JPS6344106A - 膜厚測定方法 - Google Patents
膜厚測定方法Info
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- JPS6344106A JPS6344106A JP18787886A JP18787886A JPS6344106A JP S6344106 A JPS6344106 A JP S6344106A JP 18787886 A JP18787886 A JP 18787886A JP 18787886 A JP18787886 A JP 18787886A JP S6344106 A JPS6344106 A JP S6344106A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の属する分野]
本発明は、膜厚(膜の厚さ)測定方法に関し、詳しくは
薄膜特に半導体工程でのシリコン上の酸化膜等のように
ミクロンメータ以下の厚さである薄膜の厚さ算出方法に
関する。
薄膜特に半導体工程でのシリコン上の酸化膜等のように
ミクロンメータ以下の厚さである薄膜の厚さ算出方法に
関する。
[従来の技術]
まず、従来より利用されている膜厚測定方法における基
本的な膜厚検出の測定原理について第5図(a) (
b)を用いて以下説明する。
本的な膜厚検出の測定原理について第5図(a) (
b)を用いて以下説明する。
媒質の屈折率を入射側からに11 k21 k3とし、
いま測定しようとする膜厚をdとする。使用波長(真空
中での波長え。)の各々の入射角をθ8.θ2.θ3と
する。この時の振巾反射率Yは次のようになる。
いま測定しようとする膜厚をdとする。使用波長(真空
中での波長え。)の各々の入射角をθ8.θ2.θ3と
する。この時の振巾反射率Yは次のようになる。
〔参考: M、Born and E、Wolf著、“
Pr1nciplesof 0ptics″3rd e
dition、PERGAMON PRESS、52頁
) ここでY1□は媒質■と■の境界でのフレネルの反射係
数で、Y23は媒質■と■の境界でのフレネルの反射係
数であり、βは である。実際、測定可能な量は、反射強度すなわちR=
lY12 (通常反射率と呼ぶ)であり、次のようにな
る。
Pr1nciplesof 0ptics″3rd e
dition、PERGAMON PRESS、52頁
) ここでY1□は媒質■と■の境界でのフレネルの反射係
数で、Y23は媒質■と■の境界でのフレネルの反射係
数であり、βは である。実際、測定可能な量は、反射強度すなわちR=
lY12 (通常反射率と呼ぶ)であり、次のようにな
る。
ここで、(2)式をえに関して微分し、R′=0となる
ようなβを求めるとsin 2β=0となり、2β=N
・2π ・・・・・・(3)が求まる。ただし
、Nは整数である。
ようなβを求めるとsin 2β=0となり、2β=N
・2π ・・・・・・(3)が求まる。ただし
、Nは整数である。
ところで、反射率が極大値をとる波長をλ、。
k2とすると、このときのβ8.β2は、ここで、nl
、n2はそれぞれ波長λ2.え。
、n2はそれぞれ波長λ2.え。
での屈折率である。従って、(3)式よりとなり、
a cosθ2=−・
2 n2xi/λ2−nlX1/λ1ここで、θ
2=0とするとdは次式で求めることができる。
2=0とするとdは次式で求めることができる。
・・・・・・・・(4−1)
また、同様の方法により、反射率が極小値をとる波長λ
5、k4についても、このλ3.λ4およびそれぞれの
波長での屈折率n3+n4より、膜厚dを得ることがで
きる。
5、k4についても、このλ3.λ4およびそれぞれの
波長での屈折率n3+n4より、膜厚dを得ることがで
きる。
・・・・・・・・(4−2)
さらに、極大値と極小値λ1.λ3を使用することによ
り、 ・・・・・・・・(4−3) で膜厚を得ることができる。
り、 ・・・・・・・・(4−3) で膜厚を得ることができる。
このように、従来は上述の測定原理に基づき膜厚測定を
していた。
していた。
[発明が解決しようとする問題点]
ところが、上記の方法によると、波長の測定範囲に少な
くとも2つの極値が存在しないと、膜厚の算出が不可能
であるという欠点があった。
くとも2つの極値が存在しないと、膜厚の算出が不可能
であるという欠点があった。
また、もし波長範囲が固定されていれば、極値が1個以
下しか存在しない場合でも、波長範囲から取り得る膜厚
の範囲が分かり(例えば、波長範囲が 400 n m
〜800 n mで極値がない場合はnd=toon
m以下)、近似により極値の存在する波長を得て、膜厚
