JPS6345276A - 重合性チオフエン単量体及びその製造法並びにその重合体 - Google Patents
重合性チオフエン単量体及びその製造法並びにその重合体Info
- Publication number
- JPS6345276A JPS6345276A JP17605387A JP17605387A JPS6345276A JP S6345276 A JPS6345276 A JP S6345276A JP 17605387 A JP17605387 A JP 17605387A JP 17605387 A JP17605387 A JP 17605387A JP S6345276 A JPS6345276 A JP S6345276A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- ion
- thiophene
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 75
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 title claims description 45
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 25
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 38
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- -1 3-(butoxyethoxyethoxyethoxyethoxyethoxymethyl)thiophene Chemical compound 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 16
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical group ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 4
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 4
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 4
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- LTHCSWBWNVGEFE-UHFFFAOYSA-N octanamide Chemical compound CCCCCCCC(N)=O LTHCSWBWNVGEFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 4
- UGYDQPSQRSYFLU-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methoxyethoxymethyl)thiophene Chemical compound COCCOCC=1C=CSC=1 UGYDQPSQRSYFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LHYNYTDUZMSYNO-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]thiophene Chemical compound COCCOCCOC=1C=CSC=1 LHYNYTDUZMSYNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940006460 bromide ion Drugs 0.000 claims description 2
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 claims description 2
- FVYMZMKRLHDFQC-UHFFFAOYSA-N n-(thiophen-3-ylmethyl)acetamide Chemical compound CC(=O)NCC=1C=CSC=1 FVYMZMKRLHDFQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WPENZRFVFKJWJK-UHFFFAOYSA-N n-(thiophen-3-ylmethyl)octanamide Chemical compound CCCCCCCC(=O)NCC=1C=CSC=1 WPENZRFVFKJWJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 2
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000005160 aryl oxy alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- CTXPPAIGLXEKKV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxymethyl)thiophene Chemical compound COCCOCC1=CC=CS1 CTXPPAIGLXEKKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 claims 1
- 229920000447 polyanionic polymer Polymers 0.000 claims 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 claims 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 claims 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000005301 thienylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(S1)C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 13
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 10
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XCMISAPCWHTVNG-UHFFFAOYSA-N 3-bromothiophene Chemical compound BrC=1C=CSC=1 XCMISAPCWHTVNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000010779 crude oil Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N (2s)-2,6-diaminohexanoic acid;(2s)-2-hydroxybutanedioic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O.NCCCC[C@H](N)C(O)=O NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N 0.000 description 2
- XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 18-crown-6 Chemical compound C1COCCOCCOCCOCCOCCO1 XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IUDCAGLFTSEDAF-UHFFFAOYSA-N 2-thiophen-3-yloxyethanamine Chemical compound NCCOC=1C=CSC=1 IUDCAGLFTSEDAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HDBVEDUEWXRKGA-UHFFFAOYSA-N 2-thiophen-3-yloxyethanol Chemical compound OCCOC=1C=CSC=1 HDBVEDUEWXRKGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBWHYRUAHXHHFO-UHFFFAOYSA-N 3-(bromomethyl)thiophene Chemical compound BrCC=1C=CSC=1 KBWHYRUAHXHHFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RCTIHQZIVLNKDZ-UHFFFAOYSA-N 3-(methoxymethyl)thiophene Chemical compound COCC=1C=CSC=1 RCTIHQZIVLNKDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N Methoxyethane Chemical compound CCOC XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQGIJDNPUZEBRU-UHFFFAOYSA-N dodecanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCCCCC(Cl)=O NQGIJDNPUZEBRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine monohydrate Substances O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 2
- SXYRTDICSOVQNZ-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOC(C)O SXYRTDICSOVQNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- VFBGTNUIDPWVOT-UHFFFAOYSA-N 3-(2-benzylsulfonylethoxy)thiophene Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)S(=O)(=O)CCOC1=CSC=C1 VFBGTNUIDPWVOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIIDGUVJMBQEDB-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxymethyl]thiophene Chemical compound COCCOCCOCC=1C=CSC=1 PIIDGUVJMBQEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFSKGCVUDQRZSD-UHFFFAOYSA-N 3-methoxythiophene Chemical compound COC=1C=CSC=1 RFSKGCVUDQRZSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLLVZDVNHNWSDS-UHFFFAOYSA-N 4-methylidene-3,5-dioxabicyclo[5.2.2]undeca-1(9),7,10-triene-2,6-dione Chemical compound C1(C2=CC=C(C(=O)OC(=C)O1)C=C2)=O LLLVZDVNHNWSDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 108700018454 CDC15 Proteins 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 101100288554 Mus musculus Lcor gene Proteins 0.000 description 1
- 229910003844 NSO2 Inorganic materials 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 101100532687 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) IRR1 gene Proteins 0.000 description 1
