JPS63500963A - プロセスレス多色像形成 - Google Patents

プロセスレス多色像形成

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JPS63500963A
JPS63500963A JP61504329A JP50432986A JPS63500963A JP S63500963 A JPS63500963 A JP S63500963A JP 61504329 A JP61504329 A JP 61504329A JP 50432986 A JP50432986 A JP 50432986A JP S63500963 A JPS63500963 A JP S63500963A
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    • G—PHYSICS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 プロセスレス多色像形成 一つの観点において、本発明はフィルム基体(base film)上に、表面 層として結合剤中に懸濁させた感光性ポリアセチレン結晶の多色像形成(mul ticolor imaging)に関する。
他の観点において、本発明は電子ビーム像形成プロセスにおいてポリアセチレン 二次元規則相フィルム<polyacetyle−nic two dimen sional ordered phase film)による直接多色像形成 に関する。
従来技術 フィルム基体上に定着して位置するポリアセチレン結晶の色像形成(color  imaging)は知られている。一般に、ポリアセチレン被覆フィルム基体 または記録媒体は光子または粒子放射線のような放射エネルギー源に露光して結 晶の露光部分を重合し、非露光ポリアセチレン結晶から区別できる特定の色を与 える。しかしながら、この場合、展開する陰または色合いは全透過像上に実質的 に同じにし、最小および最大の色濃度を得るのに必要な予定露光に影響を受ける 。米国特許第3501302号明細書には露光ポリアセチレン化合物の初期の色 を加熱により、または溶剤または溶剤蒸気の作用により永久的に変化させること ができることが記載されている。これらの変化を生じさせる特定の温度または溶 剤は特定のジアセチレン材料に特有であり、色変化は染料重合体分子の発色団主 鎖内の原子の配座における変化に明らかに関係する。しかしながら、すべての感 光性ジアセチレン染料重合材料はこの熱または溶剤誘発永久色変化を受けず、こ れらの場合に耐久性は達成されず、変化色は可逆性である。いずれの場合におい ても、非処理フィルム、および熱または溶剤処理フィルムの最終的な結果は非露 光バックグラウンド上に表示された単色像である。
この能力は透過像(transmitted imge)の初期の色を変えるけ れども、および:れらの方法をすべてのパターンの部分に多色像形成するのに適 用できるけれども、パターンの多色部分を得るのに分離放射露光間において要求 される加熱または溶剤処理工程の欠点および望ましくないことは、通常、これら の処理が露光間の高真空環境において像形成材料を除去、および置き替えること を必要とすることである。
従って、本発明の目的は上述する欠点および非能率さを除去することである。
本発明の他の目的は後の現像工程または他のプロセス工程を必要としないで放射 エネルギー源から直接に多色像を得る方法を提供する。
本発明の他の目的は放射エネルギー源の真空環境から像受理性素子(image  receptive element)を除去することのない多色像形成方法 を提供することである。
本発明のこれらのおよび他の目的は後述する記載から明らかになる。
発明についての説明 本発明においては、像受理性フィルムとして導電性基体に堆積する感光性ポリア セチレン化合物の表面層に、表面層の露光区域に識別しうる色を発生する線量の 特有レベルにおいて放射エネルギーの分離露光を与えることである。
