JPS6347602A - 導波型光変位センサ - Google Patents
導波型光変位センサInfo
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- JPS6347602A JPS6347602A JP61189603A JP18960386A JPS6347602A JP S6347602 A JPS6347602 A JP S6347602A JP 61189603 A JP61189603 A JP 61189603A JP 18960386 A JP18960386 A JP 18960386A JP S6347602 A JPS6347602 A JP S6347602A
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- optical waveguide
- optical
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の要約
光学的異方性をもつ基板に２分岐した２本の光導波路を
作製してこれらを参照光用、信号光用とする。ＴＥモー
ド光とＴ Ｍモード光とでは屈折率が異なるので光路長
が異なることを利用して。
作製してこれらを参照光用、信号光用とする。ＴＥモー
ド光とＴ Ｍモード光とでは屈折率が異なるので光路長
が異なることを利用して。
ＴＥモードの参照光と信号光との干渉光と、 ＴＭモー
ドの参照光と信号光との干渉光との間に一定の位相差を
もたせることによって、変位全のみならず変位方向をも
判別できるようにした。
ドの参照光と信号光との干渉光との間に一定の位相差を
もたせることによって、変位全のみならず変位方向をも
判別できるようにした。
発明の背景
技術分野
この発明は、基板上に光導波路を用いてマイケルソン干
渉計を作製し、基板上の反射面で反射するフ照光と基板
外の被測定物体上の反射面で反射する信号光との干渉に
よる光強度変化に基づいて披ＤＩ定物体の変位量を計測
する導波型光変位センサに関する。
渉計を作製し、基板上の反射面で反射するフ照光と基板
外の被測定物体上の反射面で反射する信号光との干渉に
よる光強度変化に基づいて披ＤＩ定物体の変位量を計測
する導波型光変位センサに関する。
先願発明
出願人は既にこの種の導波型光変位センサについていく
つかの提案を行なっている。たとえば。
つかの提案を行なっている。たとえば。
特願昭６０−１４２８３７号、特願昭６０−１４２６３
８号、特願昭６Ｏ−１４２Ｈ９号などである。とくに、
後２者の特許出願には、被測定物体の変位量のみならず
その変位方向をも判別することのできる導波型光変位セ
ンサが開示されて、いる。被測定物体の変位方向を判別
するためには２つの干渉光が必要であり。
８号、特願昭６Ｏ−１４２Ｈ９号などである。とくに、
後２者の特許出願には、被測定物体の変位量のみならず
その変位方向をも判別することのできる導波型光変位セ
ンサが開示されて、いる。被測定物体の変位方向を判別
するためには２つの干渉光が必要であり。
しかもこれらの干渉光はその位相が相互に一定角度（た
とえばπ−／４またはπ／２など）ずれていなければな
らない。したがって基板上には２系統の光干渉計の作製
が必要であり、２つの干渉光を取出すために２本の光フ
ァイバが必要となる。入力光を基板に導入するためにも
う１本の光ファイバを要するから、少なくとも合計３本
の光ファイバが必要である。
とえばπ−／４またはπ／２など）ずれていなければな
らない。したがって基板上には２系統の光干渉計の作製
が必要であり、２つの干渉光を取出すために２本の光フ
ァイバが必要となる。入力光を基板に導入するためにも
う１本の光ファイバを要するから、少なくとも合計３本
の光ファイバが必要である。
発明の概要
この発明は、構成のより簡素化を図った導波型光変位セ
ンサを提供するものである。
ンサを提供するものである。
この発明による導波型光変位センサは、光学的異方性を
もつ基板上に、端面に反射面が形成された参照光用光導
波路と、＠面から出射して被測定物体に連動する鏡面に
投射される信号光用の光導波路と、入力光をこれらの参
照光用および信号光用光導波路に分岐させる分岐光導波
路と、参照光用および信号光用光導波路から戻ってきた
参照光と信号光とを干渉させる干渉用光導波路とを、こ
れらの光導波路を伝播するＴＥモード光および７Ｍモー
