JPS634890A - 小型部品の洗浄装置 - Google Patents
小型部品の洗浄装置Info
- Publication number
- JPS634890A JPS634890A JP14693486A JP14693486A JPS634890A JP S634890 A JPS634890 A JP S634890A JP 14693486 A JP14693486 A JP 14693486A JP 14693486 A JP14693486 A JP 14693486A JP S634890 A JPS634890 A JP S634890A
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- JP
- Japan
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- cleaning
- flat plate
- cleaned
- small parts
- fixing
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は洗浄装置に係り、小型光学部品、磁性体、セラ
ミックス等の小型加工成品の洗浄に好適な洗浄装置に関
するものである。
ミックス等の小型加工成品の洗浄に好適な洗浄装置に関
するものである。
一般に洗浄手段にはブラシ洗浄、高圧ジェット洗浄、超
音波洗浄等があり、これら湿式洗浄は無機物の除去に有
効であり、−方、紫外線を使用するオゾン洗浄のような
乾式洗浄は、有機物の除去に有効であるといわれている
。
音波洗浄等があり、これら湿式洗浄は無機物の除去に有
効であり、−方、紫外線を使用するオゾン洗浄のような
乾式洗浄は、有機物の除去に有効であるといわれている
。
しかし、湿式洗浄を実施する場合でも被洗浄物の表面に
凹凸がある場合には、上記の各種の洗浄を併用する必要
があり、光学部品や磁気ヘッド部品のように小型で精密
な部品、中間成品等の場合に洗浄後に薄膜形成などの後
工程が存在する場合には、表面は半導体ウェハと同等の
清浄度が要求されている。
凹凸がある場合には、上記の各種の洗浄を併用する必要
があり、光学部品や磁気ヘッド部品のように小型で精密
な部品、中間成品等の場合に洗浄後に薄膜形成などの後
工程が存在する場合には、表面は半導体ウェハと同等の
清浄度が要求されている。
従来上記のような小型部品や小型加工成品の洗浄は、特
開昭４８−４１５５３号発明のように金属またはプラス
チックスの筒状の洗浄容器に多数個収容して、蒸気洗浄
ないし超音波洗浄を実施するものが知られている。
開昭４８−４１５５３号発明のように金属またはプラス
チックスの筒状の洗浄容器に多数個収容して、蒸気洗浄
ないし超音波洗浄を実施するものが知られている。
上記のように従来技術においては、超音波洗浄を主体と
するものが多いため、より高い清浄度が要求される場合
は洗浄能力の限界が問題点であった。本発明は上記の問
題点を解決するためになされたもので、ブラシ洗浄、高
圧ジェット、オゾン洗浄等各種の洗浄手段の選択と組合
せが可能な。
するものが多いため、より高い清浄度が要求される場合
は洗浄能力の限界が問題点であった。本発明は上記の問
題点を解決するためになされたもので、ブラシ洗浄、高
圧ジェット、オゾン洗浄等各種の洗浄手段の選択と組合
せが可能な。
高度の清浄能力を有する洗浄装置を提供することを目的
とする。
とする。
上記の目的は、回転軸付台板にその回転中心から等距離
の円周上に被洗浄物を着脱自在に固定することが可能な
平板を設置することによって達成される。
の円周上に被洗浄物を着脱自在に固定することが可能な
平板を設置することによって達成される。
小型の被洗浄物は上記回転軸付台板上に洗浄面を上にし
て円周に沿って固定されているから、半導体ウェハと同
様に上記各種の洗浄を１回転させながら実施することが
できる。
て円周に沿って固定されているから、半導体ウェハと同
様に上記各種の洗浄を１回転させながら実施することが
できる。
以下１本発明の実施例を第１〜１０図によって説明する
。
。
第１〜２図は機械的固定方法による本発明の実施例図で
ある。第１図（ａ）において平板１上に被洗浄物２より
も大きい縦横寸法を有する凹部１１ａを具備する固定板
１１を配置し、被洗浄物２は前記固定板１１の凹部１１
ａに収納され、固定ねじ１２により被洗浄物２の側面に
押し当てられ固定される。
ある。第１図（ａ）において平板１上に被洗浄物２より
も大きい縦横寸法を有する凹部１１ａを具備する固定板
１１を配置し、被洗浄物２は前記固定板１１の凹部１１
ａに収納され、固定ねじ１２により被洗浄物２の側面に
押し当てられ固定される。
また、第１図（ｂ）に示すように固定ねじ１２の代りに
ピン２６．バネ２７を用いて固定してもよい。この実施
例ではその他のチャッキングを含む機械的固定を包含す
るものである。
ピン２６．バネ２７を用いて固定してもよい。この実施
例ではその他のチャッキングを含む機械的固定を包含す
るものである。
第３〜４図は真空吸着により固定した実施例図である。
同図において被洗浄物２は、平板１上に被洗浄物２より
も大きい縦横寸法を有する凹部２２と真空吸着用の真空
引穴２５により吸着固定される。真空吸着時には回転軸
付台板３の真空引穴２５を介して吸引され、被洗浄物２
は底部２２ａに接合して気密的に保持され、平板１と共
に回転軸付台板３上に固定される。
