JPS6345093B2 - - Google Patents
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- JPS6345093B2 JPS6345093B2 JP6217077A JP6217077A JPS6345093B2 JP S6345093 B2 JPS6345093 B2 JP S6345093B2 JP 6217077 A JP6217077 A JP 6217077A JP 6217077 A JP6217077 A JP 6217077A JP S6345093 B2 JPS6345093 B2 JP S6345093B2
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は両面制御型電圧印加方式に適した静電
記録体に使用される導電性基板の製造方法に関す
る。 静電記録法は低抵抗処理を施した支持体上に高
誘電体樹脂などからなる記録層を設けた静電記録
体を使用し、この記録層の前面、背面あるいは両
面から電圧を印加して静電潜像を形成し、これを
顕像化する方法であり、フアクシミリ、高速印
刷、転写印刷、静電転写などに広く応用されてい
る。 しかして従来の静電記録方式は前面制御型が大
部分を占めていたが、近年記緑の高速性が要求さ
れることから両面制御型が次第に増加している。
しかし両面制御方式は前面制御方式に比較して画
像濃度が上らない、ゴースト(多重写り)が発生
するなどの問題がある。 そこで、本発明者らは先に両面制御型印加方式
に適した静電記録体について研究した結果、低抵
抗支持体のいずれか一方の側の表面固有抵抗値A
(Ω)に対し、その体積抵抗値B(Ωcm2)の関係が
B/A≦1/10という特性を有する静電記録体が
有効であることを見い出した。 本発明は先の研究結果に基づく特性をもつ静電
記録体に使用される導電性基体を確実に、しかも
容易に製造するための方法を提供するものであ
り、その特徴は透気度150sec以下の紙に、高分子
電解質を含む表面張力が40dyn/cm以下の溶液を
含浸し、更に必要に応じて高分子電解質を含む溶
液で導電性基体の片面又は両面を塗布することに
ある。 本発明において、高分子電解質を含む溶液が含
浸され、また更に必要に応じて塗布される基体は
透気度、詳しくは王研式透気度平滑度測定機によ
る透気度が150sec以下の厚紙である。透気度が
150secより大きい紙の場合表面張力が40dyn/cm
以下の高分子電解質含有溶液でも含浸しにくくな
り、基体の体積抵抗値が下らない。高分子電解質
含有溶液は表面張力が40dyn/cmより大きいと紙
の内部に十分に含浸しにくいために基体の体積抵
抗値が下らない。 基体に含浸させるための高分子電解質含有溶液
(以下含浸液という)は上記表面張力の条件を満
足する範囲内で高分子電解質と溶剤の組合せが決
定され、更に必要に応じて界面活性剤、顔料など
を含有させることができる。高分子電解質にはア
ニオン系、カチオン系の公知のものをいずれも使
用できる。アニオン系高分子電解質にはポリスチ
レンスルホン酸アンモニウム、カチオン系高分子
電解質にはポリビニルベンジルアンモニウムクロ
ライドなどが特に有効である。 溶剤は高分子電解質を溶解するものであればよ
いが、それ自体低表面張力であつて、高分子電解
質の良溶媒、例えばメチルアルコール、エチルア
ルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコ
ール類、セロソルブ、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルマミド、トルエンなどが有効である。ま
た溶剤自体の表面張力が高い場合、例えば水の場
合は含浸液中に界面活性剤を添加して、溶液の表
面張力を下げて使用することができる。界面活性
剤には公知のものが使用できるが、高分子電解質
がアニオン系のときはアニオン系又はノニオン系
の界面活性剤を使用し、高分子電解がカチオン系
のときはカチオン系又はノニオン系の界面活性剤
を使用することが望ましい。 顔料は体質顔料あるいは白色顔料、具体的には
クレー、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、酸化
チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウムなどが使用でき
る。 含浸液を紙に含浸させた後に塗布される高分子
電解質含有溶液(以下ベース液という)は、含浸