ド光に対する屈折率が異なるように作製し、干渉用光導
波路を伝播するＴＥモード干渉光の強度変化と７Ｍモー
ド干渉光の強度変化との間に一定の位相差が生じるよう
に参照光用光導波路と信号光用光導波路との長さを異な
らせたことを特徴とする。
もつ基板上に、端面に反射面が形成された参照光用光導
波路と、＠面から出射して被測定物体に連動する鏡面に
投射される信号光用の光導波路と、入力光をこれらの参
照光用および信号光用光導波路に分岐させる分岐光導波
路と、参照光用および信号光用光導波路から戻ってきた
参照光と信号光とを干渉させる干渉用光導波路とを、こ
れらの光導波路を伝播するＴＥモード光および７Ｍモー
ド光に対する屈折率が異なるように作製し、干渉用光導
波路を伝播するＴＥモード干渉光の強度変化と７Ｍモー
ド干渉光の強度変化との間に一定の位相差が生じるよう
に参照光用光導波路と信号光用光導波路との長さを異な
らせたことを特徴とする。
Ｙ分岐光導波路を利用して基板上に上記の各種光導波路
を作製する場合には９分岐光導波路と干渉用光導波路と
は共通部分をもっことになろう。
を作製する場合には９分岐光導波路と干渉用光導波路と
は共通部分をもっことになろう。
いわゆる非対称Ｘ分岐光導波路を用いて上記の各種光導
波路を基板に作製することもできる。
波路を基板に作製することもできる。
基板上の分岐光導波路にＴＥモード光と７Ｍモード光と
を導入するためには偏波面保存光ファイバを用いればよ
い。また、干渉用光導波路からの出射光は偏光ビーム・
スプリッタによってＴＥモード光と７Ｍモード光とに分
離すればよい。
を導入するためには偏波面保存光ファイバを用いればよ
い。また、干渉用光導波路からの出射光は偏光ビーム・
スプリッタによってＴＥモード光と７Ｍモード光とに分
離すればよい。
分離されたＴＥモード光と７Ｍモード光とをそれぞれ別
個の光電変換素子で受光し、その光強度変化を電気信号
に変換する。これらの電気信号を２値化し、２値化パル
ス数を計数することによって被測定物体の変位量を検出
することができる。
個の光電変換素子で受光し、その光強度変化を電気信号
に変換する。これらの電気信号を２値化し、２値化パル
ス数を計数することによって被測定物体の変位量を検出
することができる。
また、ＴＥモード光の光強度変化と７Ｍモード光の光強
度変化とは一定の位相差をもっているので、これらの２
つの受光信号の変化の順序によって彼ｎ１定物体の変位
方向を判定することが可能となる。
度変化とは一定の位相差をもっているので、これらの２
つの受光信号の変化の順序によって彼ｎ１定物体の変位
方向を判定することが可能となる。
この発明によると、相互に干渉しないＴＥモード光と７
Ｍモード光とを用いているから、基板上に１系統の光干
渉計を設けるだけで、変位量の測定のみならず変位方向
の判別をも行なうことが可能となり、基板上の光導波路
の構成が簡素となる。Ｙ分岐光導波路を用いた場合には
１本の光ファイバで入力光の基板への導入と干渉光の導
出とを行なうことができ、非対称Ｘ分岐光導波路を用い
た場合にも合計２本の光ファイバで足りるので、光軸調
整等も容易となる。さらにＴＥモード干渉光と７Ｍモー
ド干渉光との間の位相差は、参照光用光導波路と信号光
用光導波路との長さを単に異ならせて設定することによ
って与えることができるので、この点からも構成の簡素
化が図られる。
Ｍモード光とを用いているから、基板上に１系統の光干
渉計を設けるだけで、変位量の測定のみならず変位方向
の判別をも行なうことが可能となり、基板上の光導波路
の構成が簡素となる。Ｙ分岐光導波路を用いた場合には
１本の光ファイバで入力光の基板への導入と干渉光の導
出とを行なうことができ、非対称Ｘ分岐光導波路を用い
た場合にも合計２本の光ファイバで足りるので、光軸調
整等も容易となる。さらにＴＥモード干渉光と７Ｍモー
ド干渉光との間の位相差は、参照光用光導波路と信号光
用光導波路との長さを単に異ならせて設定することによ
って与えることができるので、この点からも構成の簡素
化が図られる。
実施例の説明
第１図は導波型光変位センサの主要部を示している。
基板１としてＺカットのＬｉＮｂｏ３結晶が用いられて
おり、この基板１上に光導波路パターンのＴｉ膜（厚さ
３００人）を形成したのち、ウェット０２雰囲気、
１ｏｏｏ℃で５時間Ｔｉを基板１に熱拡散させることに