- 101150110390 Slc10a6 gene Proteins 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUPSHWCALHZGOV-UHFFFAOYSA-N acetic acid n-decyl ester Natural products CCCCCCCCCCOC(C)=O NUPSHWCALHZGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000015278 beef Nutrition 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 101150081467 cdc15 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000013058 crude material Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000009408 flooring Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- KPQDSKZQRXHKHY-UHFFFAOYSA-N gold potassium Chemical compound [K].[Au] KPQDSKZQRXHKHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M hydrogensulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- KQDJZZWCYTXUDE-UHFFFAOYSA-N hydron;thiophene;chloride Chemical compound Cl.C=1C=CSC=1 KQDJZZWCYTXUDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- VHWYCFISAQVCCP-UHFFFAOYSA-N methoxymethanol Chemical compound COCO VHWYCFISAQVCCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBABOKRGFJTBAE-UHFFFAOYSA-N methyl methanesulfonate Chemical compound COS(C)(=O)=O MBABOKRGFJTBAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- UNANRWWDCCNTGW-UHFFFAOYSA-N n-(thiophen-3-ylmethyl)dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)NCC=1C=CSC=1 UNANRWWDCCNTGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REEZZSHJLXOIHL-UHFFFAOYSA-N octanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCC(Cl)=O REEZZSHJLXOIHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002801 octanoyl group Chemical group C(CCCCCCC)(=O)* 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920001464 poly(sodium 4-styrenesulfonate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- FYRHIOVKTDQVFC-UHFFFAOYSA-M potassium phthalimide Chemical compound [K+].C1=CC=C2C(=O)[N-]C(=O)C2=C1 FYRHIOVKTDQVFC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- XCRZAIPPBHIKOR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 4-amino-3-fluorobenzoate Chemical compound NC1=CC=C(C(=O)OCC=C)C=C1F XCRZAIPPBHIKOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000003115 supporting electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- DUDAKCCDHRNMDJ-UHFFFAOYSA-N thiophen-3-ylmethanamine Chemical compound NCC=1C=CSC=1 DUDAKCCDHRNMDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は含硫の複累環系の重合可能な単量体化合物テあ
るチオフェン化合物又は誘導体に関し。
るチオフェン化合物又は誘導体に関し。
ま之これら新規な単量体状化合物の製造方法、並びに重
合法に関する。
合法に関する。
(従来の技術)
3−アルキルチオフェンU、 例、tば3−エチル=
+ 3−n−ブチ鳥−83−n−オクチん−又は3.
4−ジメチルチオフェンのホモ重合体及び共重合体につ
めては、「ジャーナル・オツ・ザ°ケミカル・ンサイエ
テイ、 ケミカル・コミユニケーシヨンズJ 1346
〜1347頁(1986年)のクワンーユエ、 G、G
、 ミラー及びロナルド・L。
+ 3−n−ブチ鳥−83−n−オクチん−又は3.
4−ジメチルチオフェンのホモ重合体及び共重合体につ
めては、「ジャーナル・オツ・ザ°ケミカル・ンサイエ
テイ、 ケミカル・コミユニケーシヨンズJ 1346
〜1347頁(1986年)のクワンーユエ、 G、G
、 ミラー及びロナルド・L。
エルゼンパウマーの論文に記載される。
(問題点を解決するための手段)
本発明者は研究の結果、重合すると導電性の重合体を生
成できる新規なチオフェン[換誘導体を創製2発見する
ことに成功し念。
成できる新規なチオフェン[換誘導体を創製2発見する
ことに成功し念。
すなわち、@lの本発明によると、次の一般式〔式中+
R’ は基−(CH2)rnNHCOR。
R’ は基−(CH2)rnNHCOR。
基−O(CH2)♂H−COR、基−(CH2)rnC
ONHR1基−O(CH2)rnC0NHR5,基−(
CH2)nO(CH2CH2)、OR’。
ONHR1基−O(CH2)rnC0NHR5,基−(
CH2)nO(CH2CH2)、OR’。
)、るいはアリ−口中シアんキル基、アミノ基、又はア
ミノアルキル基又は置換され念アミノアル中ル基であり
、これらの基の窒素原子はアルキル基。
ミノアルキル基又は置換され念アミノアル中ル基であり
、これらの基の窒素原子はアルキル基。
アリール基又は置換されたアリール基の少なくとも一つ
を置換基として有してもよ<、Rは炭素数1〜1gのア
ルキル基であり、Rは前記Rと同じであるか又はRは水
素原子、ハロゲン原子又はアミノ基であり、Rは水素原
子又はメチル基であり、Rは炭素数1〜6のアルキA−
基であり。
を置換基として有してもよ<、Rは炭素数1〜1gのア
ルキル基であり、Rは前記Rと同じであるか又はRは水
素原子、ハロゲン原子又はアミノ基であり、Rは水素原
子又はメチル基であり、Rは炭素数1〜6のアルキA−
基であり。
Rは炭素数1〜1gのアルキル基であるか、あるrはア
ルキル基又はアルキルアリール基で置換されてもよいア
リール基であり、mは1〜6の整数、nはゼロ又は1〜
6のun、pは1〜6の整数である〕で示され、る化合
物が提供される。
ルキル基又はアルキルアリール基で置換されてもよいア
リール基であり、mは1〜6の整数、nはゼロ又は1〜
6のun、pは1〜6の整数である〕で示され、る化合
物が提供される。
一般式(1)の本発明化合物のうち、好ましい化合物は
、基R1が基−(CH2)nO(CH2CH2)、0R
4(但しnはO又は1であり、p及びRは前記と同じ意
味をもつ〕の化合物、又はRが基−CH2N)lCOR
’(但しR′ は炭素fi1〜12のアルキル基である
)の化合物、又はRが基−O(CH2C!(2)NHC
OR’ (但しRは炭素数6〜180アんキル基であ
る)の化合物である。また、一般式(1)でRが水素原
子である化合物も、好ましい本発明化合物である。
、基R1が基−(CH2)nO(CH2CH2)、0R
4(但しnはO又は1であり、p及びRは前記と同じ意
味をもつ〕の化合物、又はRが基−CH2N)lCOR
’(但しR′ は炭素fi1〜12のアルキル基である
)の化合物、又はRが基−O(CH2C!(2)NHC
OR’ (但しRは炭素数6〜180アんキル基であ
る)の化合物である。また、一般式(1)でRが水素原
子である化合物も、好ましい本発明化合物である。
一般式(1)の本発明化合物の特に好ましめ例は。
3−(メトギシエト中シメテA−)チオフェン。
3−(メトキシエトキシエトキシメチル)チオフェンス
!−15−(プトキシエトキシエトキシエトキシエトギ
シメチル)チオフェン、 N−(3−チエニルメチ
ル)アセトアミド、 N−(3−チエニルメチル)−
オクタンアミド又はN−(3−チエニルメチル)ドデカ
ンアミド、 3−(メト中シェドΦシ)チオフェン、
3−(メト中ジェトキシエト争シ)チオフェン、あ
るいはN−(3−O−チエニルエトキシ)オクタンアミ
ド又はN−(3−o−チエニルエトキシ)ドデカンアミ
ドである・ 一般式(1)の本発明化合物のうちで al が基−
(CH2)no(cnn3cH2)、oR’ (但し
R5、RJ 、n及びpは前記の意味をもつ)である化
合物は1次に一般的に示される反応工程図で示される反
応で製造できる。
!−15−(プトキシエトキシエトキシエトキシエトギ
シメチル)チオフェン、 N−(3−チエニルメチ
ル)アセトアミド、 N−(3−チエニルメチル)−
オクタンアミド又はN−(3−チエニルメチル)ドデカ
ンアミド、 3−(メト中シェドΦシ)チオフェン、
3−(メト中ジェトキシエト争シ)チオフェン、あ
るいはN−(3−O−チエニルエトキシ)オクタンアミ
ド又はN−(3−o−チエニルエトキシ)ドデカンアミ
ドである・ 一般式(1)の本発明化合物のうちで al が基−
(CH2)no(cnn3cH2)、oR’ (但し
R5、RJ 、n及びpは前記の意味をもつ)である化
合物は1次に一般的に示される反応工程図で示される反
応で製造できる。
他L R’=(C)IR’CH2)pOR’ テh ル
ーま九、一般式(1)の本発明化合物のうちで alが
基−(CH2)JHCOR(但しR及びmは前記の意味
をもつ)である化合物は1次の一般的な反応工程図で示
される方法で製造できる。
ーま九、一般式(1)の本発明化合物のうちで alが
基−(CH2)JHCOR(但しR及びmは前記の意味
をもつ)である化合物は1次の一般的な反応工程図で示
される方法で製造できる。
更に、一般式(1)の本発明化合物のうちで alが基
−O(CHRCH2)、ORである化合物は1次の一般
的な反応工程図で示される方法で製造できる。
−O(CHRCH2)、ORである化合物は1次の一般
的な反応工程図で示される方法で製造できる。
一般式(1)の本発明fヒ合物のうちで、Rが基−O(
CH2)fnNHCoR(但しR及びmが前記の意味を
もつ)である化合物は1次の一般的な反応工程図の方法
で製造できる。
CH2)fnNHCoR(但しR及びmが前記の意味を
もつ)である化合物は1次の一般的な反応工程図の方法
で製造できる。
上記の反応工程図において、保護基としてp−トルエン
スルホニh基(Tom )は、他の適当す保護基と取り
代え得ることは言うまでもない。
スルホニh基(Tom )は、他の適当す保護基と取り
代え得ることは言うまでもない。
従って、第2の本発明によると1次式
〔式中、nはゼロ又は1〜6の整数である〕の化合物を
次式 %式% の化合物及び次式 R’OH C式中、 R’ ハ基−(CHRsCH2)、OR’
テア0 、 R3゜R4及びpは前記の意味をもつ〕
の化合物と反応させて次式 〔式中、 R6は前記の意味をもつ〕の化合物を生成す
る工程(a)、若しくは次式 〔式中1mは1〜6の整数である〕の化合物をトリエチ
ルアミン及び次式 C式中、 r(は前記の意味をもつ〕の酸クロライド
と反応させて次式 〔式中、Rは前記の意味をもつ〕の化合物を生成する工
程(b)、若しくは次式 の化合物を次式 a OR 〔式中 R7は基−0(Cl(R5CH2)、OR’
であり、但しR3及びR4及びpは前記の意味をもつ
〕の化合物と酸化第2銅及び沃化カリウムの存在下に反
応させて次式 〔式中、R7は前記の意味をもつ〕の化合物を生成する
工程(C)、若しくは次式 式 RCOC/ 〔式中、Rは前記の意味をもつ〕の酸クロライド及びト
リエチルアミンと反応させて次式〔式中、R及びmは前
記の意味をもつ〕の化合物を生成する工程(d)の何n
か一つから成ることを特徴とする。一般式 〔式中、R及びRは前記の意味をもつ〕で示されるチオ
フェン化合物の製造法が提供さnる・前記一般式(1)
の本発明のチオフェン化合物又はチオフェン誘導体は重
合して対応のポリチオフェン誘導体とすることができる
。その重合には、例えば、i!!気化学的な重合法又は
化学的な重合法を用いることができるのであり、その重
合によって、導電性の重合体としてポリチオフェン誘導
体が得られる。
次式 %式% の化合物及び次式 R’OH C式中、 R’ ハ基−(CHRsCH2)、OR’
テア0 、 R3゜R4及びpは前記の意味をもつ〕
の化合物と反応させて次式 〔式中、 R6は前記の意味をもつ〕の化合物を生成す
る工程(a)、若しくは次式 〔式中1mは1〜6の整数である〕の化合物をトリエチ
ルアミン及び次式 C式中、 r(は前記の意味をもつ〕の酸クロライド
と反応させて次式 〔式中、Rは前記の意味をもつ〕の化合物を生成する工
程(b)、若しくは次式 の化合物を次式 a OR 〔式中 R7は基−0(Cl(R5CH2)、OR’
であり、但しR3及びR4及びpは前記の意味をもつ
〕の化合物と酸化第2銅及び沃化カリウムの存在下に反
応させて次式 〔式中、R7は前記の意味をもつ〕の化合物を生成する
工程(C)、若しくは次式 式 RCOC/ 〔式中、Rは前記の意味をもつ〕の酸クロライド及びト
リエチルアミンと反応させて次式〔式中、R及びmは前
記の意味をもつ〕の化合物を生成する工程(d)の何n
か一つから成ることを特徴とする。一般式 〔式中、R及びRは前記の意味をもつ〕で示されるチオ
フェン化合物の製造法が提供さnる・前記一般式(1)
の本発明のチオフェン化合物又はチオフェン誘導体は重
合して対応のポリチオフェン誘導体とすることができる
。その重合には、例えば、i!!気化学的な重合法又は
化学的な重合法を用いることができるのであり、その重
合によって、導電性の重合体としてポリチオフェン誘導
体が得られる。
このように得られた導電性重合体は、薄膜技術において
、EMI/RF シールド材料として、またエレクト
ロクロミック・ティプレイ (el ectroehromic disyrlay
)装置において、更に静電防止性材料として、イオン
及び…のセンサーとして、蓄電池の電極材料として、ス
イッチ装αにおいて、ま&’flEi用保護被膜として
、金属イオンの選択的電着用電極として、更に自己加熱
用の調節体として利用できるものである。
、EMI/RF シールド材料として、またエレクト
ロクロミック・ティプレイ (el ectroehromic disyrlay
)装置において、更に静電防止性材料として、イオン
及び…のセンサーとして、蓄電池の電極材料として、ス
イッチ装αにおいて、ま&’flEi用保護被膜として
、金属イオンの選択的電着用電極として、更に自己加熱
用の調節体として利用できるものである。
例えば、その導電性重合体は、EMI/RF(電磁妨害
雑音)シールド材料として利用する場合には、通常の重
合体と配合して導電性プラスチック材料を調製すること
ができる。あるいは別に、その導電性重合体は28電性
又は非導電性の表面の上でその場で生成することによっ
て、耐蝕性で導電性の表面層を形成させることもできる
。そのような導電性重合体のうちの可溶性のものは、溶
剤にとかして一つの表面に流して成膜することによって
、導電性の外被層を形成させることもでき、あるいは−
゛りの表面の上で1通常のfL重合体前駆体共に電気的
に共重合(co−electropolymerisa
tion)させることによって導電性重合体を形成させ
ることもでき、またこの導電性重合体は固体塊の導電材
として形成することもできる。
雑音)シールド材料として利用する場合には、通常の重
合体と配合して導電性プラスチック材料を調製すること
ができる。あるいは別に、その導電性重合体は28電性
又は非導電性の表面の上でその場で生成することによっ
て、耐蝕性で導電性の表面層を形成させることもできる
。そのような導電性重合体のうちの可溶性のものは、溶
剤にとかして一つの表面に流して成膜することによって
、導電性の外被層を形成させることもでき、あるいは−
