JPS6350342B2 - - Google Patents

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JPS6350342B2
JPS6350342B2 JP6504084A JP6504084A JPS6350342B2 JP S6350342 B2 JPS6350342 B2 JP S6350342B2 JP 6504084 A JP6504084 A JP 6504084A JP 6504084 A JP6504084 A JP 6504084A JP S6350342 B2 JPS6350342 B2 JP S6350342B2
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liquid crystal
alkyl
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Wojskowa Akad Tech
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001Cyclohexane rings
    • C09K19/3003Compounds containing at least two rings in which the different rings are directly linked (covalent bond)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
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    • C09K19/3003Compounds containing at least two rings in which the different rings are directly linked (covalent bond)
    • C09K2019/3009Cy-Ph

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  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は液晶シクロヘキシル誘導体、その製法
およびそれを含む液晶組成物に関する。 複核液晶化合物は公知であり、ネマチツク性を
示すが、中心基を有していない。このグループの
化合物において、一端にアルキル基またはアルコ
キシ基を有し他端にシアノ基を有するビフエニ
ル、シクロヘキシルベンゼンおよびビシクロヘキ
シルの誘導体を本出願人が提供している(イギリ
ス特許第1433130号、米国特許第3947375号および
西ドイツ特許第2636684号参照)。これらの化合物
は、20〜40℃の範囲で溶融温度を有し、30〜80℃
の範囲でネマチツクから等方相への転移温度を有
しており、表示装置に用いる液晶組成物の成分と
してかなりの重要性を獲得するに至つている。 第二末端にシアノ基の代わりに例えば−NO2
ハロゲンまたはアルコキシ基の如き基を有するビ
フエニル、シクロヘキシルベンゼンまたはビシク
ロヘキシルのアルキルもしくはアルコキシ誘導体
は有利な性質を示さない。即ち、液晶性質を示さ
ないか、または高いオーダーのスメクチツク相の
みを一般に有しているにすぎない。例えば、4−
ペンチル−4′−ブロモビフエニルは94.5℃で溶
け、液晶ではない。4−ペンチル−4′−ペンタノ
イルビフエニルは相転移温度C106SB110.5Iを有す
るスメクチツクBであり、他方、4,4′−ジペン
チルビフエニルはスメクチツクEとB相SE47 SB
52Iを有する。上述の化合物および他の4′−置換
ペンチルビフエニルの性質は、Mol.Cryst.Liq.
Cryst.、88、55/1982に記述されている。 イソチオシアナト基(−N=C=S)を有する
ネマチツク液晶化合物に関しては公知であるが、
文献では唯一の化合物、即ち4−ペンチル−4′−
イソチオシアナトビフエニルが記述されているに
すぎず、これは高いオーダーのスメクチツクE相
のみを示す。また、この同族列に属する他の化合
物はネマチツク性を有さないが高い粘稠なスメク
チツク相の存在を示すか、または中間状態ではな
い。 予想外にも、4−アルキル−4′−イソチオシア
ナトビフエニルのベンゼン環の1つを飽和シクロ
ヘキサン環で置き換えると、ネマチツク相を有す
る新規な液晶化合物が得られることが見出だされ
た。 本発明は、下記一般式であらわされる構造を有
する新規化合物である4−トランス−4′−n−ア
ルキルシクロヘキシル−1−イソチオシアナトベ
ンゼンに関する。 〔式中、nは1〜12の整数を示す。〕 この化合物において、フエニル基とアルキル基
はシクロヘキサン環の1位と4位にトランス位置
で存在する。この化合物は表示エレメントに使用
する液晶物質の成分として有用であり、その存在
によりネマチツク相の範囲の延長と液晶物質の粘
度の低下を引き起こす。 一般式〔〕で表わされる本発明化合物は、有