も大きい縦横寸法を有する凹部２２と真空吸着用の真空
引穴２５により吸着固定される。真空吸着時には回転軸
付台板３の真空引穴２５を介して吸引され、被洗浄物２
は底部２２ａに接合して気密的に保持され、平板１と共
に回転軸付台板３上に固定される。
第５〜６図は磁力固定による実施例図である。
同図において平板１はマグネットシート３１とベース３
２により構成され互いに接着されている。
２により構成され互いに接着されている。
被洗浄物２はマグネットシート３１上に配置され磁力に
より固定されている。
より固定されている。
第７〜８図は接着剤等での固定による実施例図である。
同図において平板１上に被洗浄物２は接着剤、ワックス
、粘着テープ等により固定されている。
、粘着テープ等により固定されている。
上記各実施例とも被洗浄物２は平板１上の円周に沿って
配置固定される。
配置固定される。
次に、本発明の洗浄作業の実施例を第９〜１０図によっ
て説明する。洗浄槽４内の回転軸付台板３上に被洗浄物
２が固定される。ブラシ洗浄の場合は洗浄槽４付近に設
置されたブラシ５をブラシアーム５ａにより被洗浄物２
上に密着させる。ブラシ５はブラシアーム５ｂを介して
回転を与えられた被洗浄物２の表面を擦り、汚れを除去
する。
て説明する。洗浄槽４内の回転軸付台板３上に被洗浄物
２が固定される。ブラシ洗浄の場合は洗浄槽４付近に設
置されたブラシ５をブラシアーム５ａにより被洗浄物２
上に密着させる。ブラシ５はブラシアーム５ｂを介して
回転を与えられた被洗浄物２の表面を擦り、汚れを除去
する。
このとき被洗浄物２は回転軸付台板３を回転させること
により、全数がブラシ５を全面的に接触する。ブラシ５
は円筒状で半径方向に植毛されているため、被洗浄物２
に円周方向に連なる溝の凹面を清浄化するのに好適であ
る。
により、全数がブラシ５を全面的に接触する。ブラシ５
は円筒状で半径方向に植毛されているため、被洗浄物２
に円周方向に連なる溝の凹面を清浄化するのに好適であ
る。
６はリンスノズルであって、洗浄液６ａを被洗浄物２上
に放散する。
に放散する。
また、ジェット洗浄の際は高圧ジェットノズル７を被洗
浄物２の上方に位置させ、高圧の洗浄液７ａを噴射させ
被洗浄物２を洗浄する。この場合も回転軸付台板３を回
転させ、更に高圧ジェットノズル７を往復運動させるこ
とにより、被洗浄物２の全数を全面的に洗浄することが
できる。
浄物２の上方に位置させ、高圧の洗浄液７ａを噴射させ
被洗浄物２を洗浄する。この場合も回転軸付台板３を回
転させ、更に高圧ジェットノズル７を往復運動させるこ
とにより、被洗浄物２の全数を全面的に洗浄することが
できる。
上記のほか状況によっては洗浄槽４に超音波振動子を取
付けると共に、洗浄槽４内に洗浄液を満たすことにより
、従来小型の洗浄物に対して適用していた超音波洗浄を
実施することも可能であり、また、洗浄槽上方に紫外線
ランプを配置することにより、オゾン洗浄を実施するこ
とも可能である。
付けると共に、洗浄槽４内に洗浄液を満たすことにより
、従来小型の洗浄物に対して適用していた超音波洗浄を
実施することも可能であり、また、洗浄槽上方に紫外線
ランプを配置することにより、オゾン洗浄を実施するこ
とも可能である。
ブラシ洗浄、ジェット洗浄、超音波洗浄を実施したのち
、被洗浄物２の表面に付着している液体は、そのまま回
転軸付台板３を高速回転させることにより、遠心力で液
体を除去する高速スピンを付与することも可能である。
、被洗浄物２の表面に付着している液体は、そのまま回
転軸付台板３を高速回転させることにより、遠心力で液
体を除去する高速スピンを付与することも可能である。
なお、平板は上記各実施例では円板状のものを図示して
いるが、多角形状であっても良く、また。
いるが、多角形状であっても良く、また。
平板上面は被洗浄物の固定に支障のないかぎり流水溝を
設置することも可能である。
設置することも可能である。
また、平板と回転軸付台板との固定の手段は被洗浄物と
平板との固定と同様に、機械的固定、真空吸着、磁力及
び接着剤の何れも使用することが可能である。
平板との固定と同様に、機械的固定、真空吸着、磁力及
び接着剤の何れも使用することが可能である。
さらにまた上記実施例では、平板１の回転軸の方向は垂
直方向のものを示したが、水平、垂直またはそれ以外の
方向であってもよい。
直方向のものを示したが、水平、垂直またはそれ以外の
方向であってもよい。
本発明の実施により、磁気ヘッドなどの電子部品やセラ
ミックスの成品のように小型の被洗浄物を回転軸付台板
と一体に固定した平板に着脱自在に装着して、ブラシ洗
浄、高圧ジェット及び超音波洗浄などの洗浄を一貫して
実施することが可能となり、清浄度の高い洗浄効果が得
られるものである。
ミックスの成品のように小型の被洗浄物を回転軸付台板
と一体に固定した平板に着脱自在に装着して、ブラシ洗
浄、高圧ジェット及び超音波洗浄などの洗浄を一貫して
実施することが可能となり、清浄度の高い洗浄効果が得
られるものである。
第１図（ａ）、（ｂ）は本発明に係る平板に被洗浄物を
機械的に固定した平面図、第２図は第１図（ａ）の縦断
面図、第３図は本発明に係る平板に被洗浄物を真空吸着
により固定した平面図、第４図は第３図の縦断面図、第
５図は本発明に係る平板に被洗浄物磁力により固定した
平面図、第６図は第５図の縦断面図、第７図は本発明に
係る平板に被洗浄物を接着剤により固定した平面図、第