液による含浸処理によつて得られた低抵抗紙に更
に導電性を付与し、耐熱剤性を与える目的で塗布
される。ベース液中の高分子電解質及び溶剤には
含浸液中に含有できるものがいずれも使用でき
る。ベース液は含浸液のように表面張力の制約は
ないから高分子電解質及び溶剤の選択及び組合せ
は含浸液に比べると広範囲である。またベース液
中には酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、ク
レー、シリカなどの白色顔料を添加することもで
き、また導電性基板に記録層を設ける際、あるい
は静電記録体に形成された静電潜像を顕像化する
際における耐溶剤性を改良する目的でベース液中
にポリビニルアルコール、デンプン、メチルセル
ロース、酢酸ビニルラテツクス、スチレン−ブタ
ジエンラテツクスなどの結着性物質を添加するこ
ともできる。 含浸液は、この中に透気度150sec以下の厚紙を
浸漬してもよく、またサイズプレスで含浸しても
よい。サイズプレスによる含浸法では含浸液の表
面張力は制限されない。このようにして得られた
基体の両面又は片面にワイヤーバーなどの通常の
手段でベース液を塗布すれば目的とする導電性基
体を得ることができる。そして導電性基体の片面
に高抵抗樹脂に顔料などの併用した記録層を形成
した静電記録体は、特に両面制御型フアクシミリ
において画像濃度が高く、ゴーストも少ない。 本発明の製造方法によれば、上述のような画像
形成の優れた静電記録体に使用される導電性基本
を確実に、かつ容易に製造することができる。即
ち透気度の小さい紙に低表面張力の含浸液を使用
するため、紙の内部に高分子電解質が十分に浸入
し、また安定した塗布操作ができる。 実施例 1 透気度20secの紙に、ECR−34(ダウケミカル
社製、高分子電解質34%溶液)10部にメチルアル
コール30部を混合した液(表面張力27dyn/cm)
で含浸し、乾燥付着量1g/m2となる様にする。
次にECR−34 10部、酸化デンプン(10%溶液)
10部、酸化チタン5部を混合したベース液を含浸
紙の両面に各々乾燥付着量が7g/m2になるよう
にワイヤーバーで塗布乾燥して導電性基体とす
る。 この導電性基体をキヤレンダがけし、次にポリ
メチルメタクリレート(15%トルエン溶液)100
部に酸化チタン5部を添加し分散した液を乾燥付
着量が6g/m2になるように塗布乾燥して静電記
録体を得た。 実施例 2 透気度150secの紙に、ゴーセフアイマーC−
670(日本合成製、高分子電解質30%溶液)10部に
水30部、フツソ系界面活性剤MEGAFAC F−
150(大日本インキ製)1部をを添加した液(表面
張力40dyn/cm)で含浸し、乾燥付着量2g/m2
となるようにする。 次にConductive Polymer261(メルク社製、高
分子解質34%溶液)10部、大豆蛋白(10%溶液)
10部、シリカ0.5部を混合した分酸したベース液
を含浸厚紙の両面に各々乾燥付着量が4g/m2と
なるようにワイヤーバーで塗布乾燥して導電性基
体とする。この導電性基体をキヤレンダーがけし
た後、実施例1同様にして記録層を設けた静電記
録紙を得た。 比較例 1 透気度200secの紙を使用した以外は実施例1と
全く同様にして静電記録紙を得た。 比較例 2 含浸液を使用しない他は実施例1と全く同様に
して静電記録紙を得た。 「試験結果」 上記4種の静電記録紙にリコー製両面制御方式
フアクシミリRI FAX−600Sで画像を出し、ま
たその時の導電性紙の抵抗を超絶縁計Model VE
−30(川口電機製)で測定した結果を下表に示す。 【表】
記録体に使用される導電性基板の製造方法に関す
る。 静電記録法は低抵抗処理を施した支持体上に高
誘電体樹脂などからなる記録層を設けた静電記録
体を使用し、この記録層の前面、背面あるいは両
面から電圧を印加して静電潜像を形成し、これを
顕像化する方法であり、フアクシミリ、高速印
刷、転写印刷、静電転写などに広く応用されてい
る。 しかして従来の静電記録方式は前面制御型が大
部分を占めていたが、近年記緑の高速性が要求さ
れることから両面制御型が次第に増加している。
しかし両面制御方式は前面制御方式に比較して画
像濃度が上らない、ゴースト(多重写り)が発生
するなどの問題がある。 そこで、本発明者らは先に両面制御型印加方式
に適した静電記録体について研究した結果、低抵
抗支持体のいずれか一方の側の表面固有抵抗値A
(Ω)に対し、その体積抵抗値B(Ωcm2)の関係が
B/A≦1/10という特性を有する静電記録体が