゛りの表面の上で1通常のfL重合体前駆体共に電気的
に共重合(co−electropolymerisa
tion)させることによって導電性重合体を形成させ
ることもでき、またこの導電性重合体は固体塊の導電材
として形成することもできる。
本発明の一般式(1)のチオフェン化合物から得らnる
導電性の重合体前駆体は、こnをエポキシ樹脂(例えば
ビスフェノールA/ビスフェノールF/フェニルグリシ
ジル・エーテル) と共VCN気化学的に、光化学的に
又は光電気化学的に共重合させると、導電性の接着剤物
質が得られる。
導電性の重合体前駆体は、こnをエポキシ樹脂(例えば
ビスフェノールA/ビスフェノールF/フェニルグリシ
ジル・エーテル) と共VCN気化学的に、光化学的に
又は光電気化学的に共重合させると、導電性の接着剤物
質が得られる。
その導電性重合体をガス・センサーとL−C用いる場合
には、この重合体がCo、 No、 NH,、No2゜
C2H4等のガスと接触した時に生ずる該重合体の導伝
性の変化を利用してガスf!c検知するのである・エレ
クトロクロミック・ティスプレィ装置に用いる場合には
、その導電性重合体のうちでエレクトロクロミック(e
lectrochromic ) な性質なもつもの
を選択、使用する・ その導電性重合体は脱ト°−ピング化することもでき、
あるいはドーピングすべきカチオン及びアニオンでドー
ピング(doping ) することもでき。
には、この重合体がCo、 No、 NH,、No2゜
C2H4等のガスと接触した時に生ずる該重合体の導伝
性の変化を利用してガスf!c検知するのである・エレ
クトロクロミック・ティスプレィ装置に用いる場合には
、その導電性重合体のうちでエレクトロクロミック(e
lectrochromic ) な性質なもつもの
を選択、使用する・ その導電性重合体は脱ト°−ピング化することもでき、
あるいはドーピングすべきカチオン及びアニオンでドー
ピング(doping ) することもでき。
このようにr−ピングする性質によって、紅量の蓄電池
電極を作製するのをて使用するのに適するようになる。
電極を作製するのをて使用するのに適するようになる。
また、一般式(r)の本発明の単量体状チオフェン化合
物は、これを琳独でホモ重合するか、若しくは共重合性
の他の単量体の一つ又はそn以上と共重合することによ
って、繊維状の重合体又は共重合体として形成できる条
件下で反応1重合させることもできる。すなわち、本発
明によると、一般式(1’)のチオフェン化合物(誘導
体)と、これと共重合できる他の単量体との共重合体が
提供されるーそのような共重合できる他の単量体の例は
。
物は、これを琳独でホモ重合するか、若しくは共重合性
の他の単量体の一つ又はそn以上と共重合することによ
って、繊維状の重合体又は共重合体として形成できる条
件下で反応1重合させることもできる。すなわち、本発
明によると、一般式(1’)のチオフェン化合物(誘導
体)と、これと共重合できる他の単量体との共重合体が
提供されるーそのような共重合できる他の単量体の例は
。
メチルメタノ11レート、 ナイロン、 スチレン。
ビニルカルバゾール又はアクリロニトリlLJ、アルい
は七の他のものである。このように製造された導電性繊
維は印刷回路板の作製に用いられる。
は七の他のものである。このように製造された導電性繊
維は印刷回路板の作製に用いられる。
一般式(1)の本発明の単量体化合物の電気化学的重合
は1例えば、白金又はイシジウムー酸化チタン(lrc
)、あるいはタングステン、チタン。
は1例えば、白金又はイシジウムー酸化チタン(lrc
)、あるいはタングステン、チタン。
ニオブ、鉛又は黒鉛製の陽極(了ノード)を用いて単一
の室槽内で実施できる。
の室槽内で実施できる。
従って1本発明の別の要旨によると、前記の一般式(1
)の学量体状チオフェン化合物を、このチオフェン化合
物の酸化電位と少なくとも同じ高さの電気的に正(陽)
である電気重圧で電気化学的酸化反応に非水系溶媒中で
かけることから成る。
)の学量体状チオフェン化合物を、このチオフェン化合
物の酸化電位と少なくとも同じ高さの電気的に正(陽)
である電気重圧で電気化学的酸化反応に非水系溶媒中で
かけることから成る。
ポリチオフェン誘導体の製造方法が提供される。
また1本発明の更に別の要旨によると1次の一般式
〔式中、R及びRは特許請求の範囲第1項に記載の意味
と同じである〕の反復単位と式Zのカウンターイオン(
但し2は塩素イオン、臭素イオン、IRR1イオン、重
2P2(bisulphate ) イオy。
と同じである〕の反復単位と式Zのカウンターイオン(
但し2は塩素イオン、臭素イオン、IRR1イオン、重
2P2(bisulphate ) イオy。
硝酸イオン、テトラフルオロ硼酸イオン、アルキルスル
ホン酸イオン、アルキルスルホン酸イオン。
ホン酸イオン、アルキルスルホン酸イオン。
アーレンカんボン酸イオン、アルキルカルざン酸イオン
、アルキルカルざン酸イオン、ポリスチレンスhホン酸
イオン、ポリアクリル酸イオン。
、アルキルカルざン酸イオン、ポリスチレンスhホン酸
イオン、ポリアクリル酸イオン。
セルローズ・スんホン酸イオン、セルローズ・硫酸イオ
ン、アンスラセンスルホン酸イオン。
ン、アンスラセンスルホン酸イオン。
・ンー弗葉化さ八た、πリアニオンである)とから成る
重合体が提供される。
重合体が提供される。
前記の電気化学的酸化反応に用いる電解質店は上記のカ
ウンターイオンZを与えるように選択されるものである
。
ウンターイオンZを与えるように選択されるものである
。
また、この電気化学的酸化反応に用いる非水系溶媒の好
ましい例は、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、ジクロロエタン、ニトロメタ7、ニトロベンゼ
ン、テロピレン・カーne4−ト、N−メチルピロリド
ン、スルホラン、ジメチルホルムアミド又はジメチルス
ルホ中シトで)。
ましい例は、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、ジクロロエタン、ニトロメタ7、ニトロベンゼ
ン、テロピレン・カーne4−ト、N−メチルピロリド
ン、スルホラン、ジメチルホルムアミド又はジメチルス
ルホ中シトで)。
るーこの溶媒は夫々単独に、あるいは2種以上の混合溶
媒としても使用できる。
媒としても使用できる。
一般式(1)の本発明の単量体チオフェン化合物は単に
化学的手法でも重合できる。従って1本発明の別の要旨
によると、次の一般式 〔式中、R及びRは前記と同じ意味をもつ〕の単量体状
チオフェン化合物を、このチオフェン化合物の酸化電位
より高い標$酸化還元(レドックス)電圧をもつ酸化剤
で酸化することから成る・前記ポリチオフェン誘導体の
製造方法が提供さnる。この酸化は単相反応又は多相反
応として触媒の存在下又は不存在下に実施できる。適当
な例のnyvmm 酸化剤は、 Ag 、 Cu 、 Ce 、 Mo 、
Ru 、 Mn 。
化学的手法でも重合できる。従って1本発明の別の要旨
によると、次の一般式 〔式中、R及びRは前記と同じ意味をもつ〕の単量体状
チオフェン化合物を、このチオフェン化合物の酸化電位
より高い標$酸化還元(レドックス)電圧をもつ酸化剤
で酸化することから成る・前記ポリチオフェン誘導体の
製造方法が提供さnる。この酸化は単相反応又は多相反
応として触媒の存在下又は不存在下に実施できる。適当
な例のnyvmm 酸化剤は、 Ag 、 Cu 、 Ce 、 Mo 、
Ru 、 Mn 。
KCrO,l(O又は(NH4)2S208 で多、
す、酸化度応は所望ならば触媒の存在下に行うがよい。
す、酸化度応は所望ならば触媒の存在下に行うがよい。
その触媒は倒れかの遷移金属のイオンであるのがよく、
その好適な例はMo 、 Ru 及びMn である。
その好適な例はMo 、 Ru 及びMn である。
単相反応が必要である場合、溶媒はトルエン、ジクロロ
メタン、ジメチルホルムアミド、クロロベンゼン、クロ
ロホルム又はニトロベンゼンでアルか。
メタン、ジメチルホルムアミド、クロロベンゼン、クロ
ロホルム又はニトロベンゼンでアルか。
あるいはこれらの2種又はそれ以上の混合溶剤であるの
が好ましい、ま九、多相反応が必要である場合には、水
性相と有機溶媒相とによって非混和性の溶媒系を使用で
きる。このように化学的な重合反応を行うには1反応温
度は20〜1109Cの範囲であるのがよい、生成され
た重合体は、非混和性の溶媒系の界面で薄膜として得ら
れるか、あるいは例えばヘキサンで沈澱させることによ
り粉末として得られる。
が好ましい、ま九、多相反応が必要である場合には、水
性相と有機溶媒相とによって非混和性の溶媒系を使用で
きる。このように化学的な重合反応を行うには1反応温
度は20〜1109Cの範囲であるのがよい、生成され
た重合体は、非混和性の溶媒系の界面で薄膜として得ら
れるか、あるいは例えばヘキサンで沈澱させることによ
り粉末として得られる。
本発明l)一般式(1)のチオフェン単量体化合物は、
そ・0他の単量体1例えばビロール又はチオフェン、若
しくは相互に共重合できる別種側れかの単量体、例えば
スチレン及びN−ビニんカルバゾールとも共重合できる
。
そ・0他の単量体1例えばビロール又はチオフェン、若
しくは相互に共重合できる別種側れかの単量体、例えば
スチレン及びN−ビニんカルバゾールとも共重合できる
。
−ま72.$発明によって得られる一般式(1)のチオ
フェン単酋体化合物の重合体は、これを他種の重合体、
例えばポリ塩化ビニル、f!llエチレン。
フェン単酋体化合物の重合体は、これを他種の重合体、
例えばポリ塩化ビニル、f!llエチレン。
、J?リプロピレン、7y?11スチレン、ナイロン、
アクリロニトリル/ブタジェン/スチレン共M合体。
アクリロニトリル/ブタジェン/スチレン共M合体。
ポ11エチレン・テレフタレート又ハーリエチレン・オ
キサイドと配合して配合物にすることができる・このよ
うな重合体配合物は、一般式(1)のチオフェン化合物
の重合体の5〜70%(重t)と別種の重合体の95〜
30%(重量)とを含有する。こnらの重合体配合物は
良好な導電性と良好な静電防止性全層する。
キサイドと配合して配合物にすることができる・このよ
うな重合体配合物は、一般式(1)のチオフェン化合物
の重合体の5〜70%(重t)と別種の重合体の95〜
30%(重量)とを含有する。こnらの重合体配合物は
良好な導電性と良好な静電防止性全層する。
本発明の一般式(I)のチオフェン単1体化合物の重合
体は、ポリ塩化ビニルの如き重合体の多孔質フィルムの
上に、化学的な酸化的重合法によって又は電気化学的な
重合法によって直接に沈着。
体は、ポリ塩化ビニルの如き重合体の多孔質フィルムの
上に、化学的な酸化的重合法によって又は電気化学的な
重合法によって直接に沈着。
生成させることもでき、あるいは、又は同時に多孔質フ
ィルム中に浸透させることもできる。このように形成さ
れた複合材の表面は永久的に導電性を示し且つ良好な静
電防止性(表面のδ: 1O−5S口)、このような表
面には、染料、顔料を塗着することもでき、その色は静
電防止性を損わずに改変できる。この手段を利用すると
、前記の複合材から静電防止性の床材又はマット類を作
製できる・ 更に1本発明による前記チオフェン単量体化合物の重合
体は、これでタルク、雲母の如き非導電性の物質で被覆
でき、この被覆には酸化的又は電気化学的な重合法を利
用できる。このように被層さnた粉末物質は、導電性の
重合体複合材の形α用の充填剤として有用である。
ィルム中に浸透させることもできる。このように形成さ
れた複合材の表面は永久的に導電性を示し且つ良好な静
電防止性(表面のδ: 1O−5S口)、このような表
面には、染料、顔料を塗着することもでき、その色は静
電防止性を損わずに改変できる。この手段を利用すると
、前記の複合材から静電防止性の床材又はマット類を作
製できる・ 更に1本発明による前記チオフェン単量体化合物の重合
体は、これでタルク、雲母の如き非導電性の物質で被覆
でき、この被覆には酸化的又は電気化学的な重合法を利
用できる。このように被層さnた粉末物質は、導電性の
重合体複合材の形α用の充填剤として有用である。
実施例1
3−(メトキシエトキシメチル)チオフェン(1)の製
造 四塩化炭素(25d)に溶かし几3−(ブロムメチル)
チオフェン(6,2g、 0.035モル)の溶液t、
メトキシエタノール(90d)に溶かし之ナトリウム
メト千ジェトキシド(s、q 9.0.0(7モル)の
溶液に添加し、この混合物を2時間加熱還流させた。室
温に冷却後に、溶剤混合物を減圧下に除去し、得られる
油状物をジクロルメタン(100rnl )に溶解させ
、蒸留水(2x+oo−)で抽出し、炭酸カリウム上で
乾燥させた・溶剤の除去後に、粗製の油状物を減圧下に
蒸留して3−(メトキシエトキシメチル)チオフェン(
3,09゜50%)k得7t e 8点100〜l O
IoC/ l OmtnHg・ 実測1直:c、 ss、0 ; H,6−3; S、
+7.64C8H1202Sの計算値: C,55
4; H,7,0; S、1g−6’SEI m/e
強度(%) : 172 (5,M+)、 97 (
12゜C4H,S、CH2); δIT(CDC/、
) ニア、05−7−24 (3H,r*)、a、5
3(2H,s)、 3.54 (4H,m)及び3.3
4 (3H,s); δC(CDL:+5 ) ”59
.6. 67.0.69.7.72.5゜173.4.
126.5. 127.9. 140.0ppm・ 実施例2 メトキシエトキシエタノール(too−)に溶かしたナ
トリウム メト牟シェトキシェトギシド(29,69,
0,2モA)の溶液を、四塩化炭素(2,5−)に溶か
した3−(ブロムメチル)チオフェン(12,49,0
,07モル)の溶液に添加し、この混合物を12時間加
熱還流させ次。実施例1に記載し之如く操作すると粗製
の油状物を得、これを減圧下で蒸留すると3−(メトキ
シエトキシエトキシメチル)チオフェン(7,o、La
61I)を得た。沸点136〜13811C/ l O
nlnlHg 。
造 四塩化炭素(25d)に溶かし几3−(ブロムメチル)
チオフェン(6,2g、 0.035モル)の溶液t、
メトキシエタノール(90d)に溶かし之ナトリウム
メト千ジェトキシド(s、q 9.0.0(7モル)の
溶液に添加し、この混合物を2時間加熱還流させた。室
温に冷却後に、溶剤混合物を減圧下に除去し、得られる
油状物をジクロルメタン(100rnl )に溶解させ
、蒸留水(2x+oo−)で抽出し、炭酸カリウム上で
乾燥させた・溶剤の除去後に、粗製の油状物を減圧下に
蒸留して3−(メトキシエトキシメチル)チオフェン(
3,09゜50%)k得7t e 8点100〜l O
IoC/ l OmtnHg・ 実測1直:c、 ss、0 ; H,6−3; S、
+7.64C8H1202Sの計算値: C,55
4; H,7,0; S、1g−6’SEI m/e
強度(%) : 172 (5,M+)、 97 (
12゜C4H,S、CH2); δIT(CDC/、
) ニア、05−7−24 (3H,r*)、a、5
3(2H,s)、 3.54 (4H,m)及び3.3
4 (3H,s); δC(CDL:+5 ) ”59
.6. 67.0.69.7.72.5゜173.4.
