JPS63461A - 高速蒸着方法 - Google Patents
高速蒸着方法Info
- Publication number
- JPS63461A JPS63461A JP14289086A JP14289086A JPS63461A JP S63461 A JPS63461 A JP S63461A JP 14289086 A JP14289086 A JP 14289086A JP 14289086 A JP14289086 A JP 14289086A JP S63461 A JPS63461 A JP S63461A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- deposition material
- vapor deposition
- electron beam
- deposition method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、蒸発金属の高速蒸着方法に関するものである
。
。
第３図は従来の金属の蒸着方法を示す模式図である。図
において、るっぽ６に向って蒸着材供給装置４から蒸着
材２が供給され、更に同じくるっぽ６に向って電子銃５
より電子ビームＥＢが発射され、るつぼ６内に溶融金属
をつくり更に加熱して蒸発金属としている。ろっぽ６の
上辺には被蒸着基板１が送りローラ３によって走行する
ようになっており、基板１の下面には蒸着材２の均一蒸
着を計るため、シャッター７が設けられている。
において、るっぽ６に向って蒸着材供給装置４から蒸着
材２が供給され、更に同じくるっぽ６に向って電子銃５
より電子ビームＥＢが発射され、るつぼ６内に溶融金属
をつくり更に加熱して蒸発金属としている。ろっぽ６の
上辺には被蒸着基板１が送りローラ３によって走行する
ようになっており、基板１の下面には蒸着材２の均一蒸
着を計るため、シャッター７が設けられている。
次にこの作用を説明する。
電子銃５からの電子ビームＥＢを受けてるつぼ６内の溶
融蒸着材２が蒸発して上昇し、基板１に触れて蒸着し、
金属膜を形成する。基板１は送りｏ−−７３によって一
定速度で移動するもので、シャッター７によって蒸着材
２に触れる時間が調節されて、基板１の上に均一な金属
膜を形成するようになっている。尚、これらの作業は真
空の蒸着室内にて行われる。
融蒸着材２が蒸発して上昇し、基板１に触れて蒸着し、
金属膜を形成する。基板１は送りｏ−−７３によって一
定速度で移動するもので、シャッター７によって蒸着材
２に触れる時間が調節されて、基板１の上に均一な金属
膜を形成するようになっている。尚、これらの作業は真
空の蒸着室内にて行われる。
従来の方法では、るつぼ６内の蒸着材２を蒸発させろた
めに、るっ゛ぼ６内が非常な高温（２０００℃〜４００
０℃）となる。このためるっぽ６は耐熱性、耐久性にお
いてすぐれたものを要求されるが、十分なものが得られ
ないという問題がある。
めに、るっ゛ぼ６内が非常な高温（２０００℃〜４００
０℃）となる。このためるっぽ６は耐熱性、耐久性にお
いてすぐれたものを要求されるが、十分なものが得られ
ないという問題がある。
本発明はこのような問題を解決するためになされたもの
で、一定の速度で送られろ基板に対して一方から一定角
度で蒸着材を供給し、これと同調して他方から一定角度
でかつ、基板から一定の距離において前記蒸着材の先端
に当たるように電子ビームを照射して、蒸着材を基板に
蒸着させるようにした高速蒸着方法を提供する。
で、一定の速度で送られろ基板に対して一方から一定角
度で蒸着材を供給し、これと同調して他方から一定角度
でかつ、基板から一定の距離において前記蒸着材の先端
に当たるように電子ビームを照射して、蒸着材を基板に
蒸着させるようにした高速蒸着方法を提供する。
基板の手前で、蒸着材と電子ビームが交叉することによ
り、蒸着材が蒸発して金属蒸気となって基板に触れ、基
板の表面に金属膜となって蒸着する。
り、蒸着材が蒸発して金属蒸気となって基板に触れ、基
板の表面に金属膜となって蒸着する。
第１図は本発明の一実施例の模式図で、（Ａ）は側面図
、（Ｂ）は正面図である。図において、１は送りローラ
３によって一定速度で矢印方向に移動する基板（例えば
、鉄板又はポリエチレンフィルム）である。乙に対して
一方の側から蒸着材２が蒸着材供給装置４より送り出さ
れており、他方の側から電子銃５より電子ビームＥＢが
照射され、基板１の手前のＰ点で蒸着材２と交叉してい
る。尚、電子銃５と蒸着材２とは同調しながら第１図（
Ｂ）に示すように基板１の表面近くを左右にオンレーシ
ヲンすることが出来るように構成されている。この際、
スポット状のビームあるいは線状ビームをつかってもよ
い。
、（Ｂ）は正面図である。図において、１は送りローラ
３によって一定速度で矢印方向に移動する基板（例えば
、鉄板又はポリエチレンフィルム）である。乙に対して
一方の側から蒸着材２が蒸着材供給装置４より送り出さ
れており、他方の側から電子銃５より電子ビームＥＢが
照射され、基板１の手前のＰ点で蒸着材２と交叉してい
る。尚、電子銃５と蒸着材２とは同調しながら第１図（
Ｂ）に示すように基板１の表面近くを左右にオンレーシ
ヲンすることが出来るように構成されている。この際、
スポット状のビームあるいは線状ビームをつかってもよ
い。
次にこの作用を説明する。
第２図は第１図（Ａ）の一部を拡大した詳細図である。
図に示すように、送りローラ３を駆動して基板１を一定
速度Ｖで移動させると同時に、一方の側から供給装置４
を駆動させ、基準１Ｘ−Ｙに対し一定角度θ１に傾斜し
て蒸着材２を供給する。これと同調して他方の側から基
準線Ｘ−Ｙに対し、一定角度θ２に傾斜して、電子銃５
よす電子ビームＥＢを照゛射し、基板１の面より距に＃
ＧをおいたＰ点で蒸着材２に当てる。これにより、蒸着
