JPH0684884B2 - 導波型光変位センサ - Google Patents
導波型光変位センサInfo
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- JPH0684884B2 JPH0684884B2 JP61189603A JP18960386A JPH0684884B2 JP H0684884 B2 JPH0684884 B2 JP H0684884B2 JP 61189603 A JP61189603 A JP 61189603A JP 18960386 A JP18960386 A JP 18960386A JP H0684884 B2 JPH0684884 B2 JP H0684884B2
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- optical waveguide
- optical
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- interference
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Description
【発明の詳細な説明】 発明の要約 光学的異方性をもつ基板に，分岐した２本の光導波路を
作製してこれらを参照光用，信号光用とする。TEモード
光とTMモード光とでは屈折率が異なるので光路長が異な
ることを利用して,TEモードの参照光と信号光との干渉
光と,TMモードの参照光と信号光との干渉光との間に一
定の位相差をもたせることによって，変位量のみならず
変位方向をも判別できるようにした。
作製してこれらを参照光用，信号光用とする。TEモード
光とTMモード光とでは屈折率が異なるので光路長が異な
ることを利用して,TEモードの参照光と信号光との干渉
光と,TMモードの参照光と信号光との干渉光との間に一
定の位相差をもたせることによって，変位量のみならず
変位方向をも判別できるようにした。
発明の背景 技術分野 この発明は，基板上に光導波路を用いてマイケルソン干
渉計を作製し，基板上の反射面で反射する参照光と基板
外の被測定物体上の反射面で反射する信号光との干渉に
よる光強度変化に基づいて被測定物体の変位量を計測す
る導波型光変位センサに関する。
渉計を作製し，基板上の反射面で反射する参照光と基板
外の被測定物体上の反射面で反射する信号光との干渉に
よる光強度変化に基づいて被測定物体の変位量を計測す
る導波型光変位センサに関する。
先願発明 出願人は既にこの種の導波型光変位センサについていく
つかの提案を行なっている。たとえば，特願昭60-14263
7号，特願昭60-142638号，特願昭60-142639号などであ
る。とくに，後２者の特許出願には，被測定物体の変位
量のみならずその変位方向をも判別することのできる導
波型光変位センサが開示されている。被測定物体の変位
方向を判別するためには２つの干渉光が必要であり、し
かもこれらの干渉光はその位相が相互に一定角度（たと
えばπ/4またはπ/2など）ずれていなければならない。
したがって基板上には２系統の光干渉計の作製が必要で
あり,2つの干渉光を取出すために２本の光ファイバが必
要となる。入力光を基板に導入するためにもう１本の光
ファイバを要するから，少なくとも合計３本の光ファイ
バが必要である。
つかの提案を行なっている。たとえば，特願昭60-14263
7号，特願昭60-142638号，特願昭60-142639号などであ
る。とくに，後２者の特許出願には，被測定物体の変位
量のみならずその変位方向をも判別することのできる導
波型光変位センサが開示されている。被測定物体の変位
方向を判別するためには２つの干渉光が必要であり、し
かもこれらの干渉光はその位相が相互に一定角度（たと
えばπ/4またはπ/2など）ずれていなければならない。
したがって基板上には２系統の光干渉計の作製が必要で
あり,2つの干渉光を取出すために２本の光ファイバが必
要となる。入力光を基板に導入するためにもう１本の光
ファイバを要するから，少なくとも合計３本の光ファイ