機溶媒溶液(好ましくはベンゼン)中で第三級ア
ミン(好ましくはトリエチルアミン)および二硫
化炭素の存在下に、炭素数1〜12のアルキルを有
する4−トランス−4′−n−アルキルシクロヘキ
シルアニリンを、酸クロライド(好ましくはチオ
ホスゲン)またはクロロギ酸アルキルで処理する
ことにより得られる。クロロギ酸アルキル(特に
クロロギ酸エチル)を使用する場合には、反応を
2段階で行なうことが有利である。まず第1段
で、有機溶媒溶液(好ましくはベンゼン)中で第
三級アミン(好ましくはトリエチルアミン)の存
在下に、C1〜C12アルキルを有する4−トランス
−4′−n−アルキルシクロアニリンを、二硫化炭
素で処理する。反応で得られるジチオカルバミン
酸トリアルキルアンモニウムの結晶を別する。
次の第2段で、この生成物を第三級アミンの存在
下にクロロギ酸アルキル(例、クロロギ酸エチ
ル)で処理する。この反応において、ジチオカー
バメートを式〔〕のイソチオシアナトに変換す
る。 上記方法によつて得られる最終生成物は、1工
程で得られるものより高純度である。1工程と2
工程の両方法で得られる生成物は、通常の方法に
よつて単離する。 本発明の1工程と2工程の両方法による反応式
は、以下に示す通りである。なお、Rはアルキル
基である。 本発明のイソチオシアナトは、冒頭で述べたシ
アノ基を有する類似化合物と同様に安定なネマチ
ツク相を示すが、シアノ誘導体と異なり、しばし
ば広範囲のネマチツク相を有している。これは、
本発明の化合物は低い融点を有しているからであ
る。特に有利な性質は、ヘキシル基を有する化合
物(即ち、n=6の式〔〕によつて表わされる
化合物)によつて示され、その固相は11.5〜12.5
℃の温度範囲でネマチツク相に変化する。また、
この化合物は低粘度η20゜=21mPa.sという特徴を
有する。シアノ基を有する類似化合物は、42℃で
のみネマチツク相に溶ける。 本発明によつて得られる化合物は、正の誘導異
方性△ε=+7.5を示すネマチツクである。 下記表に、本発明方法によつて得られる4−ト
ランス−4′−n−アルキルシクロヘキシル−1−
イソチオシアナトベンゼン類の代表例の相転移温
度(A欄)と、4−4′−n−アルキルフエニル−
1−イソチオシアナトベンゼン形態の類似ビフエ
ニルイソチオシアネート誘導体のそれ(B欄)と
を示す。表に示しているアルキル基は、A、B欄
の両者に関してである。
【表】
【表】 なお、C:固体、N:ネマチツク相、I:等方
相、SE:スメクチツクE相を示す。また、*:こ
の化合物の準安定固形体は36℃で溶ける。 本発明はまた、式[]の化合物を含む液晶組
成物に関する。 記述の如く、4−トランス−4′−n−アルキル
シクロヘキシル−1−イソチオシアナトベンゼン
は、液晶混合物の粘度をうまく低下させ、また例
えば類似構造のアルキルシクロヘキシルシアノベ
ンゼンを含む混合物よりも低い温度で溶ける混合
物を得ることを可能ならしめる。 本発明組成物は、少なくとも一つの成分として
式[]の4−トランス−4′−n−アルキルシク
ロヘキシル−1−イソチオシアナトベンゼンを含
む少なくとも二成分系である。 目的組成物の一成分または複数成分として式
[]の化合物を使用すると、アルキルシクロヘ
キシルシアノベンゼンを加える混合物の場合より
も低い温度でネマチツク相に溶ける液晶混合物が
得られる。この大きな能力は、4−トランス−
4′−n−アルキルシクロヘキシル−1−イソチオ
シアナトベンゼン類が4−トランス−4′−n−ア
ルキルシクロヘキシル−シアノベンゼンに比べて
低い温度でネマチツク相に溶けるからである。例
えば、4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘ
キシル−1−イソチオシアナトベンゼンは12.5℃
で、固体からネマチツク相に変化し、他方、4−
トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル−1
−シアノベンゼンは42℃でのみネマチツク相に変
化し、また同族列の最低融点化合物である4−ト
ランス−4′−n−ペンチルシクロヘキシル−1−
シアノベンゼンは30℃でネマチツク相に変化する
にすぎない。 本発明組成物は、4−トランス−4′−n−アル
キルシクロヘキシル−1−イソチオシアナトベン
ゼン化合物の単独から成つていてよく、また該化
合物と他の通常の液晶化合物との混合物から成つ
ていてもよい。 イソチオシアネート化合物の群からは、4−ト
ランス−4′−n−プロピルシクロヘキシル−1−
イソチオシアナトベンゼンおよび/または4−ト
ランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル−1−
イソチオシアナトベンゼンを、本発明組成物にお
いて使用することが特に有利である。 通常の液晶化合物に関しては、例えば4−アル
キル−4′−シアノビフエニル類、4−アルコキシ
−4′−シアノビフエニル類、4−アルキル安息香
酸のエステル類、4−アルコキシ安息香酸のエス
テル類、シクロアルカンカルボン酸のエステル
