JPS635090A - ピラゾ−ル誘導体、その製造法および除草剤 - Google Patents
ピラゾ−ル誘導体、その製造法および除草剤Info
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Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、除草剤として有用な新規なピラゾール誘導体
に関する。
に関する。
従来の技術
従来、ピラゾール誘導体の中には除草活性を有する化合
物がいくつかしられている。例えば、特公昭54−36
648.特開昭58−185568、特開昭59−46
272.特開昭60−16974.特開昭60−511
75等に4−ベンゾイルピラゾール類が除草剤として有
用であることが記載されており、実用化されている化合
物もある。しかし、これら公知の化合物は実施場面で使
用薬量を多く必要とし、また有効な雑草の種類が充分多
いとはいえない。また、イネに対する安全性が充分でな
い化合物もある。
物がいくつかしられている。例えば、特公昭54−36
648.特開昭58−185568、特開昭59−46
272.特開昭60−16974.特開昭60−511
75等に4−ベンゾイルピラゾール類が除草剤として有
用であることが記載されており、実用化されている化合
物もある。しかし、これら公知の化合物は実施場面で使
用薬量を多く必要とし、また有効な雑草の種類が充分多
いとはいえない。また、イネに対する安全性が充分でな
い化合物もある。
発明が解決しようとする問題点
近年、省エネルギー的な立場、あるいは人畜その他の生
物に対する安全性、土壌への残留などの諸問題のため、
低薬量で除草活性が高く、殺草スペクトルが広く、かつ
選択性の高い除草剤の出現が望まれている。
物に対する安全性、土壌への残留などの諸問題のため、
低薬量で除草活性が高く、殺草スペクトルが広く、かつ
選択性の高い除草剤の出現が望まれている。
問題点を解決するための手段
本発明者らは、これらの観点から、鋭意研究を続けた結
果、−般式 で表わされる化合物と一般式 で表わされる化合物(式中、R1およびR1は同一また
は相異なって水素原子、低級アルキル基またはアラルキ
ル基を、R1は低級アルキル基を、R4は水素原子また
は低級アルキル基を、R1はハロゲン原子、ニトロ基ま
たは低級アルキル基を、nは1ないし3を、XおよびY
は同一または相異なりて酸素原子または硫黄原子を、Z
lとZ、は−緒になって離脱し得る基を示す)とを反応
させと、−般式 (式中の記号は前記と同意義を示す。)で表わされるピ
ラゾール誘導体が得られること、さらに得られたピラゾ
ール誘導体[I11]が、公知ピラゾール誘導体に比し
、より高い除草活性と、より幅広い殺草スペクトルを有
し、かつ選択性にもすぐれていることを知見し、これら
に基づいて本発明を完成した。
果、−般式 で表わされる化合物と一般式 で表わされる化合物(式中、R1およびR1は同一また
は相異なって水素原子、低級アルキル基またはアラルキ
ル基を、R1は低級アルキル基を、R4は水素原子また
は低級アルキル基を、R1はハロゲン原子、ニトロ基ま
たは低級アルキル基を、nは1ないし3を、XおよびY
は同一または相異なりて酸素原子または硫黄原子を、Z
lとZ、は−緒になって離脱し得る基を示す)とを反応
させと、−般式 (式中の記号は前記と同意義を示す。)で表わされるピ
ラゾール誘導体が得られること、さらに得られたピラゾ
ール誘導体[I11]が、公知ピラゾール誘導体に比し
、より高い除草活性と、より幅広い殺草スペクトルを有
し、かつ選択性にもすぐれていることを知見し、これら
に基づいて本発明を完成した。
すなわち、本発明は、高活性、高選択性でかつ広い殺草
スペクトル番有するピラゾール誘導体[I11]を提供
するもので、 (1) ピラゾール誘導体[II[]、(2)化合物[
1]と化合物[11]とを反応させることを特徴とする
ピラゾール誘導体[I[[]の製造法、 (3) ピラゾール誘導体[I11]を含有する除草剤
、に関する。
スペクトル番有するピラゾール誘導体[I11]を提供
するもので、 (1) ピラゾール誘導体[II[]、(2)化合物[
1]と化合物[11]とを反応させることを特徴とする
ピラゾール誘導体[I[[]の製造法、 (3) ピラゾール誘導体[I11]を含有する除草剤
、に関する。
上記式中、R1およびR1は、同一または相異なって水
素原子、低級アルキル基またはアラルキル基を示す。R
1は、低級アルキル基を示す。R4は、水素原子または
低級アルキル基を示す。R5は、ハロゲン原子、ニトロ
基または低級アルキル基を示す。ここにおいて、R1、