バが必要である。
発明の概要 この発明は，構成のより簡素化を図った導波型光変位セ
ンサを提供するものである。
ンサを提供するものである。
この発明による導波型光変位センサは，光学的異方性を
もつ基板上に，端面に反射面が形成された参照光用光導
波路と，端面から出射して被測定物体に連動する鏡面に
投射される信号光用の光導波路と，入力光をこれらの参
照光用および信号光用光導波路に分岐させる分岐光導波
路と，参照光用および信号光用光導波路から戻ってきた
参照光と信号光とを干渉させる干渉用光導波路とを，こ
れらの光導波路を伝播するTEモード光およびTMモード光
に対する屈折率が異なるように作製し，干渉用光導波路
を伝播するTEモード干渉光の強度変化とTMモード干渉光
の強度変化との間に一定の位相差が生じるように参照光
用光導波路と信号光用光導波路との長さを異ならせたと
を特徴とする。
もつ基板上に，端面に反射面が形成された参照光用光導
波路と，端面から出射して被測定物体に連動する鏡面に
投射される信号光用の光導波路と，入力光をこれらの参
照光用および信号光用光導波路に分岐させる分岐光導波
路と，参照光用および信号光用光導波路から戻ってきた
参照光と信号光とを干渉させる干渉用光導波路とを，こ
れらの光導波路を伝播するTEモード光およびTMモード光
に対する屈折率が異なるように作製し，干渉用光導波路
を伝播するTEモード干渉光の強度変化とTMモード干渉光
の強度変化との間に一定の位相差が生じるように参照光
用光導波路と信号光用光導波路との長さを異ならせたと
を特徴とする。
Ｙ分岐光導波路を利用して基板上に上記の各種光導波路
を作製する場合には，分岐光導波路と干渉用光導波路と
は共通部分をもつことになろう。いわゆる非対称Ｘ分岐
光導波路を用いて上記の各種光導波路を基板に作製する
こともできる。
を作製する場合には，分岐光導波路と干渉用光導波路と
は共通部分をもつことになろう。いわゆる非対称Ｘ分岐
光導波路を用いて上記の各種光導波路を基板に作製する
こともできる。
基板上の分岐光導波路にTEモード光とTMモード光とを導
入するためには偏波面保存光ファイバを用いればよい。
また，干渉用光導波路からの出射光は偏光ビーム・スプ
リッタによってTEモード光とTMモード光とに分離すれば
よい。
入するためには偏波面保存光ファイバを用いればよい。
また，干渉用光導波路からの出射光は偏光ビーム・スプ
リッタによってTEモード光とTMモード光とに分離すれば
よい。
分離されたTEモード光とTMモード光とをそれぞれ別個の
光電変換素子で受光し，その光強度変化を電気信号に変
換する。これらの電気信号を２値化し,2値化パルス数を
計数することによって被測定物体の変位量を検出するこ
とができる。また,TEモード光の光強度変化とTMモード
光の光強度変化とは一定の位相差をもっているので，こ
れらの２つの受光信号の変化の順序によって被測定物体
の変位方向を判定することが可能となる。
光電変換素子で受光し，その光強度変化を電気信号に変
換する。これらの電気信号を２値化し,2値化パルス数を
計数することによって被測定物体の変位量を検出するこ
とができる。また,TEモード光の光強度変化とTMモード
光の光強度変化とは一定の位相差をもっているので，こ
れらの２つの受光信号の変化の順序によって被測定物体
の変位方向を判定することが可能となる。
この発明によると，相互に干渉しないTEモード光とTMモ
ード光とを用いているから，基板上に１系統の光干渉計
を設けるだけで，変位量の測定のみならず変位方向の判
別をも行なうことが可能となり，基板上の光導波路の構
成が簡素となる。Ｙ分岐光導波路を用いた場合には１本
の光ファイバで入力光の基板への導入と干渉光の導出と
を行なうことができ，非対称Ｘ分岐光導波路を用いた場
合にも合計２本の光ファイバで足りるので，光軸調整等
も容易となる。さらにTEモード干渉光とTMモード干渉光
との間の位相差は，参照光用光導波路と信号光用光導波
路との長さを単に異ならせて設定することによって与え
ることができるので、この点からも構成の簡素化が図ら
れる。