よって光導波路が形成されている。この光導波路は９人
力用および出力用（光干渉用）の光導波路１２と、参照
光用光導波路１３と。
おり、この基板１上に光導波路パターンのＴｉ膜（厚さ
３００人）を形成したのち、ウェット０２雰囲気、
１ｏｏｏ℃で５時間Ｔｉを基板１に熱拡散させることに
よって光導波路が形成されている。この光導波路は９人
力用および出力用（光干渉用）の光導波路１２と、参照
光用光導波路１３と。
信号光用光導波路１４と、Ｙ分岐光導波路１１とから構
成され、光導波路１２がＹ分岐光導波路１１によって参
照光用および信号光用の光導波路１３．１４に接続され
ている。
成され、光導波路１２がＹ分岐光導波路１１によって参
照光用および信号光用の光導波路１３．１４に接続され
ている。
参照光用光導波路１３は信号光用光導波路１４よりも距
離りだけ短く、参照光用光導波路１３の終端には反射部
２が設けられている。この反射部２は。
離りだけ短く、参照光用光導波路１３の終端には反射部
２が設けられている。この反射部２は。
基板１上の光導波路１３の終端位置にドライエツチング
によってスロットを形成し、このスロットの内壁面に金
属を蒸着することによって構成することができる。
によってスロットを形成し、このスロットの内壁面に金
属を蒸着することによって構成することができる。
被測定物体に固定された。またはこれと連動するように
結合されたミラーと基板１上の信号光用光導波路１４の
終端（基板１の端面）との間にはロット・レンズ３が設
けられている。このレンズ３は、光導波路１４から出射
する光をコリメートしてミラー４に投射し１かつその反
射光を集光して光導波路Ｌ４に導入するためのものであ
る。このレンズ３の存在によって光導波路１４の終端と
ミラー４との間の距離にかかわらず、常にほぼ一定の光
量の信号光（反射光）が光導波路１４に戻りかつＹ分岐
光導波路１１に向って光導波路１４を伝播するようにな
る。
結合されたミラーと基板１上の信号光用光導波路１４の
終端（基板１の端面）との間にはロット・レンズ３が設
けられている。このレンズ３は、光導波路１４から出射
する光をコリメートしてミラー４に投射し１かつその反
射光を集光して光導波路Ｌ４に導入するためのものであ
る。このレンズ３の存在によって光導波路１４の終端と
ミラー４との間の距離にかかわらず、常にほぼ一定の光
量の信号光（反射光）が光導波路１４に戻りかつＹ分岐
光導波路１１に向って光導波路１４を伝播するようにな
る。
反射部２で反射してＹ分岐光導波路１１に戻る参照光の
強度と、ミラー４で反射して信号光用光導波路１４を伝
播しＹ分岐光導波路１１に戻る信号光の強度とがほぼ等
しくなるように１反射部２の反射率またはミラー４の反
射率を調整しておくことが好ましい。
強度と、ミラー４で反射して信号光用光導波路１４を伝
播しＹ分岐光導波路１１に戻る信号光の強度とがほぼ等
しくなるように１反射部２の反射率またはミラー４の反
射率を調整しておくことが好ましい。
光導波路１２の端面にはシングル・モードの偏波面保存
光ファイバ（シングル・ボラリゼーション・ファイバ）
２１が接続されている。第２図に拡大して示されている
ように、この偏波面保存光ファイバ２１は、中心のコア
２２のＸ軸方向の上下位置に応力発生用のガラス・ファ
イバ２４がそのサポート２３内に挿入されてなり、ＴＥ
モード（Ｘ軸方向）および７Ｍモード（Ｘ軸方向）の光
をその偏波面を一方向に保存して伝播させることができ
る。また、光ファイバ２１はその上記Ｘおよびｙ軸方向
′が基板結晶１のＺおよびＹ軸方向に一致した状態で、
光導波路１２に接続されている。
光ファイバ（シングル・ボラリゼーション・ファイバ）
２１が接続されている。第２図に拡大して示されている
ように、この偏波面保存光ファイバ２１は、中心のコア
２２のＸ軸方向の上下位置に応力発生用のガラス・ファ
イバ２４がそのサポート２３内に挿入されてなり、ＴＥ
モード（Ｘ軸方向）および７Ｍモード（Ｘ軸方向）の光
をその偏波面を一方向に保存して伝播させることができ
る。また、光ファイバ２１はその上記Ｘおよびｙ軸方向
′が基板結晶１のＺおよびＹ軸方向に一致した状態で、
光導波路１２に接続されている。
したがって、光フアイバ２１内を伝播してきたＴＥモー
ド、７Ｍモードの両モード光が光導波路１２内に導入さ
れかつ光導波路１１．１３．１４等を伝播していくこと
になる。
ド、７Ｍモードの両モード光が光導波路１２内に導入さ