異なる線量における各露光は、光子または粒子エネルギー源から透過すべき全像 の制限された可分部分の透過に制限する。特に、光子または粒子エネルギー、例 えば約I K、V〜約IM、V、好ましくは約10〜約30に、Vの範囲の電子 の場合には約10−10クーロン/ cm2(C/cm2)〜10−’C/cm 2、好ましくは約10−’〜約10−’C/cm2、および約254 nm波長 における光子エネルギーの場合には約104〜約107エルグ/cm2、好まし くは約105〜約106エルグ/am2による低い線量レベル露光はポリアセチ レン結晶の露光部分に、色、しばしば青色またはマゼンダ色を発生する(dev elops)。他の高い線量レベル露光は、約I K、V〜約IM、V、好まし くは約10〜約30に、Vの範囲の電子の場合に約10−5〜約10−’C/c m2、好ましくは約10−’〜約1O−2C/cm2の範囲のレベルで転写すべ き像の他の部分を透過する特定の放射源で作用し、像受理性表面層におけるポリ アセチレン層の露光部分上に最初の露光の色から識別できる色、通常、赤色、オ レンジ色または黄色を発生する。必要に応じ、雨露光は同じ特定エネルギーで作 用できるけれども、少なくとも高い線量レベル露光は電子ビームから透過するエ ネルギーより作用させるのが特に好ましい。
操作のもっとも好ましい方法において、ゼラチン結合剤に分散するペンタコサ− 10,12−ジインイック アシッド(diynoic acid)の結晶を含 む像受理性層を、先づ約1O−9〜約10−6クーロン/ cm 2(C/0m  2)の範囲の線量で10〜30に、V電子ビームによって像形成して転写すべ き全像の部分の青色像を生成する。次いで、この青色像形成フィルムを約10− 3〜約10−’C/cm2の範囲の露光線量で同じ電子ビームに露光し、この第 2露光を受けるジアセチレン結晶の部分上の全像の残留部分を透過して黄色像を 生成する。
一般に、約10〜約50に、Vの範囲のビーム エネルギーを用いることができ 、必要に応じて低い線量レベルおよび高イ線量レベルにおける露光を逆にするこ とができる。勿論、発生する識別しうる色は選定するポリアセチレン化合物によ って変えることができる。例えば、低い線量露光は上述する青色より、むしろマ ゼンダ、褐色または黒色を発生する。同様に、高い線量露光は黄色い色合いの代 りに識別しつるオレンジまたは赤色を発生する。特定の色はポリアセチレンの特 性および線量強さに影響する。しかしながら、すべての場合において、高いおよ び低い線量レベル露光は転写すべき全像の可分部分にそれぞれ別々に制限する。
本発明においてエネルギー源として考えられる放射エネルギーとしては、例えば 陰極線ガンより発生する電子ビーム、イオンビーム、分子ビームのような非帯電 粒子ビーム(uncharged particle beams)、ラジオグ ラフィーに用いるγ−線及びX−線、β−線、電子コロナ放電、紫外線および化 学線、電磁スペクトルの可視および赤外領域からの放射線、および粒子(cor puscu Jar)の他の形態、または放射エネルギーと一般に思われる波状 エネルギーを挙げることができる。ラジオグラフィックおよび短波Uv露光の場 合、および電子およびイオンビームのような電荷(charged)粒子ビーム 以外のすべての露光源の場合、上述する像形成フィルムにおける導電層を省くこ とができ、および導電層の不存在を像形成に用いる電子またはイオンビームが幾 分か破壊するようにフィルムを帯電するけれども、結合剤における像受理性結晶 を基体材料上に直接に堆積することができる。しかしながら、高い線量レベル露 光に好ましい露光源は電子またはイオンビームであるから、フィルムを帯電する ことから生ずる像の破壊を制限するために、導電層を用いるのが好ましい。
本発明において用いる好ましい露光源は電子ビームである。一般に、真空下で約 10−3〜約10−’)ル、好ましくは約10−’〜約10−’ l−ルの範囲 の電子をフィルムの表面に衝撃し、色発生(colord devalopme nt)のための像を光学表示(opticaldisplay)上に透過する。
電子ビーム記録技術は周知のことであり、更に説明を必要としないものと思う。
しかしながら、例示の目的のために、本発明に適当な代表的な通常の電子ビーム 記録操作に、約1〜100μmのビーム直径、約10〜30に、Vのエネルギー および約10−9〜10−5アンペアの電流を有するのに特徴づけられる電子ビ ームを使用でき、滞留時間が約10−’〜10−3秒のような速度でターゲット 区域を走査するようにする。フィルム チャンバーにおける真空圧力は、通常、 約10−3〜10−’)ルの範囲である。