を求めることが可能である。しかし、この場合でも、例
えば、レジスト等の膜を測定する場合には近紫外の光を
投射すると露光してしまうため測定の波長範囲を短波長
から長波長側にシフトさせる必要があった。
下しか存在しない場合でも、波長範囲から取り得る膜厚
の範囲が分かり(例えば、波長範囲が 400 n m
〜800 n mで極値がない場合はnd=toon
m以下)、近似により極値の存在する波長を得て、膜厚
を求めることが可能である。しかし、この場合でも、例
えば、レジスト等の膜を測定する場合には近紫外の光を
投射すると露光してしまうため測定の波長範囲を短波長
から長波長側にシフトさせる必要があった。
本発明は、上述の従来形の問題点に鑑み、試料に照射す
る光の測定波長範囲内で波長を変化させた場合に、極値
が1個しか存在しなくても、あるいは極値が存在しなく
ても、膜厚の計算を可能にする膜厚測定方法を提供する
ことを目的とする。
る光の測定波長範囲内で波長を変化させた場合に、極値
が1個しか存在しなくても、あるいは極値が存在しなく
ても、膜厚の計算を可能にする膜厚測定方法を提供する
ことを目的とする。
[問題点を解決するための手段および作用]上記の目的
を達成するため、本発明の膜厚測定方法は、試料の分光
反射率の極値の間隔より膜厚を測定する方法において、
分光反射率の測定範囲内に極値が1個あるいは0個しか
存在しない場合においても、測定開始の波長と反射率お
よび測定終了の波長と反射率等の値から分光反射率曲線
を多項式等により近似し、この近似式と試料の分光反射
率の理論上の最大値と交わる点を極大値をとる波長とし
、理論上の最小値と交わる点を極小値をとる波長として
、上記にて求められた極大値と極小値の波長を用いて膜
厚を検出することを特徴とする。
を達成するため、本発明の膜厚測定方法は、試料の分光
反射率の極値の間隔より膜厚を測定する方法において、
分光反射率の測定範囲内に極値が1個あるいは0個しか
存在しない場合においても、測定開始の波長と反射率お
よび測定終了の波長と反射率等の値から分光反射率曲線
を多項式等により近似し、この近似式と試料の分光反射
率の理論上の最大値と交わる点を極大値をとる波長とし
、理論上の最小値と交わる点を極小値をとる波長として
、上記にて求められた極大値と極小値の波長を用いて膜
厚を検出することを特徴とする。
膜厚からの分光反射率は、一般に下式(5)によって与
えられる。
えられる。
・・・・・・(5)
ここで、
polは空気層と第一層間の振幅係数
φ。1は空気層と第一層間の位相係数
ρ宜2は第一層と第二層間の振幅係数
φ、2は第一層と第二層間の位相係数
δは位相項で、δ=2πnd/λである。
(5)式で、COSの項は−1から1の間に入るので、
分光反射率は最大値が となり、最小値は である。どちらも膜厚dに関係なく得ることができる。
分光反射率は最大値が となり、最小値は である。どちらも膜厚dに関係なく得ることができる。
第1ズに示すように、測定した波長範囲(?ti、長λ
8からλ。までの範囲)に極値が1個しか存在しない場
合、極値をとる点P(λr 、 R+ )と測定開始の
点S(λ8.R3)間の測定点により近似式f(λ)を
求める。上述したように最小値Rwinは予め算出され
ているので、f(λ)とRlnとの交点を求め、その波
長を極小値の波長λ2とする。
8からλ。までの範囲)に極値が1個しか存在しない場
合、極値をとる点P(λr 、 R+ )と測定開始の
点S(λ8.R3)間の測定点により近似式f(λ)を
求める。上述したように最小値Rwinは予め算出され
ているので、f(λ)とRlnとの交点を求め、その波
長を極小値の波長λ2とする。
同様に、極値をとる点P(λI+R□X)および測定終
了の点E(λ。、R6)間の測定点より近似式g(λ)
を求めれば、もう一方の極小値の波長λ3を求めること
ができる。
了の点E(λ。、R6)間の測定点より近似式g(λ)
を求めれば、もう一方の極小値の波長λ3を求めること
ができる。
例えば、第1図に示すように、f(λ)およびg(λ)
がλの1次式となるように近似すれば、極小値λ2およ
びλ、は ・・・・・・(6) ・・・・・・(7) で得ることができる。
がλの1次式となるように近似すれば、極小値λ2およ
びλ、は ・・・・・・(6) ・・・・・・(7) で得ることができる。
λ1と上記の式(6) (7)で得られたλ2.λ、を
使えば(4−3)式から膜厚dを得ることができる。極
小値のみが存在する場合でも同様にして膜厚dを得るこ
とができる。
使えば(4−3)式から膜厚dを得ることができる。極
小値のみが存在する場合でも同様にして膜厚dを得るこ
とができる。
また、第2図に示すように測定する波長範囲に極値が存