126.5. 127.9. 140.0ppm・ 実施例2 メトキシエトキシエタノール(too−)に溶かしたナ
トリウム メト牟シェトキシェトギシド(29,69,
0,2モA)の溶液を、四塩化炭素(2,5−)に溶か
した3−(ブロムメチル)チオフェン(12,49,0
,07モル)の溶液に添加し、この混合物を12時間加
熱還流させ次。実施例1に記載し之如く操作すると粗製
の油状物を得、これを減圧下で蒸留すると3−(メトキ
シエトキシエトキシメチル)チオフェン(7,o、La
61I)を得た。沸点136〜13811C/ l O
nlnlHg 。
実測値: C,56,O; I(,7,O; S、+
5.l 4C7l)H16032)ノ計算値: c、s
s、s; l(,7,4; S、+4.8 %EI
m/e強度(%) : 2+6 CI2 M+)、 9
7 (too。
5.l 4C7l)H16032)ノ計算値: c、s
s、s; l(,7,4; S、+4.8 %EI
m/e強度(%) : 2+6 CI2 M+)、 9
7 (too。
C,H3S 、CH,) ;δH(CDcz、 ) :
6.96−’L17 (311,m)、4.a5(2
肌m)、 3.50 (all、 m)。
6.96−’L17 (311,m)、4.a5(2
肌m)、 3.50 (all、 m)。
3.40 (41(、m)及び3.26(3Ii+ s
)、δC(CDCj5)”5g、3.66.1.69−
2.70−2゜70.4.7+、7,121.7゜ +25−2. 126−7、 139.6 ppm 。
)、δC(CDCj5)”5g、3.66.1.69−
2.70−2゜70.4.7+、7,121.7゜ +25−2. 126−7、 139.6 ppm 。
実施例3
!トキシェトキシェトキシェト牛ジェタノール(25・
09.O,1モル)を技術的に既知の方法によりテトラ
エチレン グリコールと水酸化ナト1リワムと塩化グチ
ル(IQ:l:I)とから調製し次いでテトラヒドロフ
ラン中で室温で1.5時間カリワム金i(3,9,9,
0,1モル)と反応させ念。
09.O,1モル)を技術的に既知の方法によりテトラ
エチレン グリコールと水酸化ナト1リワムと塩化グチ
ル(IQ:l:I)とから調製し次いでテトラヒドロフ
ラン中で室温で1.5時間カリワム金i(3,9,9,
0,1モル)と反応させ念。
3−(ブロムメチル)チオフェン(17,79゜0.1
モル)を滴加し、この混合物を24時間還流下に攪拌し
た。冷却及びr過後に、テトラヒドロフランを真空中で
除去し、残渣を塩化メチレンに溶解させ、水洗し、炭酸
カリウムで乾燥させた。
モル)を滴加し、この混合物を24時間還流下に攪拌し
た。冷却及びr過後に、テトラヒドロフランを真空中で
除去し、残渣を塩化メチレンに溶解させ、水洗し、炭酸
カリウムで乾燥させた。
溶剤を除去し、粗製の油状物を蒸留して3−ブトキシエ
トキシエトキシエトキシエトキシメチン)チオフェン(
25,7g、57%を得た。沸点!62〜163°C/
O,I 5 nnmHg 。
トキシエトキシエトキシエトキシメチン)チオフェン(
25,7g、57%を得た。沸点!62〜163°C/
O,I 5 nnmHg 。
実測値: C’、5g、6; H,g、7; S、9.
54C1,H3oO5S)計算値: C,5L9; H
,I3.7; S、9.3 %EIm/c強度(’l)
: 346 (9,M+)、 97 (+00゜c
4H,S 、C1(2)、57(75、caH9);δ
Fl(CDC15): 1−26 (In、 rn)7
.20 (IH,m)、 7.06 (IH。
54C1,H3oO5S)計算値: C,5L9; H
,I3.7; S、9.3 %EIm/c強度(’l)
: 346 (9,M+)、 97 (+00゜c
4H,S 、C1(2)、57(75、caH9);δ
Fl(CDC15): 1−26 (In、 rn)7
.20 (IH,m)、 7.06 (IH。
+n)、 4.56 (2H,+1)、 3.65(+
6H,m)、 3.45 (2H,tLl−53(2H
,m)、 1.34 (28゜m)及び0.91 (3
H,L); δC(CDC/3): 13.6. +8.9゜3
+、a、bs一番、69.0.694゜70.0.70
.3. 122.5. 125.5゜H6,7,139
,1ppme 実施例4 の製造 カリウム フタルイミド(s、7g、o、o3モル)と
18−クラウン−6−エーテル(50v)とを。
6H,m)、 3.45 (2H,tLl−53(2H
,m)、 1.34 (28゜m)及び0.91 (3
H,L); δC(CDC/3): 13.6. +8.9゜3
+、a、bs一番、69.0.694゜70.0.70
.3. 122.5. 125.5゜H6,7,139
,1ppme 実施例4 の製造 カリウム フタルイミド(s、7g、o、o3モル)と
18−クラウン−6−エーテル(50v)とを。
N、N−ジメチルホルムアミド(7ou)に溶解した3
−(ブロムメチル)チオフェンC5,59゜0.03モ
ル)の攪拌溶液に添加した。この混合物を3時間sO〜
90’Cで攪拌し次いで冷却し且っr遇し念。F液を破
砕し友氷(約+ooy)に添加し、5時間攪拌し念・得
られる固体を収集し。
−(ブロムメチル)チオフェンC5,59゜0.03モ
ル)の攪拌溶液に添加した。この混合物を3時間sO〜
90’Cで攪拌し次いで冷却し且っr遇し念。F液を破
砕し友氷(約+ooy)に添加し、5時間攪拌し念・得
られる固体を収集し。
乾燥し、無水エタノールから再結晶させると3−(N−
7タルイミドメチル)チオフェン< 5.2 g。
7タルイミドメチル)チオフェン< 5.2 g。
72%)を得た。融点128〜130°C6実測値:
C,64,4; H,A、O;N、5.5;S、13.
3 チ CI 5H9NO2”の計算値: C,64,2; H
,3,7; N、5.g;S、13.2 % EIm/e強度(4): 243 (too、 M )
、 97 (+4゜CH8,CH2); IR(ヌジョール) : 169Qcm ;
δH(CDe/ ): 7.65−1−FE5
(4H,m)、 7.15−7.35(3H,m)、
a、ga (2H,a);δC(CDC/、): 36
.2.123.3゜124.2.126.2.128.
1゜132.1.134.0.136.6゜167.8
1)I)m・ 無水エタノール(200m)に入れたヒドラジン水和物
C1,4−、0,03ミリモル)と3−(N−フタルイ
ミドメテル)チオフェン(&、4,9゜0.026モル
)との混合物を12時間還流させた。
C,64,4; H,A、O;N、5.5;S、13.
3 チ CI 5H9NO2”の計算値: C,64,2; H
,3,7; N、5.g;S、13.2 % EIm/e強度(4): 243 (too、 M )
、 97 (+4゜CH8,CH2); IR(ヌジョール) : 169Qcm ;
δH(CDe/ ): 7.65−1−FE5
(4H,m)、 7.15−7.35(3H,m)、
a、ga (2H,a);δC(CDC/、): 36
.2.123.3゜124.2.126.2.128.
1゜132.1.134.0.136.6゜167.8
1)I)m・ 無水エタノール(200m)に入れたヒドラジン水和物
C1,4−、0,03ミリモル)と3−(N−フタルイ
ミドメテル)チオフェン(&、4,9゜0.026モル
)との混合物を12時間還流させた。
水いで儂塩a2(5−)k添加し、還流を更に30分間
持続させた。次いでこの溶液をO’Cで16時間貯蔵し
、F液を真空中で蒸発させると白色固体が残った。この
固体を蒸留水(50v)に溶解させ、該溶g!Ltp過
し、P液を真空中で蒸発させると黄色店体を得九。無水
エタノ−八から再結晶させると3−(アミンメチル)チ
オフェン[酸[(3,519o4)を得た。
持続させた。次いでこの溶液をO’Cで16時間貯蔵し
、F液を真空中で蒸発させると白色固体が残った。この
固体を蒸留水(50v)に溶解させ、該溶g!Ltp過
し、P液を真空中で蒸発させると黄色店体を得九。無水
エタノ−八から再結晶させると3−(アミンメチル)チ
オフェン[酸[(3,519o4)を得た。
融点+bs″cC分解)
実測値 : C,Ao、4: H,5,O; N、9.
6;8.21.2 C5H8NSCIの計算値 : C,40,l; H
,5,3; N、9.4;3.21.4 4 S)!(1)20): ’1.04〜7.2A C3
11m)、 5.33 (@広。
6;8.21.2 C5H8NSCIの計算値 : C,40,l; H
,5,3; N、9.4;3.21.4 4 S)!(1)20): ’1.04〜7.2A C3
11m)、 5.33 (@広。
s)、 D2Q中の交換1本) 、 3.80 (2
)1゜3); δC(D20): 40.7. +
2L7. 130.3゜+3s、g ppm。
)1゜3); δC(D20): 40.7. +
2L7. 130.3゜+3s、g ppm。
トリエチルアミン(o、a 6 g、 a、aミリモ
ル)を、−5″Cで窒素下に維持し次無水ジクロルメタ
ン(20mg)に懸濁させ7’h3−(アミノメチル)
チオフェン塩酸塩(0,6i4ミリモル)の攪拌懸濁液
KM加しt、15分後に塩化アセナル(0,31g、4
ミリモル)を前記溶液に潤油し、次いで該溶液を一5°
Cで3時間攪拌した。この攪拌期間後に反応混合物を希
HC/ (s oat、 0.5 M )及び希NaO
H(50m、 0.5 M )で順次洗浄した。
ル)を、−5″Cで窒素下に維持し次無水ジクロルメタ
ン(20mg)に懸濁させ7’h3−(アミノメチル)
チオフェン塩酸塩(0,6i4ミリモル)の攪拌懸濁液
KM加しt、15分後に塩化アセナル(0,31g、4
ミリモル)を前記溶液に潤油し、次いで該溶液を一5°
Cで3時間攪拌した。この攪拌期間後に反応混合物を希
HC/ (s oat、 0.5 M )及び希NaO
H(50m、 0.5 M )で順次洗浄した。
有機/at−分離し、硫酸マグネシウムで乾燥させ。
溶剤を真空中で除去すると粗製物を生成し、これをヘキ
サンから再結晶させるとN−(3−チエニルメチル)ア
セト了ミド(0,52,1g 5% )を得た。
サンから再結晶させるとN−(3−チエニルメチル)ア
セト了ミド(0,52,1g 5% )を得た。
融点46〜47°Cゆ
実測値: C,53,5; H,6−2; N、g、
7; S。
7; S。
20.4 4
C,H7NO8ノ計算値: C054,2; H,5
4: N、9−0: S。
4: N、9−0: S。
20.7 %
IR(ヌジョール) : 3250.1650cm
; E1m/e強度価) : 155 (37,
M )。
; E1m/e強度価) : 155 (37,
M )。
+12 (55,C4HSS、CH2NH)、 97C
29,C4H,S、CI(2183(+2゜C,H,S
); δH(CDC/3) 7.00−7.29(3H
,m)、 6−26 (Il、幅広、S)。
29,C4H,S、CI(2183(+2゜C,H,S
); δH(CDC/3) 7.00−7.29(3H
,m)、 6−26 (Il、幅広、S)。
4.41 (2H,d)、 1.’?3 (3H
,s): δC(cDez、): 23.1.38−7
゜122.2. 126−3. 127.3. 139
.8゜170.0 ppm・ 実施例5 (5)の製造 実施例4と11じ反応条件分用いて、3−(アミノメチ
ル)チオフェン塩漬u(4ミリモル)トトリエチルアミ
ン(a、、Sミリモル)と塩化オクタノイル(40ミリ
モル)とを反応させてN−(3−チエニルメチA−)オ
クタンアミド(0,85189僑)を得友。融点71〜
72°C0 実測値: C,65,O; H+g、a; N、5.7
; S。
,s): δC(cDez、): 23.1.38−7
゜122.2. 126−3. 127.3. 139
.8゜170.0 ppm・ 実施例5 (5)の製造 実施例4と11じ反応条件分用いて、3−(アミノメチ
ル)チオフェン塩漬u(4ミリモル)トトリエチルアミ
ン(a、、Sミリモル)と塩化オクタノイル(40ミリ
モル)とを反応させてN−(3−チエニルメチA−)オ
クタンアミド(0,85189僑)を得友。融点71〜
72°C0 実測値: C,65,O; H+g、a; N、5.7
; S。
13.2 %
C45H2,NOSノ計算値: C,65,3;
11.S−8; N、5.9; S。
11.S−8; N、5.9; S。
13.4 %
El、 m/e強度(4”):239 (+9. M
)、 97 (63゜C4H3S 、CH2);δH(
CDc/、)7.03−7−33 (3H,m)、 5
−60(IH−幅広、 3)、 144 (2’H。
)、 97 (63゜C4H3S 、CH2);δH(
CDc/、)7.03−7−33 (3H,m)、 5
−60(IH−幅広、 3)、 144 (2’H。
d)、 2.19 (2H,L)、 1.61(2B、
m)、 1.2g (1!、 rn)。
m)、 1.2g (1!、 rn)。
0.87 (3H,t);δC(CDC/5 ) :+
a、2+ 22.7.25.8.29.1゜2q、3.