一般に、低い線量レベルでの露光は光子、Uv−線、X−線、T−線、β−線、 イオンビーム、非帯電粒子の分子ビームおよび電子ビームを包含する任意の放射 源で作用することができる。通常、低い線量レベル露光は、電子ビーム露光の場 合に約10−” 〜約10−’C/cm2、好ましくは約10−9〜約10”” C/cm2の範囲で行ない、また他の放射源の場合に同等の線量を用いることが できる。高い線量レベル露光はイオンビーム、非帯電粒子の分子ビームまたは電 子ビームによって発生するような粒子放射源によって作用させる。
通常、高い線量レベルは、電子ビームの場合に約10−5〜約10−’C/cm 2、好ましくは約10−’〜約1O−2C/cm2の範囲で露光し、また他の粒 子エネルギー放射源の場合に同等の線量を用いることができる。
本発明の目的のために、像受理性層は通常、像形成フィルムの表面層であり、結 合剤材料に定着懸濁しくfixedlysuspended)、かつ均一に分布 するポリアセチレン微結晶からなることができる。しかしながら、保護層を、例 えば摩耗による損傷を防ぐためにポリアセチレン含有表面層上に被覆できる。通 常結晶質のポリアセチレン化合物の液体分散物は本出願人の出願にかかる特許出 願明細書第773487号(1985年9月9日出願)に記載しているプロセス によって乾燥および像形成前に熟成する(aged>か、または熟成しないよう にすることができる。一般に、本発明による像受理性ポリアセチレン化合物は米 国特許第3501302号に記載されており、これらの化合物は二色発生するこ とができる。
しかしながら、好ましいポリアセチレン化合物は共役ジイン(conjugat ed diynes) 、特に20〜30個の炭素原子を有する炭化水素または 酸ジインである。これらの好ましいアセチレン化合物の一般式は構造: A−(CH2) 、、−C=C−C=C−(CH2)ヨーB(ここにmおよび口 は6〜14の整数を示し、およびAおよびBはメチルまたはカルボニル基を示す )で示すことができる。かかるポリアセチレンの特定例としては、例えばペンタ コサ−10,12−ジインイック アシッド; 13.15−オクタコサジイン およびドコサ−io、 12−ジイン−1,22−ジオイックアシッド(dio ic acid)を挙げることができる。これらのうち、ペンタコサ−10,1 2−ジインイック アシッドは、電子ビーム露光に対する感受性が異常に高いの で好ましい、しかしながら、共役構造を有する他の発色性ポリアセチレンの分散 物は単独で、または好ましいジインと混合して本発明における像光理性層として 用いることができる。かかる化合物としては、Aおよび/またはB部分を低級ア ルキルまたはカルボキシルのほかにヒドロキシ、アミド、低級アルキル置換アミ ド、10個までの炭素原子を有する脂肪族または芳香族カルボキシレート エス テル、一または二価カルボキシレート金属塩グループ、ハロ、カルバミル、低級 アルキル置換カルバミルまたはトシルにできる上記構造のジイン、並びに20〜 60個の炭素原子および共役構造を有する上記ポリアセチレンの相当するトリイ ン(triyne)およびテトライン(tetrayne)生成物を包含する。
これらの化合物としては、例えば10.12−ドコサジインジオール、9.11 −エイコサジイノイック アシッドのジトルエンーp−スルホネート; 10. 12−ドコサジインジオイック アシッドのモノエチル エステル; 10.1 2−ベンタコサジイノイックアシッドのナトリウムまたはカリウム塩; 10. 12−ドコサジイン塩化物; 10.12−ペンタコサジイン(m−)リル〜ウ レタン) 、10.12−ペンタコサジイン([(ブトキシカルボニル)−メチ ル]ウレタン);N−(ジメチル)−10,12−ペンタコサジインアミド;  N、 N’ ビス(α−メチルベンジル)’−10゜12−ペンタコサジイン  ジアミド;トリアコンタ−16,18,20−トリイノイック アシッド(tr iynoic acid)などを挙げることができる。
これらのフィルムを作る場合、先づポリアセチレン結晶をプラスチック、樹脂、 コロイドまたはゲルの非溶媒和(non−5olvatiB;)の液体結合剤に 分散し、この分散物を適当な導電性基体上に約0.25〜約500μmの層厚さ に被着する。
