは完全に解消される。そして、N2ガ
スが一定圧で充填されたバルブ３は更に次のポジ
シヨンＤ以降を移動し、ポジシヨンＭで曲げ加工
される。このポジシヨンＤはバルブ３を大気開放
する。この大気開放時、バルブ３の内圧が確実に
大気圧より若干高めのため、空気がバルブ３内に
流入する恐れは全くない。
段階にわたつてバルブ３にN2ガスが充填され、
且つ充填圧が一定に自動調整されるため、充填圧
のバラツキは完全に解消される。そして、N2ガ
スが一定圧で充填されたバルブ３は更に次のポジ
シヨンＤ以降を移動し、ポジシヨンＭで曲げ加工
される。このポジシヨンＤはバルブ３を大気開放
する。この大気開放時、バルブ３の内圧が確実に
大気圧より若干高めのため、空気がバルブ３内に
流入する恐れは全くない。
尚、上記構成は２つのポジシヨンＢ，Ｃに２つ
のガスボツクス１４，１５を夫々に配備したが、
この例に限らず、例えば２つのガスボツクス１
４，１５をいずれか１つに統一したり、インデツ
クスに応じて更に多くのポジシヨンにガスボツク
スを配備したり、或いは１つのポジシヨンだけに
配備する等の応用が可能である。
のガスボツクス１４，１５を夫々に配備したが、
この例に限らず、例えば２つのガスボツクス１
４，１５をいずれか１つに統一したり、インデツ
クスに応じて更に多くのポジシヨンにガスボツク
スを配備したり、或いは１つのポジシヨンだけに
配備する等の応用が可能である。
以上説明したように、本発明によればガスボツ
クスにバルブを連結することにより、バルブ内の
不活性ガスの充填圧にバラツキがあつても、必ず
ガスボツクス内の充填圧、つまり大気圧より若干
高めの一定圧に自動調整されるため、後で、大気
開放しても空気がバルブ内に流入する恐れがな
く、バルブの変形や電極酸化のトラブルが解消さ
れ、製品の良品率の大幅な向上が図れる。更に、
ガスボツクスによるバルブ内圧の自動調整によ
り、バルブに不活性ガスを充填する充填回路での
条件変化、例えばオリフイスの詰まり、加熱炉の
温度変化などによる影響がなくなり、バルブの変
形や電極の酸化が防止できる。
クスにバルブを連結することにより、バルブ内の
不活性ガスの充填圧にバラツキがあつても、必ず
ガスボツクス内の充填圧、つまり大気圧より若干
高めの一定圧に自動調整されるため、後で、大気
開放しても空気がバルブ内に流入する恐れがな
く、バルブの変形や電極酸化のトラブルが解消さ
れ、製品の良品率の大幅な向上が図れる。更に、
ガスボツクスによるバルブ内圧の自動調整によ
り、バルブに不活性ガスを充填する充填回路での
条件変化、例えばオリフイスの詰まり、加熱炉の
温度変化などによる影響がなくなり、バルブの変
形や電極の酸化が防止できる。
第１図は従来の環形螢光ランプ製造方法を説明
する装置の一部概略平面図、第２図は第１図T1
―T1線の断面図、第３図は第１図T2―T2線の断
面図、第４図は第１図T3―T3線の断面図、第５
図は本発明による環形螢光ランプ製造方法を実施
する装置の一例を示す一部概略平面図、第６図は
第５図T4―T4線の断面図、第７図は第５図T5―
T5線の断面図である。 ３……バルブ、１２，１２′……充填回路、１
４，１５……ガスボツクス。
する装置の一部概略平面図、第２図は第１図T1
―T1線の断面図、第３図は第１図T2―T2線の断
面図、第４図は第１図T3―T3線の断面図、第５
図は本発明による環形螢光ランプ製造方法を実施
する装置の一例を示す一部概略平面図、第６図は
第５図T4―T4線の断面図、第７図は第５図T5―
T5線の断面図である。 ３……バルブ、１２，１２′……充填回路、１
４，１５……ガスボツクス。
Claims (1)
- １ 不活性ガスを大気圧より若干高い目に充填し
たバルブを加熱軟化させて環形に曲成するに先立
つて、不活性ガスの充填回路に大気圧より若干高
い圧力で不活性ガスを常時充填し、かつ大気に開
放しているガスボツクスにバルブを連結すること
を特徴とする環形螢光ランプの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1317480A JPS56109435A (en) | 1980-02-05 | 1980-02-05 | Manufacture of circular fluorescent lamp |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1317480A JPS56109435A (en) | 1980-02-05 | 1980-02-05 | Manufacture of circular fluorescent lamp |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56109435A JPS56109435A (en) | 1981-08-29 |
| JPS6343863B2 true JPS6343863B2 (ja) | 1988-09-01 |
Family
ID=11825813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1317480A Granted JPS56109435A (en) | 1980-02-05 | 1980-02-05 | Manufacture of circular fluorescent lamp |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56109435A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02129902U (ja) * | 1989-04-03 | 1990-10-26 |
-
1980
- 1980-02-05 JP JP1317480A patent/JPS56109435A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02129902U (ja) * | 1989-04-03 | 1990-10-26 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56109435A (en) | 1981-08-29 |
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