類、4−アルキルシクロヘキシルシアノベンゼン
類、シツフ塩基、アゾ化合物、2,5−ジ置換−
1,3−ジオキサン誘導体、光学活性化合物類等
が本発明組成物に含有されてよい。 本発明組成物は、表示エレメントに使用するの
に適している。 次の実施例は、式[]で表わされる新規化合
物の製造法と液晶組成物の調製法を例示している
が、本発明はこれによつて限定されるものではな
い。 実施例 1 4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシ
ル−1−イソチオシアナトベンゼンの合成 ベンゼン80cm3とヘキサン20cm3の入つたコニカル
フラスコで、4−トランス−4′−n−ヘキシルシ
クロヘキシルアニリン25.8g(0.1モル)を溶か
す。次に二硫化炭素7.5cm3(0.1モル)とトリエチ
ルアミン15cm3を加え、フラスコを0℃で45時間放
置する。ジチオカルバミン酸トリエチルアンモニ
ウムの黄色沈澱物を取し、ヘキサンで洗い、乾
燥する。得られる結晶を三つ口フラスコに移し、
クロロホルム100cm3とトリエチルアミン15.5cm3
加え、これにクロロギ酸エチル15.5cm3を撹拌下滴
下する。次に内容物を周囲温度に冷却し、3Nの
塩酸に注ぐ。クロロホルムを留去後、残留オイル
をエタノールで再結晶化する。 相転移温度C12.5N43.0Iを有する4−トランス
−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル−1−イソチ
オシアナトベンゼン15gを得る。 実施例 2 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキシ
ル−1−イソチオシアナトベンゼンの合成三つ口
フラスコで4−トランス−4′−プロピルシクロヘ
キシルアニリン21.54g(0.1モル)をクロロホル
ム100cm3に溶かし、次にトリエチルアミン15cm3
加え、そしてチオホスゲン7.55cm3(0.1モル)を
滴下導入する。内容物を10時間撹拌し、そして混
合物を3Nの塩酸に注ぐ。生成物を実施例1と同
様に単離する。 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキシ
ル−1−イソチオシアナトベンゼンの収量は17.5
gであり、相転移温度はC38.5N41.5Iである。 実施例 3 液晶組成物は、以下の組成を有する二成分共融
混合物である。 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン……42.9重量% 4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン……57.1重量% 組成物特数値: 融点 ……−3℃ 透明点 ……41℃ 粘度(20℃) ……13.5mPa.s 同じ長さのアルキル鎖を有するアルキルシクロ
ヘキシルシアノベンゼンから成る比較のための共
融混合物は、以下の組成を有している。 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキシル
−1−シアノベンゼン ……64.7重量% 4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル
−1−シアノベンゼン ……35.3重量% 融点 ……11.5℃ およびアルキルシクロヘキシルシアノベンゼン
同族列の組成物における最低融点の二成分共融混
合物は、以下の組成を有している。 4−トランス−4′−n−ペンチルシクロヘキシル
−1−シアノベンゼン ……53.4重量% 4−トランス−4′−n−ヘプチルシクロヘキシル
−1−シアノベンゼン ……46.6重量% 融点 ……7.5℃ 実施例 4 液晶組成物は以下の組成を有する二成分共融混
合物である。 4−ペンチル−4′−シアノビフエニル
……45.5重量% 4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン……54.4重量% 融点 ……−4℃ 4−ペンチル−4′−シアノビフエニルと最適と
して選ばれる4−アルキルシクロヘキシル−1−
シアノベンゼンから成る比較のための二成分共融
混合物は、以下の組成を有している。 4−ペンチル−4′−シアノビフエニル
……55.0重量% 4−トランス−4′−n−ペンチルシクロヘキシル
−1−シアノベンゼン ……45.0重量% 融点 ……−0.5℃ 実施例 5 四成分液晶組成物は、以下の組成を有してい
る。 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン……29.5重量% 4−トランス−4′−n−ペンチルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン……32.8重量% 4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン……27.5重量% 4−トランス−4′−n−オクチルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン……10.2重量% 組成物特数値: 融点 ……−18℃ 透明点 ……43℃ 誘電異方性 △ε20゜=+7.5 実施例 6 四成分液晶組成物は、以下の組成を有してい