分散物を乾燥することによって、結晶が結合剤中に定着位置する。乾燥操作は約 20秒〜約10時間にわたりほぼ周囲温度から約100℃までの温度で行うこと ができ、好ましくは15〜60℃で約1分〜約5時間にわたって行うことができ る。
結合剤材料としては、例えばゼラチン、望ましくは写真等級(photogra ph ic−grade)のゼラチンを包含する天然ふよび合成のプラスチック 、樹脂、ワックス、コロイド、ゲルなど、デキストラン、デキストリン、親水性 セルロースエーテルおよびエステル、アセチル化澱粉を包含する種々の多糖質、 パラフィン、みつろうを包含する天然および合成ワックス、ポリとニル−ラクタ ム、アクリルおよびメタクリルエステルおよびアミドの重合体、酢酸ビニル、お よび無水マレイン酸のような不飽和付加重合性化合物の加水分解共重合体、酢酸 ビニル重合体および共重合体並びにその完全および部分的加水分解生成物を包含 するその誘導体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシ ド重合体、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセトアルデヒド アセクール、 ポリビニルブチルアルデヒドアセクール、ポリビニル ナトリウム−〇−スルホ ベンズアルデヒド アセクール、ポリビニルホルムアルデヒドアセタールを包含 するポリビニル アセタール、および感光性ポリアセチレン組成物を混合するド ープ、溶液、分散物、ゲルなどの形態にでき、次いで材料の感光性結晶質ポリア セチレン組成物の分散結晶を含む固体形態に加工できる多数の上述する有用なプ ラスチックおよび樹脂基体材料を包含する多くの他の既知の写真用(photo graph ic)結合剤材料を挙げることができる。結合剤材料のなめらかで 、均一の連続被覆を製造する技術においてよく知られているように、粘度調整剤 、表面活性剤、均染剤、分散剤などのように作用する少量の普通の被膜を用いる ことができる。使用する特定の結合剤材料は特定の放射エネルギーおよび特別の 像記録用途に用いる技術によって選択でき、使用する特定の放射エネルギーを透 過または貫通する結合剤材料である。
一般に入手し得る通常の結晶質ポリアセチレンの結晶大きさは比較的に大きく、 種々の寸法を有しているが、本発明における被覆物のためには約0.01〜約5 μmの範囲、好ましくは約0.05〜約0.2μmの範囲の微結晶がもっとも望 ましく、一般に普通ポリアセチレンは先づ溶剤に溶解し、次いで係属中の特許出 願FDN−1450に示されているように極めて均−大きさの細かい分離結晶の ように再結晶することができる。
あるいは、また、本発明によるポリアセチレン化合物は基体上に二次元規則相表 面層として堆積できる。少なくとも1個の疎水性基および少なくとも1個の親水 性基を含むポリアセチレンは二次元規則相を作るのに特に適応でき、および20 〜60個の炭素原子を有するポリアセチレン列の共役ジイン、トリインおよびテ トラインを含んでいる。好ましいこれらのポリアセチレンとしては20〜40個 の炭素原子を有する上記式のジインであり、この場合AまたはBは1〜12個の 炭素原子の直鎖、分岐鎖または環状アルキル基または6〜9個の炭素原子のアリ ールのような疎水性基であり、およびAまたはBの残留置換基はスルホン酸、ホ スホネート、スルホネート、カルボキシレート、第一アミノ、第一アミド、カル ボキシルまたはヒドロキシ基のような親水性基である。これらの化合物としては 、例えば1−フェニル−10,12−ドコサジイン−22−オール、(4−メチ ル) −16゜18− トリアコンタジイン アミド、1−トリル−11,13 −テトラコサジイン スルホン酸および1−シクロブチル−16゜18−オクタ トリアコンタジイン ホスホネートを挙げることができる。
上述する二次元規則相液覆物はラングミュア−ブローゲット法(langmiu r−Blodgett metbod)によって作ることができ、この方法では ポリアセチレン化合物を水に不混和性で、比較的に低い沸点の溶剤に溶解し、こ の生成溶液を水−空気界面で水性表面、好ましくは水面上にフィルムとして分布 する。次いで、溶剤を蒸発し、ポリアセチレン化合物の分子層を水性表面上に残 留する。次いで、この分子層を水/空気界面でポリアセチレン化合物の単分子層 を形成させる表面圧に加圧し、固体基体を表面に通すことによって単分子膜を固 体基体上に移動するようにする。浸漬処理は、ポリアセチレン フィルムの付加 単分子層が基体上に約10μmまでの所望の厚さになるように必要なだけ繰返す 。