R2、R5、R4およびR2で示される低級アルキル基
は、例えばメチル。
素原子、低級アルキル基またはアラルキル基を示す。R
1は、低級アルキル基を示す。R4は、水素原子または
低級アルキル基を示す。R5は、ハロゲン原子、ニトロ
基または低級アルキル基を示す。ここにおいて、R1、
R2、R5、R4およびR2で示される低級アルキル基
は、例えばメチル。
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル。
5ee−ペンチルなどの炭素数1〜5の分枝していても
よいアルキル基が用いられる。また、R1で示されるア
ラルキル基は、例えばベンジル、フェネチル、トルベン
ジルなどの炭素数7〜9のアラルキル基が用いられる。
よいアルキル基が用いられる。また、R1で示されるア
ラルキル基は、例えばベンジル、フェネチル、トルベン
ジルなどの炭素数7〜9のアラルキル基が用いられる。
さらに、R6で示されるハロゲン原子としては、例えば
塩素、フッ素、臭素などが用いられる。
塩素、フッ素、臭素などが用いられる。
これらの中において、R,とじては水素原子または低級
アルキル基(特にメチル基)が繁用され、R7としては
低級アルキル基(特にメチル基などの炭素数1〜4の低
級アルキル基)またはベンジル基が繁用され、R1とし
てはメチル基が繁用され、R4としては水素原子が繁用
され、R6としてはハロゲン(特に塩素)またはニトロ
基が繁用される。
アルキル基(特にメチル基)が繁用され、R7としては
低級アルキル基(特にメチル基などの炭素数1〜4の低
級アルキル基)またはベンジル基が繁用され、R1とし
てはメチル基が繁用され、R4としては水素原子が繁用
され、R6としてはハロゲン(特に塩素)またはニトロ
基が繁用される。
なお、 R,、!:ntが相異なる場合には、R1とR
1が置換する炭素が不斉炭素になり異性体が生じるが、
これらの異性体はいずれら本発明の範囲に入る。
1が置換する炭素が不斉炭素になり異性体が生じるが、
これらの異性体はいずれら本発明の範囲に入る。
また、上記式中、nは、!ないし3を水上、nの好まし
い例としては2が用いられる。nが2以上の場合、R2
は同一または相異なっていてもよい。
い例としては2が用いられる。nが2以上の場合、R2
は同一または相異なっていてもよい。
XおよびYは、同一または相異なって酸素原子または硫
黄原子を示す。特に、Xが硫黄原子を、Yが酸素原子を
示す場合が好ましい。そして、ZlとZ2は、−緒にな
って離脱し得る基を示し、具体例としてはZlは、例え
ば塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子:メタンスル
ホニル才キシ、エタンスルホニルオキシ、プロパンスル
ホニルオキシ。
黄原子を示す。特に、Xが硫黄原子を、Yが酸素原子を
示す場合が好ましい。そして、ZlとZ2は、−緒にな
って離脱し得る基を示し、具体例としてはZlは、例え
ば塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子:メタンスル
ホニル才キシ、エタンスルホニルオキシ、プロパンスル
ホニルオキシ。
トリフルオロメタンスルホニルオキシなどのハロゲンで
置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基;ま
たは例えばベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンス
ルボニルオキシ、p−ブロモベンゼンスルホニルオキン
、p−クロルベンゼンスルホニルオキシ、メシチレンス
ルホニルオキシなどのハロゲンで置換されていてもよい
アリールスルホニルオキシ基を、Z、は水素原子、アル
カリ金属(Na、になど)、アルカリ土類金属(Caな
ど)などを示す。とりわけ、Zlがハロゲン原子を示し
、Z、が水素原子を示す場合が繁用される。
置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基;ま
たは例えばベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンス
ルボニルオキシ、p−ブロモベンゼンスルホニルオキン
、p−クロルベンゼンスルホニルオキシ、メシチレンス
ルホニルオキシなどのハロゲンで置換されていてもよい
アリールスルホニルオキシ基を、Z、は水素原子、アル
カリ金属(Na、になど)、アルカリ土類金属(Caな
ど)などを示す。とりわけ、Zlがハロゲン原子を示し
、Z、が水素原子を示す場合が繁用される。
目的物ピラゾール誘導体[1111の好ましい例として