3+、L 36.9.38!。
a、2+ 22.7.25.8.29.1゜2q、3.
3+、L 36.9.38!。
122.3. 126.5. 127.1゜+4o、o
、173.1 pT)m。
、173.1 pT)m。
実施例6
の製造
実施例4と同じ反応条件全周いて、3−(アミ/ 、l
f 、% ) fオフエン塩酸塩(4ミリモル)トト
リエチへアミン(a、aミリモん)と塩化ドデヵノイA
(4ミリモル)とを反応さすてN−(3−チエニルメチ
ル)ドデカン了ミド(+、+ 、9. 924)を得な
・融点g3〜84°C6 実測位: C,6g、9; H,IO,2; N、4.
g;S、Io、8 % C,、H2,NO8o計算値: C,69,l; H,
94; N、、4.7;S、IO,9繋 E工m/e強gf%) : 295 (IL M )
、 97 (46゜CHS、C1(); δH(CD
Cj )7.01−7.30 (3H,m)、5−
a。
f 、% ) fオフエン塩酸塩(4ミリモル)トト
リエチへアミン(a、aミリモん)と塩化ドデヵノイA
(4ミリモル)とを反応さすてN−(3−チエニルメチ
ル)ドデカン了ミド(+、+ 、9. 924)を得な
・融点g3〜84°C6 実測位: C,6g、9; H,IO,2; N、4.
g;S、Io、8 % C,、H2,NO8o計算値: C,69,l; H,
94; N、、4.7;S、IO,9繋 E工m/e強gf%) : 295 (IL M )
、 97 (46゜CHS、C1(); δH(CD
Cj )7.01−7.30 (3H,m)、5−
a。
(IH,幅広、 s)、 a−46(2H。
d)、2.20 (21(、t)、 +、g。
(2H,m)、1.25 (16H,to)。
0.87 (3B、t);
実施例7
ナトリウム(2,C)5J、87ミ11モル)ヲアルゴ
ン雰吐気下にメトキシエタノールCl25m/)に添加
し7?、。ナ) IIウムが溶解した時、酸化算I C
U’)(1,25u、16ミリモル)とヨウ化カリウム
(0,05、!v、 0.3 ミリモル)との混合物
全添加し続いて3−ブロムチオフェン(5,y’、31
ミリモ/L−)いで添加し、この混合物を更に2日間1
000Cでffl拌した。ジエチルエーテルで溶離した
シリカカラム上で粗製物音クロマトダラフイーにかける
と燕色油として3−(メト中ジェトキシ)チオフェン(
3,3g、68憾)を得た。
ン雰吐気下にメトキシエタノールCl25m/)に添加
し7?、。ナ) IIウムが溶解した時、酸化算I C
U’)(1,25u、16ミリモル)とヨウ化カリウム
(0,05、!v、 0.3 ミリモル)との混合物
全添加し続いて3−ブロムチオフェン(5,y’、31
ミリモ/L−)いで添加し、この混合物を更に2日間1
000Cでffl拌した。ジエチルエーテルで溶離した
シリカカラム上で粗製物音クロマトダラフイーにかける
と燕色油として3−(メト中ジェトキシ)チオフェン(
3,3g、68憾)を得た。
実測値: C,52,8; H,6,O; S、20
.1 俤C7H,。O8の計算値: C,53,I;
H,6,3; S、20.3係EI m/e 強
度i : +sg (25,M )、 too
(26゜C,H40S)、 59 (+00. C,H
,O)。
.1 俤C7H,。O8の計算値: C,53,I;
H,6,3; S、20.3係EI m/e 強
度i : +sg (25,M )、 too
(26゜C,H40S)、 59 (+00. C,H
,O)。
As (50,C2H60);δ11(CDC/S)6
.23−7.16 (3H,m)、4.07(2)1.
t)、 3.70 (2H,t)。
.23−7.16 (3H,m)、4.07(2)1.
t)、 3.70 (2H,t)。
3、C2(3B、 a);δC(CDCi、 ):5g
、9.69.2,70.8.’?7.2゜119.4.
124.5 ppmG実施例8 (8)の製造 実施例7と同じ反応条件を用いて、メト中ジェトキシエ
タノール(+25./)中のナトリウム(2,0g)と
酸化塔(旧(1,25g)とヨウ化カリウム(0,05
9’)とに3−ブロムチオフェン(5、Ofl 、
0.031ミリモル)と反応させ之。ジエナルエーテん
で溶離したシリカカラム上で粗製物をクロマトグラフィ
ーにかけると無色油として3−(メトΦシェド中シェド
中シ)チオフェン(2,1y、34%)を生成し之・ 実測値: C,53,O; I(,6,8; S・1
5・7%C6H1405Sの計算値: C,53,A
; H,6,9; S、+5.9 %II m/e
強度1%) : 202 (3,M )、 +00
((?。
、9.69.2,70.8.’?7.2゜119.4.
124.5 ppmG実施例8 (8)の製造 実施例7と同じ反応条件を用いて、メト中ジェトキシエ
タノール(+25./)中のナトリウム(2,0g)と
酸化塔(旧(1,25g)とヨウ化カリウム(0,05
9’)とに3−ブロムチオフェン(5、Ofl 、
0.031ミリモル)と反応させ之。ジエナルエーテん
で溶離したシリカカラム上で粗製物をクロマトグラフィ
ーにかけると無色油として3−(メトΦシェド中シェド
中シ)チオフェン(2,1y、34%)を生成し之・ 実測値: C,53,O; I(,6,8; S・1
5・7%C6H1405Sの計算値: C,53,A
; H,6,9; S、+5.9 %II m/e
強度1%) : 202 (3,M )、 +00
((?。
C4H408)、59(53,C3H70)。
45 (+2. C2H50);δH(cpei、)6
.22−7.15 (3H,m)、 4.05(2)1
. m)、 3−76 (2H,m)。
.22−7.15 (3H,m)、 4.05(2)1
. m)、 3−76 (2H,m)。
3.65 (2H,m)、 2.53 (2H。
m)、 3.34 (3H,@);
δC(CDCi、): 5L6.69.2゜6’LA、
70.3.7+、6.97.2゜目9.2. 124.
4 ppm。
70.3.7+、6.97.2゜目9.2. 124.
4 ppm。
実施例9
製造
実施例7と同じ反応条件を用いて、エチレングIIコー
ル(+2sy)中のナトリウム(2,Ofi )。
ル(+2sy)中のナトリウム(2,Ofi )。
酸化鋼(n) (1,259)及びヨウ化力I】ラム(
Q、05g)を3−ブロムチオフェンC5,09゜0.
031ミリモル)と反応させた。最初はジクロルメタン
で溶離し次いでジクロルメタン/メタノール(95:5
)の混合物で溶離!−之シリカカラム上Tm−W物金ク
ロマトグラフィーにかけると白色固体として3−(ヒド
ロキシエトキシ)チオフェン(1,9p、43%)全生
成し友。融点38〜39°C,。
Q、05g)を3−ブロムチオフェンC5,09゜0.
031ミリモル)と反応させた。最初はジクロルメタン
で溶離し次いでジクロルメタン/メタノール(95:5
)の混合物で溶離!−之シリカカラム上Tm−W物金ク
ロマトグラフィーにかけると白色固体として3−(ヒド
ロキシエトキシ)チオフェン(1,9p、43%)全生
成し友。融点38〜39°C,。
実測値: C,C9,2; H,5,3; S、
21.94C6H6o2Sの計算値: C,50,
Oi )1.5.6; S、22.34EI m/e
強ip) : 14& (100,M )、 too
(47゜C,H40S)、 As (+7. C2
H50);δH(CDCt、)6.10−7.11 (
3H。
21.94C6H6o2Sの計算値: C,50,
Oi )1.5.6; S、22.34EI m/e
強ip) : 14& (100,M )、 too
(47゜C,H40S)、 As (+7. C2
H50);δH(CDCt、)6.10−7.11 (
3H。
rn)、4.16 (2H,m)、3.8a(2I(
、m); δC(CDCi、): bo4゜7+、4
. 97.7. 119.4. +244゜157.
4 ppm。
、m); δC(CDCi、): bo4゜7+、4
. 97.7. 119.4. +244゜157.