有効であることを見い出した。 本発明は先の研究結果に基づく特性をもつ静電
記録体に使用される導電性基体を確実に、しかも
容易に製造するための方法を提供するものであ
り、その特徴は透気度150sec以下の紙に、高分子
電解質を含む表面張力が40dyn/cm以下の溶液を
含浸し、更に必要に応じて高分子電解質を含む溶
液で導電性基体の片面又は両面を塗布することに
ある。 本発明において、高分子電解質を含む溶液が含
浸され、また更に必要に応じて塗布される基体は
透気度、詳しくは王研式透気度平滑度測定機によ
る透気度が150sec以下の厚紙である。透気度が
150secより大きい紙の場合表面張力が40dyn/cm
以下の高分子電解質含有溶液でも含浸しにくくな
り、基体の体積抵抗値が下らない。高分子電解質
含有溶液は表面張力が40dyn/cmより大きいと紙
の内部に十分に含浸しにくいために基体の体積抵
抗値が下らない。 基体に含浸させるための高分子電解質含有溶液
(以下含浸液という)は上記表面張力の条件を満
足する範囲内で高分子電解質と溶剤の組合せが決
定され、更に必要に応じて界面活性剤、顔料など
を含有させることができる。高分子電解質にはア
ニオン系、カチオン系の公知のものをいずれも使
用できる。アニオン系高分子電解質にはポリスチ
レンスルホン酸アンモニウム、カチオン系高分子
電解質にはポリビニルベンジルアンモニウムクロ
ライドなどが特に有効である。 溶剤は高分子電解質を溶解するものであればよ
いが、それ自体低表面張力であつて、高分子電解
質の良溶媒、例えばメチルアルコール、エチルア
ルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコ
ール類、セロソルブ、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルマミド、トルエンなどが有効である。ま
た溶剤自体の表面張力が高い場合、例えば水の場
合は含浸液中に界面活性剤を添加して、溶液の表
面張力を下げて使用することができる。界面活性
剤には公知のものが使用できるが、高分子電解質
がアニオン系のときはアニオン系又はノニオン系
の界面活性剤を使用し、高分子電解がカチオン系
のときはカチオン系又はノニオン系の界面活性剤
を使用することが望ましい。 顔料は体質顔料あるいは白色顔料、具体的には
クレー、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、酸化
チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウムなどが使用でき
る。 含浸液を紙に含浸させた後に塗布される高分子
電解質含有溶液(以下ベース液という)は、含浸
液による含浸処理によつて得られた低抵抗紙に更
に導電性を付与し、耐熱剤性を与える目的で塗布
される。ベース液中の高分子電解質及び溶剤には
含浸液中に含有できるものがいずれも使用でき
る。ベース液は含浸液のように表面張力の制約は
ないから高分子電解質及び溶剤の選択及び組合せ
は含浸液に比べると広範囲である。またベース液
中には酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、ク
レー、シリカなどの白色顔料を添加することもで
き、また導電性基板に記録層を設ける際、あるい
は静電記録体に形成された静電潜像を顕像化する
際における耐溶剤性を改良する目的でベース液中
にポリビニルアルコール、デンプン、メチルセル
ロース、酢酸ビニルラテツクス、スチレン−ブタ
ジエンラテツクスなどの結着性物質を添加するこ
ともできる。 含浸液は、この中に透気度150sec以下の厚紙を
浸漬してもよく、またサイズプレスで含浸しても
よい。サイズプレスによる含浸法では含浸液の表
面張力は制限されない。このようにして得られた
基体の両面又は片面にワイヤーバーなどの通常の
手段でベース液を塗布すれば目的とする導電性基
体を得ることができる。そして導電性基体の片面
に高抵抗樹脂に顔料などの併用した記録層を形成
した静電記録体は、特に両面制御型フアクシミリ
において画像濃度が高く、ゴーストも少ない。 本発明の製造方法によれば、上述のような画像
形成の優れた静電記録体に使用される導電性基本
を確実に、かつ容易に製造することができる。即
ち透気度の小さい紙に低表面張力の含浸液を使用
するため、紙の内部に高分子電解質が十分に浸入
し、また安定した塗布操作ができる。 実施例 1 透気度20secの紙に、ECR−34(ダウケミカル