は、−般式 [式中、R,、R,、XおよびYは面記と同意義を、R
6はハロゲン原子またはニトロ基を示す]で表わされる
ピラゾール誘導体などが用いられる。式%式% 前記と同意義を示す。また、R8は、ハロゲン原子また
はニトロ基を示す。R6で示されるハロゲン原子として
は、上記R6で述べたごときハロゲン原子が用いられる
。R6の好ましい例としては、塩素またはニトロ基が用
いられる。
は、−般式 [式中、R,、R,、XおよびYは面記と同意義を、R
6はハロゲン原子またはニトロ基を示す]で表わされる
ピラゾール誘導体などが用いられる。式%式% 前記と同意義を示す。また、R8は、ハロゲン原子また
はニトロ基を示す。R6で示されるハロゲン原子として
は、上記R6で述べたごときハロゲン原子が用いられる
。R6の好ましい例としては、塩素またはニトロ基が用
いられる。
目的物[I11]の製造は、化合物[I]と化合物[1
1]を反応させることによって実施される。
1]を反応させることによって実施される。
この反応は、通常溶媒中で行われ、このような溶媒とし
て、例えばベンゼン、トルエン、キンレン。
て、例えばベンゼン、トルエン、キンレン。
ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素類、イソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン。エチ
レングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ク
ロロホルム、四塩化炭素、1.1.2゜2−テトラクロ
ルエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
などのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド類、アセトニトリルなどの二l・リル類、酢酸エチ
ルなどのエステル類、水などが用いられる。これらの溶
媒は単独で用いることができるし、また必要に応じて二
種またはそれ以上の多種類を適当な割合例えば1.1〜
!Oの割合で混合してもよい。混合溶媒等が用いられ、
混合溶媒が均一相でない場合には相間移動触媒(例えば
塩化テトラ−n−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルト
リエチルアンモニウムなど)の存在下に反応を行なって
よい。好ましい溶媒としては、たとえばジメチルホルム
アミドなどのアミド類が繁用される。
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン。エチ
レングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ク
ロロホルム、四塩化炭素、1.1.2゜2−テトラクロ
ルエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
などのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド類、アセトニトリルなどの二l・リル類、酢酸エチ
ルなどのエステル類、水などが用いられる。これらの溶
媒は単独で用いることができるし、また必要に応じて二
種またはそれ以上の多種類を適当な割合例えば1.1〜
!Oの割合で混合してもよい。混合溶媒等が用いられ、
混合溶媒が均一相でない場合には相間移動触媒(例えば
塩化テトラ−n−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルト
リエチルアンモニウムなど)の存在下に反応を行なって
よい。好ましい溶媒としては、たとえばジメチルホルム
アミドなどのアミド類が繁用される。
この反応は、原料[[[]のZ、がHの場合には脱酸剤
の存在下に行うのが有利である。脱酸剤としては、例え
ば炭酸水素アルカリ金属(例えば炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウムなど)、炭酸アルカリ金属(例えば炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなど)、水酸化アルカリ金
属(例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなど)、
第三級アミン(例えばトリメデルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、N−メチルモルホリン、N−
メチルピペリジン、N、N−ジメチルアニリンなど)、