れかつ光導波路１１．１３．１４等を伝播していくこと
になる。
一方のモードの光、たとえばＴＥモードの光についてみ
ると、この光は光導波路１２からＹ分岐光導波路１１に
進み、ここで強度が等しく分岐されて光導波路１３と１
４とに進む。参照光用光導波路１３を伝播する光は反射
部２で反射して光導波路１３を逆方向に進み、Ｙ分岐光
導波路１１に戻る（参照光）。信号光用光導波路１４に
進んだ光は、この光導波路１４から出射してロッド・レ
ンズ３を経てミラー４に向う。ミラー４で反射した光は
再びロッド・レンズ３を経て光導波路１４に入射し、こ
の光導波路１４を逆方向に伝播してＹ分岐光導波路１１
に戻る（信号光）。これらの参照光と信号光はＹ分岐光
導波路１１から光導波路１２を進むが、ここで相互に干
渉し合い、参照光と信号光との位相差に応じた強度をも
つ干渉光が得られる。この干渉光（出力光）は光導波路
■２から先ファイバ２１に進み、後述する測定系に送ら
れる。参照光と信号光の位相差は、これら２つの光の間
の光路差、すなわちミラー４の変位量に依存している。
ると、この光は光導波路１２からＹ分岐光導波路１１に
進み、ここで強度が等しく分岐されて光導波路１３と１
４とに進む。参照光用光導波路１３を伝播する光は反射
部２で反射して光導波路１３を逆方向に進み、Ｙ分岐光
導波路１１に戻る（参照光）。信号光用光導波路１４に
進んだ光は、この光導波路１４から出射してロッド・レ
ンズ３を経てミラー４に向う。ミラー４で反射した光は
再びロッド・レンズ３を経て光導波路１４に入射し、こ
の光導波路１４を逆方向に伝播してＹ分岐光導波路１１
に戻る（信号光）。これらの参照光と信号光はＹ分岐光
導波路１１から光導波路１２を進むが、ここで相互に干
渉し合い、参照光と信号光との位相差に応じた強度をも
つ干渉光が得られる。この干渉光（出力光）は光導波路
■２から先ファイバ２１に進み、後述する測定系に送ら
れる。参照光と信号光の位相差は、これら２つの光の間
の光路差、すなわちミラー４の変位量に依存している。
出力光強度の変位量（光路差）に対する変化が第４図に
示されている（たとえばＮｏ、ｌの波形）。出力光強度
は光路差の変化に対してλ（光の波長）の周期で正弦的
に変化する。信号光は光導波路１４の出力端とミラー４
との間を往復するので光路差はミラー４の変位量の２倍
に等しい。
示されている（たとえばＮｏ、ｌの波形）。出力光強度
は光路差の変化に対してλ（光の波長）の周期で正弦的
に変化する。信号光は光導波路１４の出力端とミラー４
との間を往復するので光路差はミラー４の変位量の２倍
に等しい。
ＴＥモードの光についても同じように、ミラー４の変位
量を表わす強度をもつ干渉光（出力光）が得られる。
量を表わす強度をもつ干渉光（出力光）が得られる。
ところで、ＺカットＬｉＮｂＯ３基板１はＴＥモード光
と７Ｍモード光に対して異なる屈折率を与えるから、そ
して、参照光用光導波路１３と信号光用光導波路１４が
それらの長さにおいてしたけ異なるように設定されてい
るから、これらのＴＥモード光の干渉光とＴ Ｍモード
光の干渉光との間には、第４図にＮｏ、１． Ｎｏ、２
で示されているように、ある一定の位相差が生じること
になる。相互に一定の位相シフトが与えられた２つの干
渉光Ｎｏ、１． Ｎｏ、２の変化の順序によってミラー
４の変位方向の判別ができる。
と７Ｍモード光に対して異なる屈折率を与えるから、そ
して、参照光用光導波路１３と信号光用光導波路１４が
それらの長さにおいてしたけ異なるように設定されてい
るから、これらのＴＥモード光の干渉光とＴ Ｍモード
光の干渉光との間には、第４図にＮｏ、１． Ｎｏ、２
で示されているように、ある一定の位相差が生じること
になる。相互に一定の位相シフトが与えられた２つの干
渉光Ｎｏ、１． Ｎｏ、２の変化の順序によってミラー
４の変位方向の判別ができる。
光導波路１３と１４との長さの差しは次のようにして設
定できる。
定できる。
光としてＨｅ−Ｎｅレーザ（λ−０，８３３ａ ｍ ）
を用い、常温の条件下において、光導波路の屈折率は、
ＴＭ、ＴＥモード光に対してそれぞれ次式％式％ ［ ［ 光導波路長にＬの違いがある場合に、ＴＥモード光と７
Ｍモード光の光路長がこれに応じて異なる。
を用い、常温の条件下において、光導波路の屈折率は、
ＴＭ、ＴＥモード光に対してそれぞれ次式％式％ ［ ［ 光導波路長にＬの違いがある場合に、ＴＥモード光と７