本発明の目的のために、像形成媒質のポリアセチレン層に対して多層基体を用い るのが好ましい。かかる像形成媒質を用いる場合には、ポリアセチレン像形成層 の下に分離導電層を含ませ、また分離支持体および接着層を含ませることができ る。しかしながら、ある用途においては、ポリアセチレン結合剤を露光温度で十 分に一体にし、像形成フィルムを像形成媒質として単一フィルム基体を形成する 結合剤中に懸濁する結晶のみからなるようにできる。
本発明の目的のための代表的なフィルムは非溶媒和結合剤中の微結晶ポリアセチ レンまたはポリアセチレンの多層二次元規則相からなり、約0.5〜約10ミル 厚さの基体に堆積した約0.25〜約500μm1好ましくは約2〜約10μm の層に形成する。
本発明の目的は適当な支持体は市販から入手しつる任意の支持体を包含しており 、一般に約0.001〜約0.25μm厚さ、好ましくは0.01〜約0.05 μm厚さの範囲の導電層を包含する。
約0.05μmまでの透明な導電層がもっとも好ましいけれども、5μmまでの 不透明な導電層を必要に応じて使用することができる。導電層は電荷受理層(c harge acceptinglayer)のキャパシタンス、すなわち、結 合剤中に分散する像光理性ポリアセチレン結晶またはポリアセチレン化合物の多 層二次元規則フィルムを制限し、一般に106Ω/口またはこれ以下、好ましく は104Ω/口またはこれ以下の抵抗率を有する。導電性材料としては、導電性 金属、金属酸化物、金属合金、金属ハロゲン化物またはカーボンブラックを例示 でき、これらの金属、金属化合物およびカーボンブラック成分はゼラチン、デキ ストラン、セルロース エーテルまたはエステルのような分散媒質に、または任 意の他の通常の分散媒質に懸濁しても、または懸濁しなくてもよい、適当な金属 としては、例えば金、銀、白金、銅、鉄、錫、アルミニウム、インジウム、ニッ ケル、パラジウム、ロジウムおよびこれらの合金、および金属酸化物またはハロ ゲン化物の形態として生ずるこれらの金属の混合物を挙げることができる。適当 に使用できる特定の金属酸化物としてはインジウム−錫酸化物を例示できるっ導 電層として使用できる金属ハロゲン化物としては臭化銀および沃化鋼を例示でき る。これらの導電性材料のうち、インジウム−錫酸化物がもっとも好ましい。
必要に応じて、ポリアセチレン層は導電層に約0.1〜1.5μm厚さの薄い接 着層によって強固に付着することができる。使用するのに適当な接着剤としては 、例えばアクリレートとからなる重合体および共重合体、特にアクリル酸または メタクリル酸残分のようなカルボキシレート部分を含む重合体および共重合体、 およびこれらの重合体または共重合体とゼラチンの混合物を挙げることができる 。
ある場合において、導電金属シートを基体として用いる場合には、分離導電層を 省くことができ、像受理性層を金属シート導電性支持体上に直接に堆積する。
通常、導電層は約0.25〜約100ミル、好ましくは0.5〜10ミル厚さの 基体によって支持する。基体として使用する適当な材料としては、例えばポリエ ステル、ポリエチレンテレフタート、ガラス、タレ・−一すイズド ベーパー( clay−sized paper) 、ファイバー・ボード、金属板金(me talsheetin3) 、施釉セラミック(glazed ceramic )、酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリカーボネートまたは任意の他の通常の 支持体を挙げることができる。
基体または支持体はフィルムの最終用途に応じて可撓性にまたは剛性に、不透明 にまたは透明にすることができる。
特に、商品名「マイラ」(ポリエチレン テレフタート)(E、 1. dup ond Corporation製)および商品名「ホスタパン(I(OSTA PAN)J (American Hoechst社製)の如き市販のポリエス テル基体が好ましい。
次に、本発明を実施例について説明するが、これによって本発明は制限されるも のではない。