ード光とを用いているから，基板上に１系統の光干渉計
を設けるだけで，変位量の測定のみならず変位方向の判
別をも行なうことが可能となり，基板上の光導波路の構
成が簡素となる。Ｙ分岐光導波路を用いた場合には１本
の光ファイバで入力光の基板への導入と干渉光の導出と
を行なうことができ，非対称Ｘ分岐光導波路を用いた場
合にも合計２本の光ファイバで足りるので，光軸調整等
も容易となる。さらにTEモード干渉光とTMモード干渉光
との間の位相差は，参照光用光導波路と信号光用光導波
路との長さを単に異ならせて設定することによって与え
ることができるので、この点からも構成の簡素化が図ら
れる。
実施例の説明 第１図は導波型光変位センサの主要部を示している。
基板１としてＺカットのLiNbO3結晶が用いられており，
この基板１上に光導波路パターンのTi膜（厚さ300Å）
を形成したのち，ウェットO2雰囲気,1000℃で５時間Ti
を基板１に熱拡散させることによって光導波路が形成さ
れている。この光導波路は，入力用および出力用（光干
渉用）の光導波路12と，参照光用光導波路13と，信号光
用光導波路14と,Y分岐光導波路11とから構成され，光導
波路12がＹ分岐光導波路11によって参照光用および信号
光用の光導波路13,14に接続されている。
この基板１上に光導波路パターンのTi膜（厚さ300Å）
を形成したのち，ウェットO2雰囲気,1000℃で５時間Ti
を基板１に熱拡散させることによって光導波路が形成さ
れている。この光導波路は，入力用および出力用（光干
渉用）の光導波路12と，参照光用光導波路13と，信号光
用光導波路14と,Y分岐光導波路11とから構成され，光導
波路12がＹ分岐光導波路11によって参照光用および信号
光用の光導波路13,14に接続されている。
参照光用光導波路13は信号光用光導波路14よりも距離Ｌ
だけ短く，参照光用光導波路13の終端には反射部２が設
けられている。この反射部２は，基板１上の光導波路13
の終端位置にドライエッチングによってスロットを形成
し，このスロットの内壁面に金属を蒸着することによっ
て構成することができる。
だけ短く，参照光用光導波路13の終端には反射部２が設
けられている。この反射部２は，基板１上の光導波路13
の終端位置にドライエッチングによってスロットを形成
し，このスロットの内壁面に金属を蒸着することによっ
て構成することができる。
被測定物体に固定された，またはこれと連動するように
結合されたミラーと基板１上の信号光用光導波路14の終
端（基板１の端面）との間にはロット・レンズ３が設け
られている。このレンズ３は，光導波路14から出射する
光をコリメートしてミラー４に投射し，かつその反射光
を集光して光導波路14に導入するためのものである。こ
のレンズ３の存在によって光導波路14の終端とミラー４
との間の距離にかかわらず，常にほぼ一定の光量の信号
光（反射光）が光導波路14に戻りかつＹ分岐光導波路11
に向って光導波路14を伝播するようになる。
結合されたミラーと基板１上の信号光用光導波路14の終
端（基板１の端面）との間にはロット・レンズ３が設け
られている。このレンズ３は，光導波路14から出射する
光をコリメートしてミラー４に投射し，かつその反射光
を集光して光導波路14に導入するためのものである。こ
のレンズ３の存在によって光導波路14の終端とミラー４
との間の距離にかかわらず，常にほぼ一定の光量の信号
光（反射光）が光導波路14に戻りかつＹ分岐光導波路11
に向って光導波路14を伝播するようになる。
反射部２で反射してＹ分岐光導波路11に戻る参照光の強
度と，ミラー４で反射して信号光用光導波路14を伝播し
Ｙ分岐光導波路11に戻る信号光の強度とがほぼ等しくな
るように，反射部２の反射率またはミラー４の反射率を
調整しておくことが好ましい。
度と，ミラー４で反射して信号光用光導波路14を伝播し
Ｙ分岐光導波路11に戻る信号光の強度とがほぼ等しくな
るように，反射部２の反射率またはミラー４の反射率を
調整しておくことが好ましい。
光導波路12の端面にはシングル・モードの偏波面保存光
ファイバ（シングル・ポラリゼーション・ファイバ）21