８図は第７図の縦断面図、第９図は本発明に係る洗浄装
置の一実施例の作業状況を示す平面図、第１（［１は第
９図の側面図である。 ｌ・・・平板、２・・・被洗浄物、３・・・回転軸付台
板、４・・・洗浄槽、５・・・ブラシ、６・・・リンス
ノズル、７・・・高圧ジェットノズル。 嶋１ 図 （α） も３図 第卯口 ２ｚ −ｍ−亡シ ｆｐ 篤５ 図 浩６図 ？ η″″１図 も８図 活９ 図 も１０図 ５ −−− Ｔ つ ゛ン
機械的に固定した平面図、第２図は第１図（ａ）の縦断
面図、第３図は本発明に係る平板に被洗浄物を真空吸着
により固定した平面図、第４図は第３図の縦断面図、第
５図は本発明に係る平板に被洗浄物磁力により固定した
平面図、第６図は第５図の縦断面図、第７図は本発明に
係る平板に被洗浄物を接着剤により固定した平面図、第
８図は第７図の縦断面図、第９図は本発明に係る洗浄装
置の一実施例の作業状況を示す平面図、第１（［１は第
９図の側面図である。 ｌ・・・平板、２・・・被洗浄物、３・・・回転軸付台
板、４・・・洗浄槽、５・・・ブラシ、６・・・リンス
ノズル、７・・・高圧ジェットノズル。 嶋１ 図 （α） も３図 第卯口 ２ｚ −ｍ−亡シ ｆｐ 篤５ 図 浩６図 ？ η″″１図 も８図 活９ 図 も１０図 ５ −−− Ｔ つ ゛ン
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、回転軸付台板と、これに接面する平板と、この平板
を前記回転軸付台板に固定する手段と、この平板の回転
中心から等距離にある円周上の複数個所に小型部品を着
脱自在に固定する手段とを備えることを特徴とする小型
部品の洗浄装置。 ２、前記平板の回転中心から等距離にある円周上の複数
個所に小型部品を固定する手段は、機械的な固定による
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の小型部品
の洗浄装置。 ３、前記平板の回転中心から等距離にある円周上の複数
個所に小型部品を固定する手段は、真空吸着によること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の小型部品の洗
浄装置。 ４、前記平板の回転中心から等距離にある円周上の複数
個所に小型部品を固定する手段は、磁力によることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の小型部品の洗浄装
置。 ５、前記平板の回転中心から等距離にある円周上の複数
個所に小型部品を固定する手段は、接着剤によることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の小型部品の洗浄
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14693486A JPS634890A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 小型部品の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14693486A JPS634890A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 小型部品の洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS634890A true JPS634890A (ja) | 1988-01-09 |
Family
ID=15418874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14693486A Pending JPS634890A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 小型部品の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS634890A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02251288A (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-09 | Toshiba Corp | 洗浄装置 |
| JP2014534610A (ja) * | 2011-09-22 | 2014-12-18 | エーシーエム リサーチ （シャンハイ） インコーポレーテッド | フリップチップアセンブリの洗浄方法及び装置 |
-
1986
- 1986-06-25 JP JP14693486A patent/JPS634890A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02251288A (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-09 | Toshiba Corp | 洗浄装置 |
| JP2014534610A (ja) * | 2011-09-22 | 2014-12-18 | エーシーエム リサーチ （シャンハイ） インコーポレーテッド | フリップチップアセンブリの洗浄方法及び装置 |
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