Ｍモード光の光路長がこれに応じて異なる。
これら２つのモードの光の位相差Δは。
Δ−２πＬ （［Ｎｏ］ −［Ｎｅｌ ）／λ＝ ２
πＬ Ｘ ０．１２３３ （λ−０，８３３μｍ） となる。
πＬ Ｘ ０．１２３３ （λ−０，８３３μｍ） となる。
位相差Δを２π／８とした場合に、第１図の構成では光
は光導波路を往復するので干渉光（Ｎｏ、１とＮｏ、２
）の位相差は２π／４となる。
は光導波路を往復するので干渉光（Ｎｏ、１とＮｏ、２
）の位相差は２π／４となる。
この場合におけるＬは。
Δ−２π／８
一２πＬｘ ０．１２３３
より
Ｌ ＝ １．０１４μｍ
となる。
２つの干渉光の位相差が２π／４であれば被測定物体の
変位方向の判別は可能である。
変位方向の判別は可能である。
２つの干渉光の位相差が２πのときは、これらの干渉光
強度のグラフは重なってしまうから、変位方向の判別は
できない。位相差が２πのとき。
強度のグラフは重なってしまうから、変位方向の判別は
できない。位相差が２πのとき。
Ｌ ＝ ８．１１３μｍである。
したがって、２つの干渉光の位相差が２π／４であるた
めの光導波路長差しは最終的には次式で与えられる。
めの光導波路長差しは最終的には次式で与えられる。
Ｌ−１，０１４＋ｍＸ ８．１１３（μｍ）ｍは正の
整数 ±０．２μｍ程度の光導波路作製精度で充分に変位方向
の判別が可能となることが分るであろう。
整数 ±０．２μｍ程度の光導波路作製精度で充分に変位方向
の判別が可能となることが分るであろう。
さて、第３図および第４図を参照して全体的な動作につ
いて説明しておく。
いて説明しておく。
光源としてＨｅ−Ｎｅレーザ３１が用いられている。こ
のレーザ光はアイソレータ３２およびビーム・スプリッ
タ３３を経て、レンズ３４によって偏波面保存光ファイ
バ２■に入射する。アイソレータ３２は反射光がレーザ
３１に戻らないようにするためである。直線偏光のレー
ザ光を、その偏波面が光ファイバ２１のＸ軸、ｙ軸に対
して４５＠傾くようにして、光ファイバ２１に導入する
と、光ファイバ２１を伝播するＴＥモード光と７Ｍモー
ド光の強度が等しくなる。この光ファイバ２１を通して
ＴＥモード光および７Ｍモード光が基板１上の光導波路
に送られる。
のレーザ光はアイソレータ３２およびビーム・スプリッ
タ３３を経て、レンズ３４によって偏波面保存光ファイ
バ２■に入射する。アイソレータ３２は反射光がレーザ
３１に戻らないようにするためである。直線偏光のレー
ザ光を、その偏波面が光ファイバ２１のＸ軸、ｙ軸に対
して４５＠傾くようにして、光ファイバ２１に導入する
と、光ファイバ２１を伝播するＴＥモード光と７Ｍモー
ド光の強度が等しくなる。この光ファイバ２１を通して
ＴＥモード光および７Ｍモード光が基板１上の光導波路
に送られる。
光ファイバ２１を戻ってきたＴＥモード干渉光およびＴ
Ｍモード干渉光は、光ビーム・スプリッタ３３で方向が
変換される。こられの互いに直交する偏波面をもつ２つ
の干渉光は、偏光ビーム・スプリッタ３５で分けられ、
それぞれ受光素子３８Ａ、 ３８Ｂで受光される。
Ｍモード干渉光は、光ビーム・スプリッタ３３で方向が
変換される。こられの互いに直交する偏波面をもつ２つ
の干渉光は、偏光ビーム・スプリッタ３５で分けられ、
それぞれ受光素子３８Ａ、 ３８Ｂで受光される。
これらの干渉光信号は受光素子３８Ａ、 ３６Ｂでそれ
ぞれ電気信号に変換されたのち、適当なスレシホールド
・レベルをもつ回路３７Ａ、 ３７Ｂでそれぞれレベル
弁別され、２値化される。この２値化信号の立上りおよ
び／または立下りがカウンタ３８Ａ。
ぞれ電気信号に変換されたのち、適当なスレシホールド
・レベルをもつ回路３７Ａ、 ３７Ｂでそれぞれレベル
弁別され、２値化される。この２値化信号の立上りおよ
び／または立下りがカウンタ３８Ａ。
３８１３によって計数される。したがって、ミラー４の
変位量はλ／２またはλ／４単位でａｌ１１定される。
変位量はλ／２またはλ／４単位でａｌ１１定される。
λ／４の場合には、約０．１６μｍの分解能で変位量が
測定できることになる。第４図に示すＮ００１またはＮ
ｏ、２ （Ｔ Ｅモードまたは７Ｍモード）の２値化信
号のいずれか一方のみを用いて変位量が／ＩＰｊ定でき
るのはいうまでもない。
測定できることになる。第４図に示すＮ００１またはＮ
ｏ、２ （Ｔ Ｅモードまたは７Ｍモード）の２値化信