が接続れている。第２図に拡大して示されているよう
に，この偏波面保存光ファイバ21は，中心のコア22のｘ
軸方向の上下位置に応力発生用のガラス・ファイバ24が
そのサポート23内に挿入されてなり,TEモード（ｙ軸方
向）およびTMモード（ｘ軸方向）の光がその偏波面を一
方向に保存して伝播させることができる。また，光ファ
イバ21はその上記ｘおよびｙ軸方向が基板結晶１のＺお
よびＹ軸方向に一致した状態で，光導波路12に接続され
ている。
ファイバ（シングル・ポラリゼーション・ファイバ）21
が接続れている。第２図に拡大して示されているよう
に，この偏波面保存光ファイバ21は，中心のコア22のｘ
軸方向の上下位置に応力発生用のガラス・ファイバ24が
そのサポート23内に挿入されてなり,TEモード（ｙ軸方
向）およびTMモード（ｘ軸方向）の光がその偏波面を一
方向に保存して伝播させることができる。また，光ファ
イバ21はその上記ｘおよびｙ軸方向が基板結晶１のＺお
よびＹ軸方向に一致した状態で，光導波路12に接続され
ている。
したがって，光ファイバ21内を伝播してきたTEモード,T
Mモードの両モード光が光導波路12内に導入されかつ光
導波路11,13,14等を伝播していくことになる。
Mモードの両モード光が光導波路12内に導入されかつ光
導波路11,13,14等を伝播していくことになる。
一方のモードの光，たとえばTEモードの光についてみる
と，この光は光導波路12からＹ分岐光導波路11に進み，
ここで強度が等しく分岐されて光導波路13と14とに進
む。参照光用光導波路13を伝播する光は反射部２で反射
して光導波路13を逆方向に進み,Y分岐光導波路11に戻る
（参照光）。信号光用光導波路14に進んだ光は，この光
導波路14から出射してロッド・レンズ３を経てミラー４
に向う。ミラー４で反射した光は再びロッド・レンズ３
を経て光導波路14に入射し，この光導波路14を逆方向に
伝播してＹ分岐光導波路11に戻る（信号光）。これらの
参照光と信号光はＹ分岐光導波路11から光導波路12を進
むが，ここで相互に干渉し合い，参照光と信号光との位
相差に応じた強度をもつ干渉光が得られる。この干渉光
（出力光）は光導波路12から光ファイバ21に進み，後述
する測定系に送られる。参照光と信号光の位相差は，こ
れら２つの光の間の光路差，すなわちミラー４の変位量
に依存している。出力光強度の変位量（光路差）に対す
る変化が第４図に示されている（たとえばNo.1の波
形）。出力光強度は光路差の変化に対してλ（光の波
長）の周期で正弦的に変化する。信号光は光導波路14の
出力端とミラー４との間を往復するので光路差はミラー
４の変位量の２倍に等しい。
と，この光は光導波路12からＹ分岐光導波路11に進み，
ここで強度が等しく分岐されて光導波路13と14とに進
む。参照光用光導波路13を伝播する光は反射部２で反射
して光導波路13を逆方向に進み,Y分岐光導波路11に戻る
（参照光）。信号光用光導波路14に進んだ光は，この光
導波路14から出射してロッド・レンズ３を経てミラー４
に向う。ミラー４で反射した光は再びロッド・レンズ３
を経て光導波路14に入射し，この光導波路14を逆方向に
伝播してＹ分岐光導波路11に戻る（信号光）。これらの
参照光と信号光はＹ分岐光導波路11から光導波路12を進
むが，ここで相互に干渉し合い，参照光と信号光との位
相差に応じた強度をもつ干渉光が得られる。この干渉光
（出力光）は光導波路12から光ファイバ21に進み，後述
する測定系に送られる。参照光と信号光の位相差は，こ
れら２つの光の間の光路差，すなわちミラー４の変位量
に依存している。出力光強度の変位量（光路差）に対す
る変化が第４図に示されている（たとえばNo.1の波
形）。出力光強度は光路差の変化に対してλ（光の波
長）の周期で正弦的に変化する。信号光は光導波路14の
出力端とミラー４との間を往復するので光路差はミラー
４の変位量の２倍に等しい。
TEモードの光についても同じように，ミラー４の変位量
を表わす強度をもつ干渉光（出力光）が得られる。
を表わす強度をもつ干渉光（出力光）が得られる。