実施例1 表面層として定着懸濁、均一分布ポリアセチレン結晶を有する像受理性層の製造 ガラス ビーカー内において、15gのペンタコサ−io、 12−ジイノイッ ク アシッドを45gの酢酸エチルに38℃で溶解して溶液(溶液A)を作った 。次に第2溶液(溶液B)を、15gの写真用ゼラチンを3重量%の表面活性剤 GAFAC−RS−710(1)を含有する水溶液30−および水250gに溶 解して作った。この溶液Bを40℃に加熱し、1クォート大きさのワーリングブ レンダーに導入した。高速で撹拌しながら、溶液Aを溶液Bに約30秒間にわた って添加した。冷却するためにステンレス鋼製トレーに注ぐ前に、撹拌を更に2 .5分間にわたり継続させた。ゲル化分散物を約1cm3に力・ノドし、空気流 中に配置し、酢酸エチルを蒸発によって除去した。酢酸エチルを除去した後、ゲ ル化分散物を40℃で融解し、および乾燥中に生じた重量損失を補うのに十分な 水を添加して元に戻した(reconst 1tuted)。次いで、元に戻し た分散物を約−15℃で約2時間にわたって冷凍し、室温に温め、しかる後融解 し、約10μm厚さに4ミルのフィルム基体(商品名「シイラシン インドレッ クス−K (SIERRACIN INTREX −K)J ” (インジウム −i酸化物溝i被fflを担持し、約10″Ω/口の抵抗率を有するポリエステ ル基体)上に塗布し、約50重量%のゼラチンおよび50重量%のラテックス重 合体からなる接着保護材料の1μm厚さの層で上塗りした。次いで、この被覆フ ィルムを空気中、周囲温度で乾燥した。
(註) (1) GAF Corporationから販売されているノニルフ ェノールのアシッド ホスフェート エステル(2) Sy1mer/5ier racin Companyより販売されている。
実施例2 実施例1において作った像形成フィルムを電子ビーム記録装置の試料ホルダーに 配置し、20に、V電子ビームを用いて重ね合わせ曲線(superimpos ed curve)によるグラフのパターンを露光した。グラフ部分を試料表面 層に5秒の滞留時間にわたって10−’C/cm2ff光によって透過し、しか る後グラフの濃い青色像がフィルム上に直ちに生じた。次いで、像の曲線部分を 試料表面層に60秒の滞留時間にわたって10−’C/cm” 露光して透過し 、この際にオレンジ−黄色合いの曲線がグラフ上に重なった。青および黄色合い の透過像の解像度が極めて高かった。
実施例3 導電基体上に堆積した二次元規則相における疎水−親水性ポリアセチレン単分子 膜の多層を有する像光理性フィルムの製造 溶液Cを、1gのペンタコサ−10,12−ジイノイック アシッドを四塩化炭 素に溶解して作り、この溶液0.125−をラングミュア−ブロードゲット フ ィルム平衡において得た水の表面に被着した。5分間にわたり四塩化炭素を蒸発 させた後、可動バリア(movab]e barrier)を氷表面を横切って 駆動させることによって、ペンタコサ−10,12−ジイノイック アシッドの 分子の表面フィルムを約20ダイン/ cm 2の表面圧で加圧した。6.45 cm 2(1平方インチ)のクロム被覆ガラス スライドを、可動バリアによっ て約20ダイン/Cm2の表面圧を維持しながら、空気−水界面においてl m m7秒の速度で単分子膜を通して垂直に駆動した。基体を界面を通して移動させ ることによって、ペンタコサ−10,12=ジイノイツク アシッドの単分子膜 を基体の表面に移動させた。単一の単分子膜の厚さは約25八であった。基体を 水−空気界面に繰返し通して多数の上記層を堆積し、全体で約400層からなる 約1μmの最終厚さのペンタコサ−10,12−ジイノイック アシッド層を形 成した。時々、水/空気界面におけるペンタコザーio、 12−ジイノイック  アシッドの単分子膜を、可動バリアをはずし、および基体の表面に移動させた ペンタコサ−10,12−ジイノイック アシッドを補うのに必要な量の溶液C を供給した。
実施例4 実施例3において作った多層単分子膜試料を電子ビーム記録装置のホルタ−に配 置し、15KeV電子ビームを用いて下部ケースおよび上部ケース文字にアルフ ァベットを露光した。上部ケース文字を約10−’C/cm2の露光で転写し、 文字の濃い青色像が直ちに生じた。下部ケース文字は約1O−3C/cm2の露 光線量で転写し、上部ケース文字の青色から明らかなように識別できるオレンジ −黄色合いに生じた。