る。 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン
……26.56重量% 4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン
……19.50重量% 4−ペンチル−4′−シアノビフエニル
……24.81重量% 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキシル
−1−シアノベンゼン ……29.13重量% 組成物特数値: 融点 ……−27℃ 透明点 ……42℃ 実施例 7 まず、以下の配合からなる混合物Aを製造す
る。 4′−シアノフエニル 4−n−ブチルベンゾエー
ト ……18.85重量% 4′−シアノフエニル 4−n−ペンチルベンゾエ
ート ……19.82重量% 4′−シアノフエニル 4−n−ヘキシルベンゾエ
ート ……20.75重量% 4′−シアノフエニル 4−n−ヘプチルベンゾエ
ート ……21.72重量% 4′−ブチル 4−n−シアノベンゾエート
……18.86重量% 次に、以下の配合から成る液晶組成物を製造す
る。 混合物A ……59.40重量% 4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン
……24.75重量% 4″−シアノフエニル 4−トランス−4′−n−ペ
ンチルシクロヘキシルベンゾエート
……14.85重量% 4′−ニトロフエニル 4−2−メチルブチルオキ
シカルボキシベンゾエート(光学活性)
……1.0重量% 組成物特数値: 融点 −22℃ 透明点 72.5℃ 誘電異方性 △ε20゜=+14.5 実施例 8 以下の配合から成る液晶組成物 実施例7の混合物A ……40.00重量% 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン
……17.14重量% 4−トランス−4′−n−ペンチルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン……9.50重量% 4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン……9.96重量% 4−トランス−4′−n−ヘプチルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン
……10.40重量% 4″−シアノフエニル 4−トランス−4′−n−プ
ロピルシクロヘキシルベンゾエート
……6.00重量% 4″−シアノフエニル 4−トランス−4′−n−ペ
ンチルシクロヘキシルベンゾエート
……6.50重量% 4−2−メチルブチルオキシ−4′−シアノビフエ
ニル(光学活性) ……0.50重量% この液晶組成物は−25℃まで凍結せず、その透
明点は62℃である。 実施例 9 まず、以下の配合からなる混合物Bを製造す
る。 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン
……45.12重量% 4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン
……26.22重量% 4−トランス−4′−n−オクチルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン
……28.66重量% 次に、以下の配合から成る、混合物Bを含有す
る液晶組成物を製造する。 混合物B ……45.00重量% 4−ペンチル−4′−シアノビフエニル
……20.70重量% 4−ヘプチル−4′−シアノビフエニル
……11.66重量% 4−ヘキシルオキシ−4′シアノビフエニル
……5.80重量% 4−オクチルオキシ−4′−シアノビフエニル
……6.40重量% 4″−シアノフエニル 4−トランス−4′−エチル
シクロヘキシルベンゾエート ……10.00重量% 4−2−メチルブチルオキシ−4′−シアノビフエ
ニル(光学活性) ……0.50重量% この液晶組成物は−25℃まで凍結せず、その透
明点は54℃である。 実施例 10 以下の配合から成る液晶組成物 実施例9の混合物B ……60.00重量% 4″−ニトロフエニル 4−トランス−4′−n−ペ
ンチルシクロヘキシルベンゾエート
……9.00重量% 4′−ニトロフエニル 4−プロピルベンゾエート
……22.00重量% 4″−ニトロフエニル 4−トランス−4′−n−ペ
ンチルシクロヘキシルベンゾエート
……8.00重量% 4′−ニトロフエニル 4−2−メチルブチルオキ
シカルボキシシベンゾエート(光学活性)
……1.0重量% この液晶組成物は+52℃で透明になり、−5℃
で凍結する。 実施例 11 以下の配合から成る液晶組成物 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン
……28.03重量% 4−エチル−4′−シアノビフエニル
……9.95重量% 4−ペンチル−4′−シアノビフエニル
……34.81重量% 4′−シアノフエニル 4−n−ブチルベンゾエー
ト ……4.22重量% 4′−シアノフエニル 4−n−ヘキシルベンゾエ
ート ……5.68重量% 4″−シアノフエニル 4−トランス−4′−n−ペ
ンチルシクロヘキシルベンゾエート
……7.83重量% 4″−メチルフエニル 4−トランス−4′−n−ペ
ンチルシクロヘキシルベンゾエート
……9.48重量% この液晶組成物は−30〜58℃の温度範囲でネマ
チツクであり、正の誘電異方性△ε20゜=+10、限
界電圧U10%=1Vおよび飽和電圧U90%=1.6Vを
有している。 実施例 12 以下の配合から成る液晶組成物 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン
……17.06重量% 4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキシル
−1−イソチオシアナトベンゼン
……27.76重量% 4−トランス−4′−n−エチルシクロヘキシル−
1−シアノベンゼン ……7.71重量% 4−トランス−4′−n−ペンチルシクロヘキシル
−1−シアノベンゼン ……17.18重量% 2−4′−シアノフエニル−5−n−ヘキシル−
1,3−ジオキサン ……6.07重量% 4−プロポキシ−4′−シアノビフエニル
……5.34重量% 4−ペンチル−4′−シアノターフエニル
……4.57重量% 2−[4′−トランス−4″−n−ペンチルシクロヘ
キシルフエニル]−5−n−ブチル−1,3−ジ
オキサン ……9.97重量% 2−[4′−トランス−4″−n−ペンチルシクロヘ
キシルフエニル]−5−n−ペンチル−1,3−
ジオキサン ……8.44重量% この組成物は−35〜70℃の温度範囲でネマチツ
クであり、正の誘導異方性△ε20゜=+6および粘
度η20゜=36mPa.sを示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中、nは1〜12の整数を示す。〕 で表わされる4−トランス−4′−n−アルキルシ
    クロヘキシル−1−イソチオシアナトベンゼン。 2 nが3〜7である特許請求の範囲第1項の4
    −トランス−4′−n−アルキルシクロヘキシル−
    1−イソチオシアナトベンゼン。 3 炭素数1〜12のアルキル置換基を有する4−
    トランス−4′−n−アルキルシクロヘキシルアニ
    リンを有機溶媒に溶かし、第三級アミンおよび/
    または二硫化炭素の存在下に酸クロライドで処理
    し、生成物を単離することを特徴とする一般式 〔式中、nは1〜12の整数を示す。〕 で表わされる4−トランス−4′−n−アルキルシ
    クロヘキシル−1−イソチオシアナトベンゼンの
    製造法。 4 酸クロライドがチオホスゲンである特許請求
    の範囲第3項の製造法。 5 酸クロライドがクロロギ酸アルキル(好まし
    くはクロロギ酸エチル)であり、アルキル基が炭
    素数1〜12である4−トランス−4′−n−アルキ
    ルシクロヘキシルアニリンを有機溶媒に溶かし、
    第三級アミンの存在下に二硫化炭素で処理し、単
    離生成物を第三級アミンの存在下にクロロギ酸ア
    ルキルで処理し、最終生成物を単離する特許請求
    の範囲第3項の製造法。 6 一般式 〔式中、nは1〜12の整数を示す。〕 で表わされる4−トランス−4′−n−アルキルシ
    クロヘキシル−1−イソチオシアナトベンゼンを
    少なくとも1種含有することを特徴とする液晶組
    成物。 7 4−トランス−4′−n−プロピルシクロヘキ
    シル−1−イソチオシアナトベンゼンおよび/ま
    たは4−トランス−4′−n−ヘキシルシクロヘキ
    シル−1−イソチオシアナトベンゼンを含有する
    特許請求の範囲第6項の液晶組成物。 8 公知液晶組成物、好ましくは4−アルキル−
    4′−シアノビフエニル類、4−アルコキシ−4′−
    シアノビフエニル類、4−アルキル安息香酸のエ
    ステル類、4−アルコキシ安息香酸のエステル
    類、4−アルキルシクロアルカンカルボン酸のエ
    ステル類、4−アルキルシクロヘキシルシアノベ
    ンゼン類、1,1′−ジ置換−4−フエニル−2,
    5−ピリミジン類、シツフ塩基、2,5−ジ置換
    −1,3−ジオキサン誘導体、光学活性化合物か
    ら選ばれる液晶化合物を含有する特許請求の範囲
    第6項の液晶組成物。
JP6504084A 1983-03-30 1984-03-30 液晶シクロヘキシルベンゼン誘導体、その製法およびそれを含む液晶組成物 Granted JPS60120858A (ja)

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