号のいずれか一方のみを用いて変位量が／ＩＰｊ定でき
るのはいうまでもない。
他方、上記の２値化信号は微分回路３９Ａ、 ３９Ｂで
その立上りおよび／または立下りが検出され、この微分
された信号が方向判別回路４０に人力する。
その立上りおよび／または立下りが検出され、この微分
された信号が方向判別回路４０に人力する。
ミラー４が基板１から遠ざかる方向に動くときには、た
とえばスレシホールド回路３７Ａの出力信号の立上り（
立下り）が同日路３７Ｂの出力信号の立上り（立下り）
よりも先に現われ、ミラー４が逆方向に動くときにはこ
れらの２つの信号の変化の順序が逆になる。２つの微分
回路３９Ａ、 ３９Ｂの出力の変化が現われる順序に基
づいてミラー４の移動方向が判別回路４０により判別さ
れる。方向判別回路４０はＣＰＵによって構成すること
も可能である。
とえばスレシホールド回路３７Ａの出力信号の立上り（
立下り）が同日路３７Ｂの出力信号の立上り（立下り）
よりも先に現われ、ミラー４が逆方向に動くときにはこ
れらの２つの信号の変化の順序が逆になる。２つの微分
回路３９Ａ、 ３９Ｂの出力の変化が現われる順序に基
づいてミラー４の移動方向が判別回路４０により判別さ
れる。方向判別回路４０はＣＰＵによって構成すること
も可能である。
に記実施例では、Ｙ分岐光導波路を中心にして？！成板
上光導波路が形成されているが、上述した先願に示され
ているような非対称Ｘ分岐光導波路を用いてもこの発明
は実現できる。
上光導波路が形成されているが、上述した先願に示され
ているような非対称Ｘ分岐光導波路を用いてもこの発明
は実現できる。
図面はこの発明の実施例を示し、第１図は導波型光変位
センサの主要部を示す斜視図、第２図は偏波面保存光フ
ァイバと基板上の光導波路との結合の配置を示す図、第
３図は光変位測定系全体の構成を示す構成およびブロッ
ク図、第４図は干渉光強度信号とそれに基づいてつくら
れた二値化信号を示す波形図である。 １・・・基板。 ２・・・反射部。 ４・・・被測定物体に連動するミラー。 １１・・・Ｙ分岐光導波路。 １２・・・入力用および出力用（光干渉用）光導波路。 １３・・・参照光用光導波路。 １４・・・信号光用光導波路。 以 上 特許出願人 立石電機株式会社 代 理 人 弁理士 牛久 健司 （外１名）
センサの主要部を示す斜視図、第２図は偏波面保存光フ
ァイバと基板上の光導波路との結合の配置を示す図、第
３図は光変位測定系全体の構成を示す構成およびブロッ
ク図、第４図は干渉光強度信号とそれに基づいてつくら
れた二値化信号を示す波形図である。 １・・・基板。 ２・・・反射部。 ４・・・被測定物体に連動するミラー。 １１・・・Ｙ分岐光導波路。 １２・・・入力用および出力用（光干渉用）光導波路。 １３・・・参照光用光導波路。 １４・・・信号光用光導波路。 以 上 特許出願人 立石電機株式会社 代 理 人 弁理士 牛久 健司 （外１名）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 光学的異方性をもつ基板上に、 端面に反射面が形成された参照光用光導波路と、 端面から出射して被測定物体に連動する鏡面に投射され
る信号光用の光導波路と、 入力光をこれらの参照光用および信号光用光導波路に分
岐させる分岐光導波路と、 参照光用および信号光用光導波路から戻ってきた参照光
と信号光とを干渉させる干渉用光導波路とを、 これらの光導波路を伝播するＴＥモード光およびＴＭモ
ード光に対する屈折率が異なるように作製し、 干渉用光導波路を伝播するＴＥモード干渉光の強度変化
とＴＭモード干渉光の強度変化との間に一定の位相差が
生じるように参照光用光導波路と信号光用光導波路との
長さを異ならせたことを特徴とする、 導波型光変位センサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61189603A JPH0684884B2 (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 導波型光変位センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61189603A JPH0684884B2 (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 導波型光変位センサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6347602A true JPS6347602A (ja) | 1988-02-29 |