実施例5 実施例1を繰返し、フィルムの試料を、記録層が格子のパターンのステンシル  カット(stencil cut)と接触するように配置した。ステンシルを2 54 mmおよびこれ以下の波長で紫外線を実質的に含む放射線で照して格子の パターンをフィルムに移動させた。パターンを設けた部分を除いて、ステンシル はこのエネルギーの放射線に透明であるから格子の青色像が加工処理(proc ess ing)を必要としないでフィルム上に直ちに形成した。次いで、像形 成フィルムを電子ビーム記録装置の試料ホルダーに記録し、フィルムを約2X  10− ’C/cm ”の線量でx5に、v電子源に露光して格子の軸に標識付 けした。かように形成した標識付は像はオレンジ−赤色合いになり、格子の青色 と明らかに識別することができた。
上述する実施例に種々の変更を加えることは上述する記載から明らかなことであ る。例えば、実施例2,4および5において、特有の色を生ずる高い線量レベル 露光を低い線量レベル露光前に作用させることができるように、露光線量を逆に することができる。また、上述する電子ビーム線量レベルに実質的に等しい線量 レベルで使用する場合には、実施例における電子ビーム源の代りに任意の他の電 荷粒子ビーム源を用いることができる。同様に、X−線、γ−線、β−線または UV光のような任意の他のエネルギー源を、上述する電子ビーム線量レベルに実 質的に等しい線量で使用する場合に、実施例2.4および5における低レベル露 光線量の代りに用いることができる。
本発明の範囲において、識別できる色合いまたは色を生じうる異なるポリアセチ レン化合物を含む多数の個々のおよび堆積したポリアセチレン像形成層を支持す る導電性材料からなる記録フィルムを用いることができ、また上記ポリアセチレ ン像形成層を、個々の像形成層を通して変える分離および別個のビーム エネル ギーを用いて像形成することができる。伝える情報の部分を複数の識別しつる色 に表示する異なるポリアセチレン化合物を含む2つの分離堆積像形成層を有する 記録フィルムが特に望ましい。この場合、上述する範囲内の幾分低いビーム エ ネルギー、例えば10〜15に、Vは表面像形成層に対して用いることができ、 および上述する範囲内の幾分高いビーム エネルギー、例えば20〜30に、V は第2の下部像形成層に対して用いることができる。使用するビーム エネルギ ーは各下部像形成層によって増大することができる。この場合、フィルムの全露 光は最小になる。広い意味において、特有の感光性ポリアセチレン化合物を含む 多数の積層は記録フィルムの複合表面層を形成するようにすることができる。
本発明は本明細書および特許請求の範囲を逸脱しない限り、種々変更を加えるこ とができる。
補正書の翻訳文提出書(特許法第184条の7第1項)昭和62年 5月21日 特許庁長官 黒 1) 明 雄 殿 1、特許出願の表示 PCT/US86101541 、発明の名称 プロセスレス多色像形成 3、特許出願人 住 所 アメリカ合衆国ニューシャーシー州07470 ウェインフルプスロー ド1361 名 称 ジ−ニーエフ・コーポレーション代表者 ウォード・ジョシュア・ジエ イ国 籍 アメリカ合衆国 4、代 理 人 1986年10月 1日 6、添付書類の目録 (1)補正書の翻訳文 1通 4、 前記像光理性フィルムの表面層を約0.25〜約500μmの範囲の厚さ を有するゼラチンに懸濁したペンタコサ−10,12−ジイノイック アシッド 結晶の層とする請求の範囲第3項記載の方法。
5、 前記像光理性フィルムの表面層を感光性ポリアセチレン化合物の多数の単 分子、二次元規則相フィルムとする請求の範囲第1項記載の方法。
6、 ポリアセチレン化合物は少なくとも1個の疎水性基および少なくとも1個 の親水性基を含有する請求の範囲第5項記載の方法。
7、 ポリアセチレン化合物をペンタコサ−10,12−ジイノイック アシッ ドとする請求の範囲第6項記載の方法。
8、 前記像形成フィルムに複数の10〜30に、V電子ビーム露光を与え、少 なくとも1つの露光を約10−”〜約1O−5C/Cm2の範囲の線量レベルで 与え、および少なくとも1つの他の露光を約10−5〜約10−’C/cm2の 範囲の線量レベルで与えて非露光結晶から識別しつる像光理性フィルムの露光部 分の多色像を生成する請求の範囲第1項記載の方法。