4 ppm。
固体のp−トhエンスルホニん クロライド(0,88
fl、 4.6 ミIIモx )t−1無水k”)
シ:y(50d)に溶かした3−(ヒドロキシエトキシ
)チオフェン(o、6 g 、 4.2ミリモル)の
冷即(−5゜C)溶液に少量ずつ添加した。この混合物
を10分間攪拌し次いで一20°Cで4g時間音持し念
。
fl、 4.6 ミIIモx )t−1無水k”)
シ:y(50d)に溶かした3−(ヒドロキシエトキシ
)チオフェン(o、6 g 、 4.2ミリモル)の
冷即(−5゜C)溶液に少量ずつ添加した。この混合物
を10分間攪拌し次いで一20°Cで4g時間音持し念
。
次いでこの混合物全5時間破砕氷と共に攪拌し念。
r通抜に、固体を高gへ中サンから2回再結晶させると
白色結晶性生成物として3−(トルエンスルホ0ルエト
千シ)チオフェン(+、O,l g 3%)を得た。
白色結晶性生成物として3−(トルエンスルホ0ルエト
千シ)チオフェン(+、O,l g 3%)を得た。
融点76〜77°C。
実測値: c、52−1; li、a、5; N、21
.8憾C1,H44S204の計算値: C,5’、
3; H,4,7; N、21.5 壬EI rn/
e強f <@ : 79B (0,5M )、 +9
9 (57゜トシル−OL:H2C)(2) ; a
H(CDC/、)’1.3−1.’7 (AH,m)、
7.0 (IH。
.8憾C1,H44S204の計算値: C,5’、
3; H,4,7; N、21.5 壬EI rn/
e強f <@ : 79B (0,5M )、 +9
9 (57゜トシル−OL:H2C)(2) ; a
H(CDC/、)’1.3−1.’7 (AH,m)、
7.0 (IH。
m)、 6.5 (IIl、 m)、 6.0 (I)
I。
I。
m)、 4.2 (2H,t)、 4.0 (2H。
t)、 2.4 (3)(、8)、δC(CDC!、)
: 21.7. 6?、5. 610. 9g、1゜
119.3.125.0.12g、0゜1’9.9 p
pm@ エンの製造 3−(トルエンスルホニルエトキシ)チオフェン(0,
4,9、+、aミリモル)及ヒカリウムフタんイミド(
0,3g、1.6ミリモル)ヲ、ジメチルホルムアミr
(60gtt)中の18−クラウン−6−エーテル(5
0キ)と共に12時間65°Cで一緒に攪拌し友。この
混合物を室温に冷却し、破砕水中で嘗2時間攪拌した。
: 21.7. 6?、5. 610. 9g、1゜
119.3.125.0.12g、0゜1’9.9 p
pm@ エンの製造 3−(トルエンスルホニルエトキシ)チオフェン(0,
4,9、+、aミリモル)及ヒカリウムフタんイミド(
0,3g、1.6ミリモル)ヲ、ジメチルホルムアミr
(60gtt)中の18−クラウン−6−エーテル(5
0キ)と共に12時間65°Cで一緒に攪拌し友。この
混合物を室温に冷却し、破砕水中で嘗2時間攪拌した。
得られる固体をr過し・無水エタノールから再結晶させ
ると白色結晶性生成物(0,261724’)を得念、
融点146〜147°C0 実測値 : C,62,3; H,a、I; N、A、
9;S、l10g僑 C)INO8の計算値 : C,61,5; H,
4,O; N、5.l;S、111−7 4EI/e強度ei19 : 273 (4,1M
)、 +74 (+00゜フタル−NCH2CH2);
aH(crx:t、 )7.6−7.9 (aH,
m)、 7−0 (lH,mL 6.6 (暑
H,m)、 6.2(IH,m)、 4.1 (2
8,t)。
ると白色結晶性生成物(0,261724’)を得念、
融点146〜147°C0 実測値 : C,62,3; H,a、I; N、A、
9;S、l10g僑 C)INO8の計算値 : C,61,5; H,
4,O; N、5.l;S、111−7 4EI/e強度ei19 : 273 (4,1M
)、 +74 (+00゜フタル−NCH2CH2);
aH(crx:t、 )7.6−7.9 (aH,
m)、 7−0 (lH,mL 6.6 (暑
H,m)、 6.2(IH,m)、 4.1 (2
8,t)。
4.0 (2H,t);δc(cDcl’):37.2
. 66J、 97.9. 119.5゜123.3
. 12a、7. 132.0゜134.0 ppm
a の製造 ヒドラジン水和物(0,7m、 0.015ミリモル
)を、高温無水エタノール(200−)に溶かした3−
N−(フタルイミドエトをシ)チオフェン(2,69、
’?、5 ミ11モル)の溶液に徐々に添加し、この混
合物を窒素下で12時間還流攪拌した。a塩酸(5−)
をこの反応系に則心に添加し、還流を更に30分間持続
させた。冷却及びt過後に、P液を蒸発乾固させると白
色結晶質固体が残りこれを水で抽出した・f過し且つ水
を除去すると3−(アミノエトキシ)チオフェン(+、
5g、gs4)を得念。
. 66J、 97.9. 119.5゜123.3
. 12a、7. 132.0゜134.0 ppm
a の製造 ヒドラジン水和物(0,7m、 0.015ミリモル
)を、高温無水エタノール(200−)に溶かした3−
N−(フタルイミドエトをシ)チオフェン(2,69、
’?、5 ミ11モル)の溶液に徐々に添加し、この混
合物を窒素下で12時間還流攪拌した。a塩酸(5−)
をこの反応系に則心に添加し、還流を更に30分間持続
させた。冷却及びt過後に、P液を蒸発乾固させると白
色結晶質固体が残りこれを水で抽出した・f過し且つ水
を除去すると3−(アミノエトキシ)チオフェン(+、
5g、gs4)を得念。
実測@: C,39,g; H,5,8: N、g、
l %C6H1゜N08C/の計算値: C,40,
I; H,5,6; N、7.84δH(CDCl2)
7.1 (IH,m)、6−7 (IH,m)、6
−2 (’H,m)、 3.9 C2H,t)、 3.
0 (2H,t); δc (cDe!2 ) ’4
0.8.71−5.96.7. l1g、7. 12
4.1 ppm。
l %C6H1゜N08C/の計算値: C,40,
I; H,5,6; N、7.84δH(CDCl2)
7.1 (IH,m)、6−7 (IH,m)、6
−2 (’H,m)、 3.9 C2H,t)、 3.
0 (2H,t); δc (cDe!2 ) ’4
0.8.71−5.96.7. l1g、7. 12
4.1 ppm。
トロエチルアミン(+、3ag+ ’?、2ミリモル
)t−5°Cに冷却した無水ジクロルメタンCbO,t
’)に入nた3−(アミノエトキシ)チオフェン塩醐塩
(+、59.8.4ミリモル)の攪拌1濁凛(で10分
に亘って添加し友。次いでジクロんメタン(2〇−)に
入れ九塩化オクタノイル(1,37,9,8,4ミリモ
ル)を潤油し・傭拌金−5°Cで4時間持説させ九。次
いでこの混合物を塩酸(2X50+++/。
)t−5°Cに冷却した無水ジクロルメタンCbO,t
’)に入nた3−(アミノエトキシ)チオフェン塩醐塩
(+、59.8.4ミリモル)の攪拌1濁凛(で10分
に亘って添加し友。次いでジクロんメタン(2〇−)に
入れ九塩化オクタノイル(1,37,9,8,4ミリモ
ル)を潤油し・傭拌金−5°Cで4時間持説させ九。次
いでこの混合物を塩酸(2X50+++/。
o、 l M )で洗浄し、水酸化ナトリウム(2×5
05g+o−’M)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
させた。r過し且つ浴剤を蒸発さぜると白色固体が得ら
れ、こfL−i高温ヘキサンから再結晶させるとN−(
3−0−チエニルエト牟シ)オクタンアミド(1,4g
、62係)を得た。融点75〜76゜C6 実d用11江 : C,61,9; H,8,6;
N、4.9 4C,4H,NSO2の計算値: C
,62,4; H,8,5: N、5.2繋cI m/
e強度(%) : 270 (0,5,M )、
+70(+oo 、 C4H,5OCH2CH2NHC
O):IR(ヌジョール): 3300゜ 1635cyn ; δH(CDCj ’)7.1
9(II(、m)、6.75 (IH,m)。
05g+o−’M)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
させた。r過し且つ浴剤を蒸発さぜると白色固体が得ら
れ、こfL−i高温ヘキサンから再結晶させるとN−(
3−0−チエニルエト牟シ)オクタンアミド(1,4g
、62係)を得た。融点75〜76゜C6 実d用11江 : C,61,9; H,8,6;
N、4.9 4C,4H,NSO2の計算値: C
,62,4; H,8,5: N、5.2繋cI m/
e強度(%) : 270 (0,5,M )、
+70(+oo 、 C4H,5OCH2CH2NHC
O):IR(ヌジョール): 3300゜ 1635cyn ; δH(CDCj ’)7.1
9(II(、m)、6.75 (IH,m)。
6.27 (IH,m)、5.93 (1B。
幅広、 8)、 4.0’ (2H,t)。
3.6a (2H,m)、2.19 (2H。
t)、 1.63 (2H,t)、1.27(1,
t)、o、gg (3H,t);δC(CDCj )
: 13.L 22.3゜25.4. 2LL
29.0. 31.4゜36・4・ 38・6・ 6g
・7・ 97・5・116.9. 124.7. 15
7.0゜173.2 1)pm・ 実施例11 ア ミ ト9αυ の製ゴ7を 実施例ioに記載し友のと同様な要頌でトIIエチんア
ミン(I O,Ost、 6.gミリモル)、塩化メチ
レン(20mg)中の3−(アミノエトキシ)チオ7
x ンt310塩(0,89、a、5LLモル)及ヒ塩
化メチレン(20+a/)中の塩化ドデカノイル(1,
16−、5,0LLモル)を反応させてN−(3−〇−
チエニルエトキシ)ドデカンアミドラ得た。
t)、o、gg (3H,t);δC(CDCj )
: 13.L 22.3゜25.4. 2LL
29.0. 31.4゜36・4・ 38・6・ 6g
・7・ 97・5・116.9. 124.7. 15
7.0゜173.2 1)pm・ 実施例11 ア ミ ト9αυ の製ゴ7を 実施例ioに記載し友のと同様な要頌でトIIエチんア
ミン(I O,Ost、 6.gミリモル)、塩化メチ
レン(20mg)中の3−(アミノエトキシ)チオ7
x ンt310塩(0,89、a、5LLモル)及ヒ塩
化メチレン(20+a/)中の塩化ドデカノイル(1,
16−、5,0LLモル)を反応させてN−(3−〇−
チエニルエトキシ)ドデカンアミドラ得た。
再結晶はへ牛サンから行なつ九。
実測値:C,66,6; H,9,9; N、3.9;
S、9.7 % C,8H,、No2S ノ計算値: C,66,5;
H,9,5; N、A、3;S、’?、9 悌 融点97〜98C; CI m/e強度(’*: 3
26 (7,M );aIm/e 強度C4: 226
(+00. CH3(CH2)、0C(0)N(H)
CH2CH2)、 126 (5゜C4H5S、0CH
=CH2)、 9g (+1゜CHO); δH(C
DCj ’) o、gg (3肌 t)、 1.24
(16H,幅広)。
S、9.7 % C,8H,、No2S ノ計算値: C,66,5;
H,9,5; N、A、3;S、’?、9 悌 融点97〜98C; CI m/e強度(’*: 3
26 (7,M );aIm/e 強度C4: 226
(+00. CH3(CH2)、0C(0)N(H)
CH2CH2)、 126 (5゜C4H5S、0CH
=CH2)、 9g (+1゜CHO); δH(C
DCj ’) o、gg (3肌 t)、 1.24
(16H,幅広)。
1.62 (’H,t、 br)、 2−19 (2
H,t)、3−64 (2H,rn)、4.02(2H
,t)、 5.qg C+a、幅広)。