在しない場合でも、測定開始の点S(λs、Rs)およ
び測定終了の点E(え。。
在しない場合でも、測定開始の点S(λs、Rs)およ
び測定終了の点E(え。。
R,)から求めた近似式h(λ)と、Rm、。
Rll1nの交点の波長λ2.λ3が
・・・・・・(8)
・・・・・・(9)
と得られる。従って、(4−3)式から膜厚dを得るこ
とができる。
とができる。
なお、λ2.λ、が近似により得られる値であるため、
ここで得られる膜厚dは高精度でない。
ここで得られる膜厚dは高精度でない。
そこで、(5)式をdに関して解くと、ただし、K=0
.1,2.・・・・・・である。Kは次数であり、 K = 2 nd/λ ・・・・・・(11)
で得られるので、(4−3)式で求めた膜厚dの値を利
用してまず次数Kを求め、各波長の反射率Rより上記の
(lO)式を用いて膜厚dを算出すれば、高精度に求め
ることができる。
.1,2.・・・・・・である。Kは次数であり、 K = 2 nd/λ ・・・・・・(11)
で得られるので、(4−3)式で求めた膜厚dの値を利
用してまず次数Kを求め、各波長の反射率Rより上記の
(lO)式を用いて膜厚dを算出すれば、高精度に求め
ることができる。
[実施例]
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第3図は、本発明の膜厚測定方法を通用した膜厚測定装
置のシステムブロック図である。本装置で膜厚を測定す
るためには、まず、分光器1で分光された光を試料ステ
ージ2上に置かれた試料面にファイバープローブ3で照
明し、試料面から反射した光を再びファイバープローブ
3で受け、分光器1内に設けられた光電変換素子により
電気信号に変換する。次に、コントローラ4により分光
器1の波長設定および試料ステージ2の8勤をコントロ
ールすると共に、前記分光器1の光電変換素子の電気信
号をデジタル信号に変換し、そして試料ステージ2の位
置を確認する。コンピュータ5は前記コントローラ4を
制御すると共にコントローラ4から得られる前記デジタ
ル信号を受けとり、反射率Rを求め前記(4−1)〜(
4−3)式から膜厚dを計算する。そして、その結果を
CRT8やフロッピーディスクドライブ9やプリンター
lOに出力する。また、操作パネル6とフルキーボード
7は、コンピュータ5に屈折率等の条件を指定したり、
分光器1の波長、試料ステージ2の移動量を指示すると
共に測定開始等の指令を行う。操作パネル6は、通常よ
く使用する条件で測定させる場合で、更にオペレータが
誤操作しないよう必要最少限にキーをもっている。
置のシステムブロック図である。本装置で膜厚を測定す
るためには、まず、分光器1で分光された光を試料ステ
ージ2上に置かれた試料面にファイバープローブ3で照
明し、試料面から反射した光を再びファイバープローブ
3で受け、分光器1内に設けられた光電変換素子により
電気信号に変換する。次に、コントローラ4により分光
器1の波長設定および試料ステージ2の8勤をコントロ
ールすると共に、前記分光器1の光電変換素子の電気信
号をデジタル信号に変換し、そして試料ステージ2の位
置を確認する。コンピュータ5は前記コントローラ4を
制御すると共にコントローラ4から得られる前記デジタ
ル信号を受けとり、反射率Rを求め前記(4−1)〜(
4−3)式から膜厚dを計算する。そして、その結果を
CRT8やフロッピーディスクドライブ9やプリンター
lOに出力する。また、操作パネル6とフルキーボード
7は、コンピュータ5に屈折率等の条件を指定したり、
分光器1の波長、試料ステージ2の移動量を指示すると
共に測定開始等の指令を行う。操作パネル6は、通常よ
く使用する条件で測定させる場合で、更にオペレータが
誤操作しないよう必要最少限にキーをもっている。
第3図の装置の動作説明を第4図の流れ図に沿って説明
する。まず、ステップS1で分光反射率Rの測定データ
を取り込み、ステップS2で前後の測定点の比較を行っ
て反射率Rの極大値および極小値を求める。一方、並行
してステップs3で膜および基板の屈折率から理論上の
最大反射率R□8.最小反射率Ra1nを得る。次に、
ステップS4およびステップS6にて、検出された極値
の個数の判定を行う。極値の数が2個以上であれば、ス
テップS5にてこれらの極値をとる波長λの値を使い前
記の(4−1)〜(4−3)式により膜厚を計算する。
する。まず、ステップS1で分光反射率Rの測定データ
を取り込み、ステップS2で前後の測定点の比較を行っ
て反射率Rの極大値および極小値を求める。一方、並行
してステップs3で膜および基板の屈折率から理論上の
最大反射率R□8.最小反射率Ra1nを得る。次に、