ところで,ZカットLiNbO3基板１はTEモード光とTMモード
光に対して異なる屈折率を与えるから，そして、参照光
用光導波路13と信号光用光導波路14がそれらの長さにお
いてＬだけ異なるように設定されているから，これらの
TEモード光の干渉光とTMモード光の干渉光との間には，
第４図にNo.1,No.2で示されているように，ある一定の
位相差が生じることになる。相互に一定の位相シフトが
与えられた２つの干渉光No.1,No.2の変化の順序によっ
てミラー４の変位方向の判別ができる。
光に対して異なる屈折率を与えるから，そして、参照光
用光導波路13と信号光用光導波路14がそれらの長さにお
いてＬだけ異なるように設定されているから，これらの
TEモード光の干渉光とTMモード光の干渉光との間には，
第４図にNo.1,No.2で示されているように，ある一定の
位相差が生じることになる。相互に一定の位相シフトが
与えられた２つの干渉光No.1,No.2の変化の順序によっ
てミラー４の変位方向の判別ができる。
光導波路13と14との長さの差Ｌは次のようにして設定で
きる。
きる。
光としてHe−Neレーザ（λ＝0.633μｍ）を用い，常温
の条件下において，光導波路の屈折率は,TM,TEモード光
に対してそれぞれ次式で与えられる。
の条件下において，光導波路の屈折率は,TM,TEモード光
に対してそれぞれ次式で与えられる。
Ne＋ΔNe＝2.200＋0.0175 ＝2.2175 ＝［Ne］ No＋ΔNo＝2.286＋0.0095 ＝2.2955 ＝［No］ 光導波路長にＬの違いがある場合に,TEモード光とTMモ
ード光の光路長がこれに応じて異なる。
ード光の光路長がこれに応じて異なる。
これら２つのモードの光の位相差Δは， Δ＝２πＬ（［No］−［Ne］）／λ ＝２πＬ×0.1233 （λ＝0.633μｍ） となる。
位相差Δを２π/8とした場合に，第１図の構成では光は
光導波路を往復するので干渉光（No.1とNo.2）の位相差
は２π/4となる。
光導波路を往復するので干渉光（No.1とNo.2）の位相差
は２π/4となる。
この場合におけるＬは， Δ＝２π/8 ＝２πＬ×0.1233 より Ｌ＝1.014μｍ となる。
２つの干渉光の位相差が２π/4であれば被測定物体の変
位方向の判別は可能である。
位方向の判別は可能である。
２つの干渉光の位相差が２πのときは，これらの干渉光
強度のグラフは重なってしまうから，変位方向の判別は
できない。位相差が２πのとき， Ｌ＝8.113μｍである。
強度のグラフは重なってしまうから，変位方向の判別は
できない。位相差が２πのとき， Ｌ＝8.113μｍである。
したがって,2つの干渉光の位相差が２π/4であるための
光導波路長差Ｌは最終的には次式で与えられる。
光導波路長差Ｌは最終的には次式で与えられる。
Ｌ＝1.014＋ｍ×8.113（μｍ） ｍは正の整数 ±0.2μｍ程度の光導波路作製精度で充分に変位方向の
判別が可能となることが分るであろう。
判別が可能となることが分るであろう。
さて，第３図および第４図を参照して全体的な動作につ
いて説明しておく。
いて説明しておく。
光源としてHe−Neレーザ31が用いられている。このレー
ザ光はアイソレータ32およびビーム・スプリッタ33を経
て，レンズ34によって偏波面保存光ファイバ21に入射す
る。アイソレータ32は反射光がレーザ31に戻らないよう
にするためである。直線偏光のレーザ光を、その偏波面
が光ファイバ21のｘ軸,y軸に対して45°傾くようにし
て，光ファイバ21に導入すると，光ファイバ21を伝播す
るTEモード光とTMモード光の強度が等しくなる。この光
ファイバ21を通してTEモード光およびTMモード光が基板
１上の光導波路に送られる。
ザ光はアイソレータ32およびビーム・スプリッタ33を経
て，レンズ34によって偏波面保存光ファイバ21に入射す
る。アイソレータ32は反射光がレーザ31に戻らないよう
にするためである。直線偏光のレーザ光を、その偏波面
が光ファイバ21のｘ軸,y軸に対して45°傾くようにし
て，光ファイバ21に導入すると，光ファイバ21を伝播す