H,t)、3−64 (2H,rn)、4.02(2H
,t)、 5.qg C+a、幅広)。
6.27 (1B、 m’)、6−14 (IH。
dd)及び7.I’? (IH,to);δC(CDC
j、): 14.1.22.6゜?5.6.29.3
.31.8.36.7・3g、L 69.0. 91
.FS、++q、+。
j、): 14.1.22.6゜?5.6.29.3
.31.8.36.7・3g、L 69.0. 91
.FS、++q、+。
124.9. +73.3及び184.3ppm・
チオフェン単量体の電気化学的重合を単一画室電気化学
的セル内で、支持電解質としてテトラブチルアンモニウ
ム へキサフルオロホスフェートを使用して窒素雰囲気
下、10℃の温度で行つ之。
的セル内で、支持電解質としてテトラブチルアンモニウ
ム へキサフルオロホスフェートを使用して窒素雰囲気
下、10℃の温度で行つ之。
陽極は白金であるか又はインジウム−酸(1(ITO)
であつ友6重合体フィルムの直流導電率の測定はフィル
ムが陽極表面に接着している間に(2−プローブ、水銀
接触法全使用して)行うか。
であつ友6重合体フィルムの直流導電率の測定はフィル
ムが陽極表面に接着している間に(2−プローブ、水銀
接触法全使用して)行うか。
又は・陽極から剥離し九自由直立性の(free−st
anding ) 重合体フィルムを用いて(4−プロ
ーブ法を使用して)行った。
anding ) 重合体フィルムを用いて(4−プロ
ーブ法を使用して)行った。
重合条件を第1表に示す(表中に示さnていないものは
前記で詳述されている): これらの重合体の幾つかの導電率は第2表に示す。
前記で詳述されている): これらの重合体の幾つかの導電率は第2表に示す。
m1表及び第2表において化合物に付されている番号は
本明細書を通じて使用さ1ているものである。
本明細書を通じて使用さ1ているものである。
実施例13
の化学的重合
30−のクロロホんム中のMOC/ (0,59)の
溶液の表面Vc3−(メトキシエトキシメチル)チオフ
ェン(1,0g)の層を形成させた。1時間放置すると
表面層は暗色化し、血赤色溶液が生成した0表面層を注
意深くサイホンで堰出しついでn−へ中サンを添加する
と黒色粉末が沈澱した。この粉末ハl X 10 8
cn の容積導電率全盲していた(圧縮円板)。この
粉末の酢酸n−デチル溶液からフィルムを再形成させ之
場合1表面導電率は2.21XIO8口であった。
溶液の表面Vc3−(メトキシエトキシメチル)チオフ
ェン(1,0g)の層を形成させた。1時間放置すると
表面層は暗色化し、血赤色溶液が生成した0表面層を注
意深くサイホンで堰出しついでn−へ中サンを添加する
と黒色粉末が沈澱した。この粉末ハl X 10 8
cn の容積導電率全盲していた(圧縮円板)。この
粉末の酢酸n−デチル溶液からフィルムを再形成させ之
場合1表面導電率は2.21XIO8口であった。
重合体の生成を示す着色が遅かったので二相系を24時
間放置し九こと以外、実施例13と同様の方法と行つ几
。沈澱し之粉末Fi5x+osロー1の容積導電量を用
いてい友(圧縮H板)。
間放置し九こと以外、実施例13と同様の方法と行つ几
。沈澱し之粉末Fi5x+osロー1の容積導電量を用
いてい友(圧縮H板)。
25I117!の水中に(l引412”208 (’
09 )、Mn”(OAc) (0,19) 及ヒ
P −) ルxンxルホン酸(+og)t−含有する溶
液上に、トルエン(25d)中に3−(メトキンエトキ
シエトキシメチル)チオフェン(0,51)を含有する
溶液の層を形成させた。ついで溶液を60°Cで攪拌し
て水性相と非水性相とを十分に混合した後、24時間放
置した。黒色沈澱が生成し、これk濾過しついで水、少
量のアセトン及ヒついでn−ヘキサンで洗浄した。容積
導電率は+、+x+ost精 で慶、つ之。
09 )、Mn”(OAc) (0,19) 及ヒ
P −) ルxンxルホン酸(+og)t−含有する溶
液上に、トルエン(25d)中に3−(メトキンエトキ
シエトキシメチル)チオフェン(0,51)を含有する
溶液の層を形成させた。ついで溶液を60°Cで攪拌し
て水性相と非水性相とを十分に混合した後、24時間放
置した。黒色沈澱が生成し、これk濾過しついで水、少
量のアセトン及ヒついでn−ヘキサンで洗浄した。容積
導電率は+、+x+ost精 で慶、つ之。
この黒色粉末のアセトン中の溶液ト顕徴)のスライドガ
ラスに塗布し次場合、4層は+、4 ×、0−10S口
の表面導電率と1・4XIO8cm の容積導電率と
を有してい友。
ラスに塗布し次場合、4層は+、4 ×、0−10S口
の表面導電率と1・4XIO8cm の容積導電率と
を有してい友。
実施例+6
1ogの3−(メトをシェド中ジェトキシメチル)チオ
フェン、0.29 cv FvInrn(OAe> 及
ヒI O&のCe ステアレートを含有するニトロベ
ンゼン溶液(50st)を機械的な攪拌を行いかつ窒素
気泡全吹込んで攪拌しながらl l Oc′Cで4時間
加熱した。ついで溶液を24時間放置し友、黄褐色沈澱
をn−ヘギサンで処理し、吸引f過しつ(八で真空下、
40′Cで乾燥し次。得らハた重合体に沃素(藷気)を
ドープすると、l08cn の容積導電率が得ちれ
た。
フェン、0.29 cv FvInrn(OAe> 及
ヒI O&のCe ステアレートを含有するニトロベ
ンゼン溶液(50st)を機械的な攪拌を行いかつ窒素
気泡全吹込んで攪拌しながらl l Oc′Cで4時間
加熱した。ついで溶液を24時間放置し友、黄褐色沈澱
をn−ヘギサンで処理し、吸引f過しつ(八で真空下、
40′Cで乾燥し次。得らハた重合体に沃素(藷気)を
ドープすると、l08cn の容積導電率が得ちれ
た。
3−(メトキンエトキシエトキシメチル)チオフェン(
+、0.p)とSin (oAc)(1,0& ) ’
it 50一のジクロルメタンに俗解した。溶液と放置
すると黒色沈澱が生成した。顕微境のスライドガラス上
に黒色粉末の懸濁液の形成させ、溶剤を室温で蒸発させ
念。2.2+x l O8口の表面導電率と2.21x
lQ 3G の容積導電率が観察された。
+、0.p)とSin (oAc)(1,0& ) ’
it 50一のジクロルメタンに俗解した。溶液と放置
すると黒色沈澱が生成した。顕微境のスライドガラス上
に黒色粉末の懸濁液の形成させ、溶剤を室温で蒸発させ
念。2.2+x l O8口の表面導電率と2.21x
lQ 3G の容積導電率が観察された。
実施例I8
一〇−&(3,0g)及び3−(メトキシエト中シエト
ギシメチル)チオフェン(9,0,9) −i )ルエ
ンと混合しついで(NH4)2”208 (’ 09
)及びポリ(ナトリウム−4−スチレンスルホネート
)(11,0,120重量繋水溶液)f!−含有する水
溶液上に上記混合物の層を形成させた。直ちに黒色沈澱
が生放し九。この沈澱を水、アセトン・ヘキサン及びつ
いでアセトンで洗浄しついで真空下、70’Cで恒危に
なるまで乾燥した。生成物の容積導電率tilscM
であった。
ギシメチル)チオフェン(9,0,9) −i )ルエ
ンと混合しついで(NH4)2”208 (’ 09
)及びポリ(ナトリウム−4−スチレンスルホネート
)(11,0,120重量繋水溶液)f!−含有する水
溶液上に上記混合物の層を形成させた。直ちに黒色沈澱
が生放し九。この沈澱を水、アセトン・ヘキサン及びつ
いでアセトンで洗浄しついで真空下、70’Cで恒危に
なるまで乾燥した。生成物の容積導電率tilscM
であった。
実施例19
40%(重泣憾)のテトラヒトミフラン、10鴫のメチ
ん エチル ケトン、25暢のジメチルホんムアミド及
び10%のシクロヘキサノンからなる溶剤混合物中のポ
リ塩化ビニル(非可塑化、粉末、 Corvie S
bg / 173 )の154(重JIIk噛)溶液を
、白金電極(+cmx3cm)に塗布し、室温で2日間
乾燥させ友。この電極をq、2bミリモルの3−(メト
キシエト千シェド中ジメチル)チオフェン、1.、?9
gミリモルのテトラブチんアンモニウム ヘキサフんオ
ロホスフエート及ヒニトロメタン(30,t/)t−含
有する・分割されていない電解槽(cell ) 中
に浸漬しセして6.E+ 7 mAmの電流密度で1分
間ついで2.3mAcm の電み密lfiテ、全通電
J4 (total charge ) が25,8
°c vcなるまで電解を行って、ローズ色の弾性フィ
ルムを形成させ次、このフイルムin−ヘキサンテ洗浄
しついで風乾し几。
ん エチル ケトン、25暢のジメチルホんムアミド及
び10%のシクロヘキサノンからなる溶剤混合物中のポ
リ塩化ビニル(非可塑化、粉末、 Corvie S
bg / 173 )の154(重JIIk噛)溶液を
、白金電極(+cmx3cm)に塗布し、室温で2日間
乾燥させ友。この電極をq、2bミリモルの3−(メト
キシエト千シェド中ジメチル)チオフェン、1.、?9
gミリモルのテトラブチんアンモニウム ヘキサフんオ
ロホスフエート及ヒニトロメタン(30,t/)t−含
有する・分割されていない電解槽(cell ) 中
に浸漬しセして6.E+ 7 mAmの電流密度で1分
間ついで2.3mAcm の電み密lfiテ、全通電
J4 (total charge ) が25,8
°c vcなるまで電解を行って、ローズ色の弾性フィ
ルムを形成させ次、このフイルムin−ヘキサンテ洗浄
しついで風乾し几。
複合材料の!f&、通送したクーロン数及び1!流効率
に基づいて、ポリ塩化ビニル中のチオフェン重合体の重
′Ii係は3. l唾で)・つ次。
に基づいて、ポリ塩化ビニル中のチオフェン重合体の重
′Ii係は3. l唾で)・つ次。
かく得らnたフィルムは1.I X I 0−5S口〜
2X I O−’ 3口の表面4′心率とI×105c
1n 〜2Sc!n の容積導電率を有してい之。
2X I O−’ 3口の表面4′心率とI×105c
1n 〜2Sc!n の容積導電率を有してい之。
白金電極に4リビニルアルコール(加水分解度&6.5
−89%)を被覆しついでアセトニトリル< Bu4N
PF6= o、o 5 M )中の(3−メト牟シェド
中シエトギシメチル)チオフェンのo、tMs液中でS
rnA CrHの電流密度で亀時間電解を行った。
−89%)を被覆しついでアセトニトリル< Bu4N
PF6= o、o 5 M )中の(3−メト牟シェド
中シエトギシメチル)チオフェンのo、tMs液中でS
rnA CrHの電流密度で亀時間電解を行った。
褐色フィルムが得られ、これは1.94Xlo 3口
の表面導?1!率と5.24XIOS−の容積導電率を
有してい比。
の表面導?1!率と5.24XIOS−の容積導電率を
有してい比。
20−のポリアクリルe11(分子量230.000)
中の3−(メトキシエト中ジェトキシメチル)チオフェ
ン(toy)6窒素雰囲気下−3−25mAcyn−2
のt流密、土で8.3時間電解し次。ついでスラリーを
55°Cで1/2時間攪拌した。樹脂を空気循環炉内で
80°Cで2時間加熱することに工9硬化させついで硬
化しt樹脂を顕微1用スライドプラス上に塗料又はスト
リップとして施しついで&0°Cで2時間又は+oo’
cで1時間更に硬化させ次。
中の3−(メトキシエト中ジェトキシメチル)チオフェ
ン(toy)6窒素雰囲気下−3−25mAcyn−2
のt流密、土で8.3時間電解し次。ついでスラリーを
55°Cで1/2時間攪拌した。樹脂を空気循環炉内で
80°Cで2時間加熱することに工9硬化させついで硬
化しt樹脂を顕微1用スライドプラス上に塗料又はスト
リップとして施しついで&0°Cで2時間又は+oo’
cで1時間更に硬化させ次。
僅かに着色し念・半透明フイんムの導電率を第3表に示
す。
す。
80℃ 2時間 2.6 X 10 1.