ステップS4およびステップS6にて、検出された極値
の個数の判定を行う。極値の数が2個以上であれば、ス
テップS5にてこれらの極値をとる波長λの値を使い前
記の(4−1)〜(4−3)式により膜厚を計算する。
極値の数が1個であれば、ステップS7およびS8にて
測定範囲外の極大点、極小点を取る波長λ2.λ3を求
め、ステップS9にて先に検出した1つの極値をとる波
長λの値と、計算で求めた波長λ2.λ3を使い(4−
3)式によりステップS9にて膜厚を計算する。
測定範囲外の極大点、極小点を取る波長λ2.λ3を求
め、ステップS9にて先に検出した1つの極値をとる波
長λの値と、計算で求めた波長λ2.λ3を使い(4−
3)式によりステップS9にて膜厚を計算する。
さらに、極値がない場合にはステップSIO,Sllに
て極大点、極小点を取る波長λ2.λ3を求め、ステッ
プS12にてこれらのλ2.λ、を使い(4−3)式に
より膜厚の計算をする。
て極大点、極小点を取る波長λ2.λ3を求め、ステッ
プS12にてこれらのλ2.λ、を使い(4−3)式に
より膜厚の計算をする。
さらに、精度よく膜厚を求めるためには第4図のステッ
プS5.S9.S12の後、得られた膜厚の値を使い次
数Kを(11)式を用いて求め、(10)式にて各波長
の反射率Rより膜厚dを算出すればよい。
プS5.S9.S12の後、得られた膜厚の値を使い次
数Kを(11)式を用いて求め、(10)式にて各波長
の反射率Rより膜厚dを算出すればよい。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、薄膜状試料に光
を照射しその分光反射率を測定することにより試料の膜
厚を測定する方法において、分光反射率の測定範囲内に
極値が多くとも1個しか存在しない場合であっても、測
定データから分光反射率曲線の近似式を求め、その近似
式曲線と試料の分光反射率の理論上の最大値および最小
値とが交わる点を求め、これらの極大値と極小値の波長
を用いて膜厚を検出しているので、分光反射率の測定波
長範囲中に極値が1個以下でも試料の膜厚を算出するこ
とができる。
を照射しその分光反射率を測定することにより試料の膜
厚を測定する方法において、分光反射率の測定範囲内に
極値が多くとも1個しか存在しない場合であっても、測
定データから分光反射率曲線の近似式を求め、その近似
式曲線と試料の分光反射率の理論上の最大値および最小
値とが交わる点を求め、これらの極大値と極小値の波長
を用いて膜厚を検出しているので、分光反射率の測定波
長範囲中に極値が1個以下でも試料の膜厚を算出するこ
とができる。
第1図および第2図は、本発明における膜厚測定の波長
範囲と近似式より算出される極値の関係を示す図、 第3図は、本発明の方法を適用した膜厚測定装置のシス
テムブロック図、 第4図は、上記の装置の動作説明用フローチャート、 第5図は、膜厚測定の原理説明図である。 1:分光器、 2;試料ステージ、4・コント
ローラ、 5:コンピュータ。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄 代理人 弁理士 伊 東 哲 小 弟1図 第2図 ”’(b) 第5図
範囲と近似式より算出される極値の関係を示す図、 第3図は、本発明の方法を適用した膜厚測定装置のシス
テムブロック図、 第4図は、上記の装置の動作説明用フローチャート、 第5図は、膜厚測定の原理説明図である。 1:分光器、 2;試料ステージ、4・コント
ローラ、 5:コンピュータ。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄 代理人 弁理士 伊 東 哲 小 弟1図 第2図 ”’(b) 第5図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、薄膜状試料に光を照射しその分光反射率を測定する
ことにより該試料の膜厚を測定する方法において、 分光反射率の測定範囲内に極値が多くとも1個しか存在
しない場合であっても、該測定範囲内において測定した
波長とその波長の光に対する反射率のデータから分光反
射率曲線の近似式を求め、該近似式曲線と上記試料の分
光反射率の理論上の最大値および理論上の最小値とが交
わる点をそれぞれ極大値および極小値をとる波長とみな
し、これらの極大値と極小値の波長を用いて膜厚を検出
することを特徴とする膜厚測定方法。 2、前記近似式が、多項式である特許請求の範囲第1項
記載の膜厚測定方法。 3、前記膜厚の検出が、前記測定範囲内において測定し
または前記近似式から算出して得た極大値若しくは極小
値の波長の間隔より検出する特許請求の範囲第1項また