るTEモード光とTMモード光の強度が等しくなる。この光
ファイバ21を通してTEモード光およびTMモード光が基板
１上の光導波路に送られる。
光ファイバ21を戻ってきたTEモード干渉光およびTMモー
ド干渉光は，光ビーム・スプリッタ33で方向が変換され
る。これらの互いに直交する偏波面をもつ２つの干渉光
は，偏光ビーム・スプリッタ35で分けられ，それぞれ受
光素子36A,36Bで受光される。
ド干渉光は，光ビーム・スプリッタ33で方向が変換され
る。これらの互いに直交する偏波面をもつ２つの干渉光
は，偏光ビーム・スプリッタ35で分けられ，それぞれ受
光素子36A,36Bで受光される。
これらの干渉光信号は受光素子36A,36Bでそれぞれ電気
信号に変換されたのち，適当なスレシホールド・レベル
をもつ回路37A,37Bでそれぞれレベル弁別され,2値化さ
れる。この２値化信号の立上りおよび／または立下りが
カウンタ38A,38Bによって計数される。したがって，ミ
ラー４の変位量はλ/2またはλ/4単位で測定される。λ
/4の場合には，約0.16μｍの分解能で変位量が測定でき
ることになる。第４図に示すNo.1またはNo.2（TEモード
またはTMモード）の２値化信号のいずれか一方のみを用
いて変位量が測定できるのはいうまでもない。
信号に変換されたのち，適当なスレシホールド・レベル
をもつ回路37A,37Bでそれぞれレベル弁別され,2値化さ
れる。この２値化信号の立上りおよび／または立下りが
カウンタ38A,38Bによって計数される。したがって，ミ
ラー４の変位量はλ/2またはλ/4単位で測定される。λ
/4の場合には，約0.16μｍの分解能で変位量が測定でき
ることになる。第４図に示すNo.1またはNo.2（TEモード
またはTMモード）の２値化信号のいずれか一方のみを用
いて変位量が測定できるのはいうまでもない。
他方，上記の２値化信号は微分回路39A,39Bでその立上
りおよび／または立下りが検出され，この微分された信
号が方向判別回路40に入力する。
りおよび／または立下りが検出され，この微分された信
号が方向判別回路40に入力する。
ミラー４が基板１から遠ざかる方向に動くときには，た
とえばスレシホールド回路37Aの出力信号の立上り（立
下り）が同回路37Bの出力信号の立上り（立下り）より
も先に現われ，ミラー４が逆方向に動くときにはこれら
２つの信号の変化の順序が逆になる。２つの微分回路39
A,39Bの出力の変化が現われる順序に基づいてミラー４
の移動方向が判別回路40により判別される。方向判別回
路40はCPUによって構成することも可能である。
とえばスレシホールド回路37Aの出力信号の立上り（立
下り）が同回路37Bの出力信号の立上り（立下り）より
も先に現われ，ミラー４が逆方向に動くときにはこれら
２つの信号の変化の順序が逆になる。２つの微分回路39
A,39Bの出力の変化が現われる順序に基づいてミラー４
の移動方向が判別回路40により判別される。方向判別回
路40はCPUによって構成することも可能である。
上記実施例では,Y分岐光導波路を中心にして基板上に光
導波路が形成されているが，上述した先願に示されてい
るような非対称Ｘ分岐光導波路を用いてもこの発明は実
現できる。
導波路が形成されているが，上述した先願に示されてい
るような非対称Ｘ分岐光導波路を用いてもこの発明は実
現できる。
図面はこの発明の実施例を示し，第１図は導波型光変位
センサの主要部を示す斜視図，第２図は偏波面保存光フ
ァイバと基板上の光導波路との結合の配置を示す図，第
３図は光変位測定系全体の構成を示す構成およびブロッ
ク図，第４図は干渉光強度信号とそれに基づいてつくら
れた二値化信号を示す波形図である。 １……基板， ２……反射部， ４……被測定物体に連動するミラー， 11……Ｙ分岐光導波路， 12……入力用および出力用（光干渉用）光導波路， 13……参照光用光導波路， 14……信号光用光導波路。
センサの主要部を示す斜視図，第２図は偏波面保存光フ
ァイバと基板上の光導波路との結合の配置を示す図，第
３図は光変位測定系全体の構成を示す構成およびブロッ
ク図，第４図は干渉光強度信号とそれに基づいてつくら