9、低い線量レベル露光を高い線量レベル露光前に行う請求の範囲第8項記載の 方法。
10、高い線量レベル露光を低い線量レベル露光前に行う請求の範囲第8項記載 の方法。
国際調査報告

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.感光性ポリアセチレン化合物の表面層を有する像受理性フイルムに多数の放 射エネルギー源を特有の線量レベルで作用させ、前記特有の線量レベルでの露光 を透過すべき全像の回分部分に制限し、相当する回分部分における像の露光分離 部分を前記表面層における異なる線量レベルでの他の露光から生ずる任意の他の 露光部分の色と識別できる色に生じさせることを特徴とする多色像形成方法。
  2. 2.像受理性フイルムの表面層をポリアセチレン結晶の均一に分布し、定着位置 した懸濁物の層とする請求の範囲第1項記載の方法。
  3. 3.前記像受理性フイルムの表面層を式A−(CH2)n−C−≡C−C≡C− (CH2)m−B(式中、mおよびnは6〜14の整数を示し、およびAおよび Bは低級アルキル、カルボニル、ヒドロキシル、アミド、低級アルキル置換アミ ド、10個までの炭素原子を有する脂肪族または芳香族カルボキシレート エス テル基、一または二価カルボキシレート金属塩の基、ハロ、カルバミル、低級ア ルキル置換カルバミルまたはトシルを示す)で表わされるジアセチレン結晶の層 とする請求の範囲第2項記載の方法。
  4. 4.前記像受理性フイルムの表面層を約0.25〜約500μmの範囲の厚さを 有するゼラチンに懸濁したベンタコサ−10.12−ジイソイツクアシツド結晶 の層とする請求の範囲第3項記載の方法。
  5. 5.前記像受理性フイルムの表面層を感光性ポリアセチレン化合物の多数の単分 子、二次元規則相フイルムとする請求の範囲第1項記載の方法。
  6. 6.ポリアセチレン化合物は少なくとも1個の疎水性基および少なくとも1個の 親水性基を含有する請求の範囲第5項記載の方法。
  7. 7.ポリアセチレン化合物をペンタコサ−10,12−ジイソイツクアシツドと する請求の範囲第6項記載の方法。
  8. 8.前記像形成フイルムに複数の10〜30KeV電子ビーム露光を与え、少な くとも1つの露光を約10−10〜約10−5C/cm2の範囲の線量レベルで 与え、および少なくとも1つの他の露光を約10−5〜約10−1C/cm2の 範囲の線量レベルで与えて非露光結晶から識別しうる像受理性フイルムの露光部 分の多色像を生成する請求の範囲第1項記載の方法。
  9. 9.低い線量レベル露光を高い線量レベル露光前に行う請求の範囲第8項記載の 方法。
  10. 10.高い線量レベル露光を低い線量レベル露光前に行う請求の範囲第8項記載 の方法。
  11. 11.前記像形成フイルムに2つの10〜30KeV電子ビーム露光を与え、1 つの露光を約10−9〜約10−6C/cm2の範囲の線量レベルで与え、およ び他方の露光を約10−4〜約10−2C/cm2の範囲の線量レベルで与える 請求の範囲第8項記載の方法。
  12. 12.像受理性フイルムに低い線量レベル露光および高い線量レベル露光を与え 、低い線量レベル露光をUV光で行い、および高い線量レベル露光を電子ビーム で行う請求の範囲第1項記載の方法。
  13. 13.像受理性フイルムに低い線量レベル露光および高い線量レベル露光を与え 、低い線量レベル露光をX−線で行い、および高い線量レベル露光を電子ビーム で行う請求の範囲第1項記載の方法。
  14. 14.像受理性フイルムに低い線量レベル露光および高い線量レベル露光を与え 、低い線量レベルおよび高い線量レベルの両露光を電子ビームで行う請求の範囲 第1項記載の方法。
  15. 15.前記フイルムの前記表面レベルを耐摩耗性被覆で保護する請求の範囲第1 項記載の方法。
  16. 16.感光性ポリアセチレン化合物を含有する前記フイルムの表面層を異なる感 光性ポリアセチレン化合物を含有する他の層上に堆積し、前記表面層を堆積する 任意の層より低いビームエネルギーで露光するように感光性ポリアセチレン化合 物含有層にそれぞれ特有のビームエネルギー露光を与える請求の範囲第1項記載 の方法。
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