は第2項記載の膜厚測定方法。 4、前記測定範囲内において極値をもたない場合は測定
開始点および測定終了点の測定データから前記近似式を
求め、前記測定範囲内において極値を1個もつ場合は該
極値と測定開始点または測定終了点との測定データから
前記近似式を求める特許請求の範囲第1項、第2項また
は第3項記載の膜厚測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18787886A JPS6344106A (ja) | 1986-08-12 | 1986-08-12 | 膜厚測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18787886A JPS6344106A (ja) | 1986-08-12 | 1986-08-12 | 膜厚測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6344106A true JPS6344106A (ja) | 1988-02-25 |
Family
ID=16213785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18787886A Pending JPS6344106A (ja) | 1986-08-12 | 1986-08-12 | 膜厚測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6344106A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0443905A (ja) * | 1990-06-12 | 1992-02-13 | Nippon Steel Corp | 鋼帯の酸化膜厚測定方法及びその装置 |
| JP2007198771A (ja) * | 2006-01-24 | 2007-08-09 | Ricoh Co Ltd | 膜厚測定方法及び膜厚測定装置 |
| US7304744B1 (en) | 1998-12-24 | 2007-12-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for measuring the thickness of a thin film via the intensity of reflected light |
| WO2014061408A1 (ja) * | 2012-10-16 | 2014-04-24 | コニカミノルタ株式会社 | 光学膜厚測定方法、光学膜厚測定システム及び光学膜厚測定プログラム他 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56153207A (en) * | 1980-04-28 | 1981-11-27 | Ricoh Co Ltd | Measuring device for film thickness |
-
1986
- 1986-08-12 JP JP18787886A patent/JPS6344106A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56153207A (en) * | 1980-04-28 | 1981-11-27 | Ricoh Co Ltd | Measuring device for film thickness |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0443905A (ja) * | 1990-06-12 | 1992-02-13 | Nippon Steel Corp | 鋼帯の酸化膜厚測定方法及びその装置 |
| US7304744B1 (en) | 1998-12-24 | 2007-12-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for measuring the thickness of a thin film via the intensity of reflected light |
| JP2007198771A (ja) * | 2006-01-24 | 2007-08-09 | Ricoh Co Ltd | 膜厚測定方法及び膜厚測定装置 |
| WO2014061408A1 (ja) * | 2012-10-16 | 2014-04-24 | コニカミノルタ株式会社 | 光学膜厚測定方法、光学膜厚測定システム及び光学膜厚測定プログラム他 |
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