JPS634686A - 光電素子 - Google Patents

光電素子

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JPS634686A
JPS634686A JP61147197A JP14719786A JPS634686A JP S634686 A JPS634686 A JP S634686A JP 61147197 A JP61147197 A JP 61147197A JP 14719786 A JP14719786 A JP 14719786A JP S634686 A JPS634686 A JP S634686A
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JP
Japan
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doping
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film
photoelectric
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JP61147197A
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Koji Mori
孝二 森
Hidekazu Oota
英一 太田
Hiroyuki Horiguchi
堀口 浩幸
Katsuhiko Tani
克彦 谷
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は、光電素子に関し、特に、複写機、ファクシミ
リ装置等における画像読取のための、アモルファスシリ
コン層を光導?1y/IJとする光読取素子に関するも
のである。
(従来技術) 従来、感光体や、太陽電池の光電変換層とじてのアモル
ファスシリコン(以下a−8Lと記す)層には0.1〜
too pp讃のボロン(B)がドープされている。そ
のドープ量の最適値は、それぞれのデバイスの光電特性
、劣化特性から決定される。Bのドーピングによりa−
5i層の高抵抗化が図られ、その結果、光電特性が向上
し、かつ劣化の防止につながる。
しかしながら、本発明の主対象である光導電型光読取素
子においては、上記Bのドープ量は適用できない、それ
は光照射時の抵抗値が高すぎて光電流を正しく信号とし
て検出できないからである。
−方、ノンドープのa−8iは、その構造物性が示す特
徴から、光が照射されると高抵抗化する。
即ち光劣化を起こすという欠点がある。この光劣化現象
の原因の一つは、a−8i膜形成時に膜中に入り込むH
,O,O□、N2等の影響があげられる。
膜中において、(OH)基、あるいはO,N[子がSL
原子と結合すると、第3図に示したように、ダングリン
グボンド(不対電子対)が生成されるためと思われる。
Bのドーピングは、上記不純物によるダングリングボン
ドの生成を抑制しようとするものであり、これを−般に
コンペンセイションと呼んでいる。第4図はこの様子を
示している。
Bのドープ量があまり多いとp型の伝導を示し。
それに適する電極がほとんどない点で問題となる。
上記のことから、a−Si層を光導電層とする光読取素
子においては、0.1〜100 ppmのBドープ量で
は所要の特性が得られず、また、ノンドープでは光劣化
が大きいという問題があった。
(発明の目的) 本発明は、上記従来技術の問題点を解決するもので、光
導電層の抵抗値をあまり高めることなく。
従って所要の光電流が得られ、しかも光劣化が軽減され
た光電素子、中でも光読取素子を提供するものである。
(発明の構成) 上記目的を達成するために1本発明は、活性層としての
a−Si層に、 (10” 〜101s)/L0iの範
囲でボロンをドープするものである。
第1図は、Bのドープ量と光電流との関係を示したもの
で、この図からBドープ量は、B2H,/S i H4
(ppm)で、10−”〜110−3ppが適当である
。特に10−2〜10−”ppmの範囲では電流値もノ
ンドープの場合と比べて見劣りせず、好ましい、なおこ
のときの成膜条件は、SiH,の流量: 10105c
、パワー;IOW、圧力; O,1Torr、 B、H
a/Hz ;ドーピング条件により流量変化、基板温度
;300℃であるe B 2 Hs / S I H4
(pp■)の流量に対して実際膜中にドープされたBの
量をSIMSで評価した結果を第2図に示す、これから
、10−1〜110−3ppのB、H,/SiH4に対
して膜中にドープされたBノ量ハ、 (101s〜10
13)/ajニ対応L、好マシイBドープ量は(4o1
4〜1012)/co&であるといえる。
この微量ドープされたBは、a−5L膜の光劣化の低減
に大きな役割を果たす、 10”/cd程度のBのドー
プサンプルと従来のノンドープサンプルとの光劣化を比
較すると、第5図に示したように、ドープサンプルの方
が残存率が高い(光劣化が小さい)ことが判る。なおこ
の場合、光照射はグリーン光源(λ= 550nm)に
よる連続照射である。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば、光導電層として
のa −S ilWに、 (1013〜10”)/aJ
の範囲でボロンをドープすることにより、必要な光電流
を得ることができるとともに、光劣化を軽減することが
でき、複写機やファクシミリ装置等の実使用に十分適合
する光読取素子を実現することが可能となる。
なお、光読取素子に限らず、感光体あるいは太陽電池で
も、上記Bのドープ量で光キャリアが大きくとれる点で
、十分適用可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、a−3i膜に対するBのドープ量(B、H!
/SiH4ppm)と光電流との関係を示す図、第2図
は、BzH,/SiH4の流量に対する膜中にドープさ
れるBの量を示す図、第3図は、光劣化の原因の一つで
あるダングリングボンドを示す図、第4図は、Bドープ
の効果を示す図、第5図は。 Bドープサンプルとノンドープサンプルの光劣化特性を
示す図である。 第1図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アモルファスシリコン層を活性層とする光電素子
    において、前記アモルファスシリコン層は、ボロンが(
    10^1^3〜10^1^5)/cm^3の範囲でドー
    プされていることを特徴とする光電素子。
  2. (2)ボロンが(10^1^3〜10^1^5)/cm
    ^3の範囲でドープされたアモルファスシリコン層を用
    いて光導電型読取素子が構成されていることを特徴とす
    る特許請求の範囲第(1)項記載の光電素子。
JP61147197A 1986-06-25 1986-06-25 光電素子 Expired - Fee Related JPH07123168B2 (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5929157A (ja) * 1982-08-11 1984-02-16 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 シリコーンエラストマー被覆布の製造方法
JPS5954275A (ja) * 1982-09-22 1984-03-29 Sanyo Electric Co Ltd 光起電力装置

Patent Citations (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5929157A (ja) * 1982-08-11 1984-02-16 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 シリコーンエラストマー被覆布の製造方法
JPS5954275A (ja) * 1982-09-22 1984-03-29 Sanyo Electric Co Ltd 光起電力装置

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