| JPH0684884B2 JPH0684884B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=16244074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61189603A Expired - Lifetime JPH0684884B2 (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 導波型光変位センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0684884B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05302976A (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-16 | Agency Of Ind Science & Technol | 距離測定装置 |
| WO2007037241A1 (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-05 | Japan Science And Technology Agency | ずり測定方法及びその装置 |
| JP2008309645A (ja) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 内径測定装置 |
-
1986
- 1986-08-14 JP JP61189603A patent/JPH0684884B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05302976A (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-16 | Agency Of Ind Science & Technol | 距離測定装置 |
| WO2007037241A1 (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-05 | Japan Science And Technology Agency | ずり測定方法及びその装置 |
| JPWO2007037241A1 (ja) * | 2005-09-28 | 2009-04-09 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ずり測定方法及びその装置 |
| US7845231B2 (en) | 2005-09-28 | 2010-12-07 | Japan Science And Technology Agency | Shear measuring method and its device |
| JP4615568B2 (ja) * | 2005-09-28 | 2011-01-19 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ずり測定方法及びその装置 |
| CN101278184B (zh) | 2005-09-28 | 2012-07-04 | 独立行政法人科学技术振兴机构 | 切变测定方法及其装置 |
| EP1942331A4 (en) * | 2005-09-28 | 2015-09-02 | Japan Science & Tech Agency | MEASURING METHOD AND DEVICE THEREFOR |
| JP2008309645A (ja) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 内径測定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0684884B2 (ja) | 1994-10-26 |
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