社製、高分子電解質34%溶液)10部にメチルアル
コール30部を混合した液(表面張力27dyn/cm)
で含浸し、乾燥付着量1g/m2となる様にする。
次にECR−34 10部、酸化デンプン(10%溶液)
10部、酸化チタン5部を混合したベース液を含浸
紙の両面に各々乾燥付着量が7g/m2になるよう
にワイヤーバーで塗布乾燥して導電性基体とす
る。 この導電性基体をキヤレンダがけし、次にポリ
メチルメタクリレート(15%トルエン溶液)100
部に酸化チタン5部を添加し分散した液を乾燥付
着量が6g/m2になるように塗布乾燥して静電記
録体を得た。 実施例 2 透気度150secの紙に、ゴーセフアイマーC−
670(日本合成製、高分子電解質30%溶液)10部に
水30部、フツソ系界面活性剤MEGAFAC F−
150(大日本インキ製)1部をを添加した液(表面
張力40dyn/cm)で含浸し、乾燥付着量2g/m2
となるようにする。 次にConductive Polymer261(メルク社製、高
分子解質34%溶液)10部、大豆蛋白(10%溶液)
10部、シリカ0.5部を混合した分酸したベース液
を含浸厚紙の両面に各々乾燥付着量が4g/m2と
なるようにワイヤーバーで塗布乾燥して導電性基
体とする。この導電性基体をキヤレンダーがけし
た後、実施例1同様にして記録層を設けた静電記
録紙を得た。 比較例 1 透気度200secの紙を使用した以外は実施例1と
全く同様にして静電記録紙を得た。 比較例 2 含浸液を使用しない他は実施例1と全く同様に
して静電記録紙を得た。 「試験結果」 上記4種の静電記録紙にリコー製両面制御方式
フアクシミリRI FAX−600Sで画像を出し、ま
たその時の導電性紙の抵抗を超絶縁計Model VE
−30(川口電機製)で測定した結果を下表に示す。 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 透気度150sec以下の紙に、高分子電解質を含
む表面張力が40dyn/cm以下の溶液を含浸するこ
とを特徴とする該紙のいずれか一方の表面固有抵
抗値=A(Ω)と体積抵抗値=B(Ωcm2)との関係
が B/A≦1/10 である静電記録体用導電性基体を製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6217077A JPS53147533A (en) | 1977-05-30 | 1977-05-30 | Manufacture for electric conductive substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6217077A JPS53147533A (en) | 1977-05-30 | 1977-05-30 | Manufacture for electric conductive substrate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53147533A JPS53147533A (en) | 1978-12-22 |
| JPS6345093B2 true JPS6345093B2 (ja) | 1988-09-08 |
Family
ID=13192373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6217077A Granted JPS53147533A (en) | 1977-05-30 | 1977-05-30 | Manufacture for electric conductive substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS53147533A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6215551A (ja) * | 1985-07-15 | 1987-01-23 | Oji Paper Co Ltd | 静電記録体の製造方法 |
-
1977
- 1977-05-30 JP JP6217077A patent/JPS53147533A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53147533A (en) | 1978-12-22 |
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