れた二値化信号を示す波形図である。 １……基板， ２……反射部， ４……被測定物体に連動するミラー， 11……Ｙ分岐光導波路， 12……入力用および出力用（光干渉用）光導波路， 13……参照光用光導波路， 14……信号光用光導波路。
Claims (1)
- 【請求項１】光学的異方性をもつ基板上に， 端面に反射面が形成された参照光用光導波路と， 端面から出射して被測定物体に連動する鏡面に投射され
る信号光用の光導波路と， 入力光をこれらの参照光用および信号光用光導波路に分
岐させる分岐光導波路と， 参照光用および信号光用光導波路から戻ってきた参照光
と信号光とを干渉させる干渉用光導波路とを， これらの光導波路を伝播するTEモード光およびTMモード
光に対する屈折率が異なるように作製し， 干渉用光導波路を伝播するTEモード干渉光の強度変化と
TMモード干渉光の強度変化との間に一定の位相差が生じ
るように参照光用光導波路と信号光用光導波路との長さ
を異ならせたことを特徴とする， 導波型光変位センサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61189603A JPH0684884B2 (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 導波型光変位センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61189603A JPH0684884B2 (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 導波型光変位センサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6347602A JPS6347602A (ja) | 1988-02-29 |
| JPH0684884B2 true JPH0684884B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=16244074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61189603A Expired - Lifetime JPH0684884B2 (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 導波型光変位センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0684884B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102374967A (zh) * | 2005-09-28 | 2012-03-14 | 独立行政法人科学技术振兴机构 | 双路型切变应力测定方法及装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3132894B2 (ja) * | 1992-04-24 | 2001-02-05 | 工業技術院長 | 距離測定装置 |
| JP4936286B2 (ja) * | 2007-06-14 | 2012-05-23 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 内径測定装置 |
-
1986
- 1986-08-14 JP JP61189603A patent/JPH0684884B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102374967A (zh) * | 2005-09-28 | 2012-03-14 | 独立行政法人科学技术振兴机构 | 双路型切变应力测定方法及装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6347602A (ja) | 1988-02-29 |
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