2 X IQ−5100℃ 1時間 2.6 X
Io 1.2 X 10−5+00’c
6時間 6.7 X 10 1.2
X 10−’上記樹脂中のチオフェン重合体の割合は
5重量繋以下であった。
2 X IQ−5100℃ 1時間 2.6 X
Io 1.2 X 10−5+00’c
6時間 6.7 X 10 1.2
X 10−’上記樹脂中のチオフェン重合体の割合は
5重量繋以下であった。
この高い導電率によりこの樹脂は帯電防止塗料として使
用することができる・ 実施例22 実施例12と同様の方法により、第4表に示す条件に従
ってチオフェン単量体を他の単量体と共重合し友。
用することができる・ 実施例22 実施例12と同様の方法により、第4表に示す条件に従
ってチオフェン単量体を他の単量体と共重合し友。
′シ気化学的に共重合して得らfi7’(重合体の導電
率を第5表に示す。導電率は全て、実施例+2で述べf
c&−プローブ法VCよって測定した。
率を第5表に示す。導電率は全て、実施例+2で述べf
c&−プローブ法VCよって測定した。
方法(c)によって製造された共重合体〔(メトキシエ
トキシエト千ツメチル)チオフェン−ビニb カルバゾ
ール〕nBF4は透明な緑色材料である・この共重合体
は透明緑色帯電防止材料又はEMI/+ RF シールド材料として有用である。この重合体は
酢酸n−ブチル及びメチル エチル ケトンに可溶性で
あや、再形成緑色フィルムは僅かに減少した導電率を有
するにすぎない。
トキシエト千ツメチル)チオフェン−ビニb カルバゾ
ール〕nBF4は透明な緑色材料である・この共重合体
は透明緑色帯電防止材料又はEMI/+ RF シールド材料として有用である。この重合体は
酢酸n−ブチル及びメチル エチル ケトンに可溶性で
あや、再形成緑色フィルムは僅かに減少した導電率を有
するにすぎない。
手続補正書(方式)
昭和62年8月27日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) 〔式中、R^1は基−(CH_2)_mNHCOR、基
−O(CH_2)_mNH−COR、基−(CH_2)
_mCONHR^5、基−O(CH_2)_mCONH
R^5、基−(CH_2)_nO(CHR^3CH_2
)_pOR^4、あるいはアリーロキシアルキル基、ア
ミノ基、又はアミノアルキル基又は置換されたアミノア
ルキル基であり、これらの基の窒素原子はアルキル基、
アリール基又は置換されたアリール基の少なくとも1つ
を置換基として有してもよく、Rは炭素数1〜18のア
ルキル基であり、R^2は上記のR^1と同じであるか
又はR^2は水素原子、ハロゲン原子又はアミノ基であ
り、R^3は水素原子又はメチル基であり、R^4は炭
素数1〜6のアルキル基であり、R^5は炭素数1〜1
8のアルキル基であるか、あるいはアルキル基又はアル
キルアリール基で置換されてもよいアリール基であり、
mは1〜6の整数、nはゼロ又は1〜6の整数、pは1
〜6の整数である〕で示される化合物。 2、基R^1は基−(CH_2)_nO(CH_2CH
_2)_pOR^4(但しnは0又は1であり、p及び
R^4は前記と同じ意味をもつ)、あるいは基−CH_
2NHCOR′(但しR′は炭素数1〜12のアルキル
基である)、あるいは基−O(CH_2CH_2)NH
COR″(但しR″は炭素数6〜18のアルキル基であ
る)である特許請求の範囲第1項に記載の化合物。 3、3−(メトキシエトキシメチル)チオフェン、3−
(メトキシエトキシメチル)チオフェン又は3−(ブト
キシエトキシエトキシエトキシエトキシメチル)チオフ
ェンである特許請求の範囲第1項又は第2項に記載の化
合物。 4、N−(3−チエニルメチル)アセトアミド、N−(
3−チエニルメチル)−オクタンアミド又はN−(3−
チエニルメチル)ドデカンアミドである特許請求の範囲
第1項に記載の化合物。 5、3−(メトキシエトキシ)チオフェン又は3−(メ
トキシエトキシエトキシ)チオフェンである特許請求の
範囲第1項に記載の化合物。 6、N−(3−O−チエニルエトキシ)オクタンアミド
又はN−(3−O−チエニルエトキシ)ドデカンアミド
である特許請求の範囲第1項に記載の化合物。 7、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、nはゼロ又は1〜6の整数である〕の化合物を
次式 Na^+OR^6 の化合物及び次式 R^6OH 〔式中、R^6は基−(CHR^3CH_2)_pOR
^4であり、R^3、R^4及びpは後記の意味をもつ
〕の化合物と反応させて次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^6は前記の意味をもつ〕の化合物を生成す
る工程(a)、若しくは次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、mは1〜6の整数である〕の化合物をトリエチ
ルアミン及び次式 RCOCl 〔式中、Rは後記の意味をもつ〕の酸クロライドと反応
させて次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは後記の意味をもつ〕の化合物を生成する工
程(b)、若しくは次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物を次式 Na^+OR^7 〔式中、R^7は基−O(CHR^3CH_2)_pO
R^4であり、但しR^3及びR^4及びpは後記の意
味をもつ〕の化合物と酸化第2銅及び沃化カリウムの存
在下に反応させて次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^7は前記の意味をもつ〕の化合物を生成す
る工程(c)、若しくは次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、mは1〜6の整数である〕の化合物を次式 RCOCl 〔式中、Rは後記の意味をもつ〕の酸クロライド及びト
リエチルアミンと反応させて次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R及びmは前記の意味をもつ〕の化合物を生成
する工程(d)の何れか一つから成ることを特徴とする
、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) 〔式中、R^1は基−(CH_2)_mNHCOR、基
−O(CH_2)_mNH−COR、基−(CH_2)
_mCONHR^5、基−O(CH_2)_mCONH
R^5、基−(CH_2)_nO(CHR^3CH_2
)_pOR^4、あるいはアリーロキシアルキル基、ア
ミノ基、又はアミノアルキル基又は置換されたアミノア
ルキル基であり、これらの基の窒素原子はアルキル基、
アリール基又は置換されたアリール基の少なくとも1つ
を置換基として有してもよく、Rは炭素数1〜18のア
ルキル基であり、R^2は上記のR^1と同じであるか
又はR^2は水素原子、ハロゲン原子又はアミノ基であ
り、R^3は水素原子又はメチル基であり、R^4は炭
素数1〜6のアルキル基であり、R^5は炭素数1〜1
8のアルキル基であるか、あるいはアルキル基又はアル
キルアリール基で置換されてもよいアリール基であり、
mは1〜6の整数、nはゼロ又は1〜6の整数、pは1
〜6の整数である〕で示される化合物の製造法。 8、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1及びR^2は特許請求の範囲第1項に記
載の意味と同じである〕の反復単位と式Zのカウンター
イオン(但しZは塩素イオン、臭素イオン、硫酸イオン
、重硫酸(bisulphate)イオン、硝酸イオン
、テトラフルオロ硼酸イオン、アルキルスルホン酸イオ
ン、アリールスルホン酸イオン、アーレンカルボン酸イ
オン、アルキルカルボン酸イオン、アーレンジカルボン
酸イオン、ポリスチレンスルホン酸イオン、ポリアクリ
ル酸イオン、セルローズ・スルホン酸イオン、セルロー
ズ・硫酸イオン、アンスラセンスルホン酸イオン、H_
2PO_3^−、H_2PO_4^−、PF_6^−、
SbF_6^−、AsF_6^−又はパー弗素化された
ポリアニオンである)とから成る重合体。 9、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1及びR^2は特許請求の範囲第1項に記
載の意味と同じである〕で示される単量体状チオフェン
化合物を、このチオフェン化合物の酸化電位と少なくも
同じ高さの電気的に正(陽)である電極電圧で電気化学
的酸化反応に非水系溶媒中でかけることから成る特許請
求の範囲第8項に記載の重合体の製造方法。 10、酸化反応に用いる電解質液は特許請求の範囲第8
項に記載のカウンター・イオンZを提供するように選択
されたものである特許請求の範囲第9項に記載の方法。 11、非水系溶媒はアセトニトリル、ジクロロメタン、
クロロホルム、ジクロロエタン、ニトロメタン、ニトロ
ベンゼン、プロピレン・カーボネート、N−メチルピロ
リドン、スルホラン、ジメチルホルムアミド又はジメチ
ルスルホキシドである特許請求の範囲第9項に記載の方
法。 12、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1及びR^2は特許請求の範囲第1項に記
載の意味と同じである〕の単量体状チオフェン化合物を
、このチオフェン化合物の酸化電位より高い標準の酸化
還元(レドックス)電圧をもつ酸化剤で酸化することか
ら成る、特許請求の範囲第8項に記載の重合体の製造方
法。 13、酸化剤はAg^II、Cu^II、Ce^IV、Mo^
V、Ru^III、Mn^III、K_2Cr_2O_7、H
_2O_2又は(NH_4)_2S_2O_8であり、
酸化反応は所望ならば触媒の存在下に行う特許請求の範
囲第12項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8617358 | 1986-07-16 | ||
| GB868617358A GB8617358D0 (en) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | Polymerisable heterocyclic monomers |
| GB8627565 | 1986-11-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6345276A true JPS6345276A (ja) | 1988-02-26 |
Family
ID=10601156
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17605287A Pending JPS63107957A (ja) | 1986-07-16 | 1987-07-16 | ピロ−ル単量体、ピロ−ル誘導体、それらの製造方法及びピロ−ル誘導体の共重合体 |
| JP17605387A Pending JPS6345276A (ja) | 1986-07-16 | 1987-07-16 | 重合性チオフエン単量体及びその製造法並びにその重合体 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17605287A Pending JPS63107957A (ja) | 1986-07-16 | 1987-07-16 | ピロ−ル単量体、ピロ−ル誘導体、それらの製造方法及びピロ−ル誘導体の共重合体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPS63107957A (ja) |
| GB (1) | GB8617358D0 (ja) |
| ZA (1) | ZA875127B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6426695A (en) * | 1987-04-28 | 1989-01-27 | Mitsubishi Mining & Cement Co | Solidifying material for clay with volcanic ash nature |
| JPH0222325A (ja) * | 1987-12-07 | 1990-01-25 | Solvay & Cie | エーテル型の基で置換された芳香族複素環化合物から誘導される導電性ポリマー、その製法、これらポリマーを含むデバイスおよびかかるポリマーを得ることを可能とするモノマー |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4901018B2 (ja) * | 2001-04-25 | 2012-03-21 | ケミプロ化成株式会社 | ポリピロール類膜、その製造方法およびそれよりなる熱電材料 |
-
1986
- 1986-07-16 GB GB868617358A patent/GB8617358D0/en active Pending
-
1987
- 1987-07-14 ZA ZA875127A patent/ZA875127B/xx unknown
- 1987-07-16 JP JP17605287A patent/JPS63107957A/ja active Pending
- 1987-07-16 JP JP17605387A patent/JPS6345276A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6426695A (en) * | 1987-04-28 | 1989-01-27 | Mitsubishi Mining & Cement Co | Solidifying material for clay with volcanic ash nature |
| JPH0222325A (ja) * | 1987-12-07 | 1990-01-25 | Solvay & Cie | エーテル型の基で置換された芳香族複素環化合物から誘導される導電性ポリマー、その製法、これらポリマーを含むデバイスおよびかかるポリマーを得ることを可能とするモノマー |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ZA875127B (en) | 1988-06-29 |
| GB8617358D0 (en) | 1986-08-20 |
| JPS63107957A (ja) | 1988-05-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4992559A (en) | Polymerizable thiophene monomers | |
| JP2540166B2 (ja) | 可溶性の導電性重合体、その製造方法およびその用途 | |
| US5059694A (en) | 3-substituted polypyrrole | |
| KR960009685B1 (ko) | 자기 도우프된 중합체의 제조방법 | |
| DE69013078T2 (de) | Elektroleitfähiges Polymer und dieses enthaltendes elektroleitfähiges Material. | |
| US6153726A (en) | Transparent conducting polymers | |
| US4548696A (en) | 3,4-Disubstituted polypyrroles and articles of manufacture coated therewith | |
| US5066731A (en) | Process for modifying electroconductive polymers using ion exchange | |
| JPH0138808B2 (ja) | ||
| JP2892681B2 (ja) | ラジカル重合性組成物 | |
| JPS6345276A (ja) | 重合性チオフエン単量体及びその製造法並びにその重合体 | |
| WO1987003607A1 (fr) | Polymeres ayant une structure isoindole et leur procede de preparation | |
| US4816536A (en) | Polymers of 3,4-substituted pyrrole compounds and their preparation method | |
| JPH02292327A (ja) | 2,5―ジチエニルピロール誘導体およびその製造方法 | |
| JP2942710B2 (ja) | 水溶性自己ドープ型導電性ポリマー複合体及びその製造方法 | |
| Nawa et al. | A novel type of semiconducting polymers: synthesis and properties of electrochemically-doped polymers containing pendant oligothiophenes | |
| JPH05262993A (ja) | 高分子導電体とその製造方法 | |
| JPH01261471A (ja) | 改善された溶解性を持つ導電性重合体 | |
| EP0303360A1 (en) | Electroconductive polymers | |
| GB2225008A (en) | Thiophene monomers and polymers prepared therefrom | |
| JPH03174437A (ja) | 導電性ポリマー | |
| US5162470A (en) | Polymers with electrical and nonlinear optical properties | |
| JPH07238150A (ja) | 自己ドープ型導電性ポリマー水溶液及びその製造方法 | |
| JP3163426B2 (ja) | ポリアリーレンチオエーテルの製造法 | |
| JPS6117581A (ja) | イソチアナフテン構造を有する重合体 |