環状アミン(例えばピリジン、ピコリン、ルチジンなど
)、l、8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウン
デセン。
の存在下に行うのが有利である。脱酸剤としては、例え
ば炭酸水素アルカリ金属(例えば炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウムなど)、炭酸アルカリ金属(例えば炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなど)、水酸化アルカリ金
属(例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなど)、
第三級アミン(例えばトリメデルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、N−メチルモルホリン、N−
メチルピペリジン、N、N−ジメチルアニリンなど)、
環状アミン(例えばピリジン、ピコリン、ルチジンなど
)、l、8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウン
デセン。
1.5−ジアザビンクロ[4,3、O]−5−ノネン等
の無機および有機塩基を用いることができる。
の無機および有機塩基を用いることができる。
上記有機塩基はそれ自体溶媒として用いることらできる
。
。
原料化合物[1]に対して化合物[11は、通常1:1
のモル比で用いられるが、場合によっては一方の原料を
過剰に(たとえばl:3〜3:l)用いることもできる
。
のモル比で用いられるが、場合によっては一方の原料を
過剰に(たとえばl:3〜3:l)用いることもできる
。
反応は通常、−10℃ないし150℃、好ましくは20
〜100℃の温度で行なうことができる。
〜100℃の温度で行なうことができる。
反応時間は反応温度との関係において適宜設定されるが
、数分から数十時間、好ましくは1〜24時間の範囲で
ある。
、数分から数十時間、好ましくは1〜24時間の範囲で
ある。
このようにして得られるピラゾール誘導体[III]は
、公知の手段例えば常圧または減圧a縮、蒸留。
、公知の手段例えば常圧または減圧a縮、蒸留。
分留、溶媒抽出、液性変換、転溶、クロマトグラフィー
、拮品化、再結晶等により単離精製することが出来る。
、拮品化、再結晶等により単離精製することが出来る。
本発明方法の原料物質として使用される化合物[l]は
文献未載の化合物てあり、例えば下記の製造方法または
それに準じた方法などによって製造されうる。
文献未載の化合物てあり、例えば下記の製造方法または
それに準じた方法などによって製造されうる。
すなわち、−般式
(式中、l、、It2.X、Yは前記と同色義)で表わ
される化合物に、ホルムアルデヒドまたは1,3.5−
トリオキサンを反応さけて一般式 (式中、R,,1”(2,X、Yは前記と同色義)で表
わされるN−ヒドロキシメチル化合物を得た後、これを
ハロゲン化剤またはスルホニル化剤と反応させることに
より化合物[1]を得ることが出来る。
される化合物に、ホルムアルデヒドまたは1,3.5−
トリオキサンを反応さけて一般式 (式中、R,,1”(2,X、Yは前記と同色義)で表
わされるN−ヒドロキシメチル化合物を得た後、これを
ハロゲン化剤またはスルホニル化剤と反応させることに
より化合物[1]を得ることが出来る。
−般式[IV]で表わされる化合物とホルムアルデヒド
または1.3.5−トリオキサンとの反応において、反
応は溶媒なしで行なうこともできるが、例えばベンゼン
、トルエン、キシレン、ヘキザン、リグロインなどの炭
化水素類、メタノール、エタノール、プロパツール、イ
ソプロパツールなどのアルコール類、エチルエーテル、
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテ
ル類、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレンなどの
ハロゲン化炭化水素類、ジメチルポルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、N−メチルピペリジンなどのアミド類
、ジメチルスルホキシド、スルホランなどのスルホキシ
ド類、アセトニトリルなどのニトリル類、水などの溶媒
中で行なってよい。これらの溶媒は、単独で用いること
も出来るし、また必要に応じて2種またはそれ以上の多
種類を適当な割合に混合して用いることら出来る。この
反応を行なう場合において、触媒として酸を用いること
により、反応を促進することが出来る。使用する酸とし