材２は電子ビームＥＢによって高温に加熱され、蒸発し
て金属蒸気となり、基板１に蒸着して金属膜を形成する
。基板１は一定速度Ｖで移動をすると共に、蒸着材２も
同様に一定速度Ｖ、で供給され、電子ビームＥＢも連続
照射されるので、蒸着作業を連続して行うことが出来る
。又電子銃５と蒸着材２は同調して、第１図（Ｂ）に示
すように基板１の幅に合わせて左右にオレレーションす
ることにより、基板１全体に均一に蒸着が可能である。
速度Ｖで移動させると同時に、一方の側から供給装置４
を駆動させ、基準１Ｘ−Ｙに対し一定角度θ１に傾斜し
て蒸着材２を供給する。これと同調して他方の側から基
準線Ｘ−Ｙに対し、一定角度θ２に傾斜して、電子銃５
よす電子ビームＥＢを照゛射し、基板１の面より距に＃
ＧをおいたＰ点で蒸着材２に当てる。これにより、蒸着
材２は電子ビームＥＢによって高温に加熱され、蒸発し
て金属蒸気となり、基板１に蒸着して金属膜を形成する
。基板１は一定速度Ｖで移動をすると共に、蒸着材２も
同様に一定速度Ｖ、で供給され、電子ビームＥＢも連続
照射されるので、蒸着作業を連続して行うことが出来る
。又電子銃５と蒸着材２は同調して、第１図（Ｂ）に示
すように基板１の幅に合わせて左右にオレレーションす
ることにより、基板１全体に均一に蒸着が可能である。
更に又この時電子ビームＥＢのビームパワーの一部がＰ
点を貫通して基板１に達し、基板１の温度上昇をもたら
して予備加熱の作用をすることも可能である。以上の作
用（よ基板１の送り速度Ｖ。
点を貫通して基板１に達し、基板１の温度上昇をもたら
して予備加熱の作用をすることも可能である。以上の作
用（よ基板１の送り速度Ｖ。
蒸着材２の供給速度Ｖｌ、基準線Ｘ−Ｙに対する蒸着材
の傾斜角度θ３、同じく電子ビームＥＢの傾斜角度θ２
及び交点Ｐの基板１よりの距ｉＧがパラメータとなるも
のであり、これらをＦｌ整することによって、高能率化
も可能となる。
の傾斜角度θ３、同じく電子ビームＥＢの傾斜角度θ２
及び交点Ｐの基板１よりの距ｉＧがパラメータとなるも
のであり、これらをＦｌ整することによって、高能率化
も可能となる。
本発明によれば、基板の近くで蒸着材を蒸発させて蒸着
を可能としたことにより、るつぼを必要としないばかり
てなく、作業時間の短縮にも効果がある。
を可能としたことにより、るつぼを必要としないばかり
てなく、作業時間の短縮にも効果がある。
第１図は本発明の一実施例の模式図で、（Ａ）は側面図
、（Ｂ）は正面図、第２図は第１図（Ａ ）の一部詳細
図、第３図は従来例の模式図である。 １：基板、２：蒸着材、３：送りローラ、４：供給装置
、５：電子銃、６： るつぼ。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 第１図 １４７反 （Ａｌ
＋Ｂ）第２図 第３図
、（Ｂ）は正面図、第２図は第１図（Ａ ）の一部詳細
図、第３図は従来例の模式図である。 １：基板、２：蒸着材、３：送りローラ、４：供給装置
、５：電子銃、６： るつぼ。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 第１図 １４７反 （Ａｌ
＋Ｂ）第２図 第３図
Claims (1)
- 一定の速度で送られる基板に対して一方から一定角度
で蒸着材を供給し、これと同調して他方から一定角度で
かつ基板から一定の距離において、前記蒸着材の先端に
当たるように電子ビームを照射して、蒸着材を基板に蒸
着させるようにした高速蒸着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14289086A JPS63461A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 高速蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14289086A JPS63461A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 高速蒸着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63461A true JPS63461A (ja) | 1988-01-05 |
Family
ID=15325970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14289086A Pending JPS63461A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 高速蒸着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63461A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4902146A (en) * | 1987-07-31 | 1990-02-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electronic apparatus with memory card |
-
1986
- 1986-06-20 JP JP14289086A patent/JPS63461A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4902146A (en) * | 1987-07-31 | 1990-02-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electronic apparatus with memory card |
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