ては、たとえば塩酸、@、酸、硝酸などの鉱酸類。
または1.3.5−トリオキサンとの反応において、反
応は溶媒なしで行なうこともできるが、例えばベンゼン
、トルエン、キシレン、ヘキザン、リグロインなどの炭
化水素類、メタノール、エタノール、プロパツール、イ
ソプロパツールなどのアルコール類、エチルエーテル、
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテ
ル類、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレンなどの
ハロゲン化炭化水素類、ジメチルポルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、N−メチルピペリジンなどのアミド類
、ジメチルスルホキシド、スルホランなどのスルホキシ
ド類、アセトニトリルなどのニトリル類、水などの溶媒
中で行なってよい。これらの溶媒は、単独で用いること
も出来るし、また必要に応じて2種またはそれ以上の多
種類を適当な割合に混合して用いることら出来る。この
反応を行なう場合において、触媒として酸を用いること
により、反応を促進することが出来る。使用する酸とし
ては、たとえば塩酸、@、酸、硝酸などの鉱酸類。
酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、パラトルエン
スルホン酸などの有機酸が用いられる。
スルホン酸などの有機酸が用いられる。
原料化合物[IY]とホルムアルデヒドまたはl、3゜
5−トリオキサンとはtitのモル比で用いるか、−方
の原料を過剰に用いてもよいか、通常はホルムアルデヒ
ドまたは1,3,5−)ジオキサンを過剰に用いるのが
有利である。この反応では、使用する化合物[IV]の
種類や酸触媒の有無及びその種類、溶媒等により適当な
反応温度が選ばれるが、通常−10℃ないし100℃で
行なうことが出来ろ。つぎに、得られたN−ヒドロキシ
メチル化合物[V、]とハロゲン化剤またはスルホニル
化剤とを反応させることにより化合物[I]を得る。反
応させるハロゲン化剤としては、通常のアルコール類の
ハロゲン化に用いられる試薬であればいずれでもよく、
例えば塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン、五塩化
リン、五臭化リン、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、
トリフェニルポスフィンノプロミド、トリフェニルホス
フィンジアイオダイドなどが用いられる。また、スルホ
ニル化剤としては、例えばメタンスルホニルクロリド、
エタンスルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリ
ド、パラトルエンスルホニルクロリド、パラクロルベン
ゼンスルホニルクロリド、パラブロモベンゼンスルホニ
ルクロリドなどが用いられる。この反応は、−般に例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン、リグロイン、ヘキサ
ンなどの炭化水素類、エーテル、イソプロピルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、メチルセルソルブなどのエーテル
類、クロロホルム。
5−トリオキサンとはtitのモル比で用いるか、−方
の原料を過剰に用いてもよいか、通常はホルムアルデヒ
ドまたは1,3,5−)ジオキサンを過剰に用いるのが
有利である。この反応では、使用する化合物[IV]の
種類や酸触媒の有無及びその種類、溶媒等により適当な
反応温度が選ばれるが、通常−10℃ないし100℃で
行なうことが出来ろ。つぎに、得られたN−ヒドロキシ
メチル化合物[V、]とハロゲン化剤またはスルホニル
化剤とを反応させることにより化合物[I]を得る。反
応させるハロゲン化剤としては、通常のアルコール類の
ハロゲン化に用いられる試薬であればいずれでもよく、
例えば塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン、五塩化
リン、五臭化リン、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、
トリフェニルポスフィンノプロミド、トリフェニルホス
フィンジアイオダイドなどが用いられる。また、スルホ
ニル化剤としては、例えばメタンスルホニルクロリド、
エタンスルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリ
ド、パラトルエンスルホニルクロリド、パラクロルベン
ゼンスルホニルクロリド、パラブロモベンゼンスルホニ
ルクロリドなどが用いられる。この反応は、−般に例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン、リグロイン、ヘキサ
ンなどの炭化水素類、エーテル、イソプロピルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、メチルセルソルブなどのエーテル
類、クロロホルム。
四塩化炭素、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類
、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスル
ホキシドなどのスルホキシド類、アセトニトリルなどの
ニトリル類、酢酸エチルなどのエステル類などの溶媒中
で行なってよい。これらの溶媒は単独で用いることらで
きるし、また必要に応じて二種またはそれ以上の多種類
を適当な割合例えば1:1−1:10割合で混合しても
よい。
、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスル
ホキシドなどのスルホキシド類、アセトニトリルなどの
ニトリル類、酢酸エチルなどのエステル類などの溶媒中
で行なってよい。これらの溶媒は単独で用いることらで
きるし、また必要に応じて二種またはそれ以上の多種類
を適当な割合例えば1:1−1:10割合で混合しても
よい。
混合溶媒等が用いられ、混合溶媒が均一相でない場合に
は相間移動触媒(たとえば塩化テトラ−n−ブヂルアン
モニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムなど)
の存在下に反応を行なってもよい。この反応は脱酸剤の
存在下に行われてよい。
は相間移動触媒(たとえば塩化テトラ−n−ブヂルアン
モニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムなど)
の存在下に反応を行なってもよい。この反応は脱酸剤の
存在下に行われてよい。
脱酸剤としては、例えば炭酸水素アルカリ金属(例えば
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなど)、炭酸ア
ルカリ金属(例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど
)、水酸化アルカリ金属(例えば水酸化カリウム、水酸
化ナトリウムなど)、第3級アミン(例えばトリメチル
アミン、トリエチルアミン。
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなど)、炭酸ア
ルカリ金属(例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど
)、水酸化アルカリ金属(例えば水酸化カリウム、水酸
化ナトリウムなど)、第3級アミン(例えばトリメチル
アミン、トリエチルアミン。
トリブチルアミン、N−メチルモルホリン、N−メチル
ピペリジン、N 、 N−ジメチルアニリンなど)。
ピペリジン、N 、 N−ジメチルアニリンなど)。
環状アミン(例えばピリジン、ピコリン、ルヂジンなど
)等の無機および有機塩基を用いることができる。上記
有機塩基はそれ自体溶媒として用いることもできる。こ
の反応では、原料化合物[V]に対してハロゲン化剤ま
たはスルホニル化剤は、通常i二1〜I:1.5のモル
比で用いられるが、場合によっては一方の原料を過剰に
(たとえば1:5〜5−1)用いることらできる。反応
は、通常−30℃ないし120°C1好ましくは0〜5
0°Cの温度で行うことができる。反応時間は、反応温
度との関係において適宜設定できるが、数分から数十時
間、好ましくは0.5〜10時間の範囲である。かくし
て得られる化合物[1]は、反応混合物のまま本発明方
法の原料として供してもよいが、公知手段たとえば上記
[■〕で述べたごとき方法により単離、精製後に用いて
もよい。
)等の無機および有機塩基を用いることができる。上記
有機塩基はそれ自体溶媒として用いることもできる。こ
の反応では、原料化合物[V]に対してハロゲン化剤ま
たはスルホニル化剤は、通常i二1〜I:1.5のモル
比で用いられるが、場合によっては一方の原料を過剰に
(たとえば1:5〜5−1)用いることらできる。反応
は、通常−30℃ないし120°C1好ましくは0〜5
0°Cの温度で行うことができる。反応時間は、反応温
度との関係において適宜設定できるが、数分から数十時
間、好ましくは0.5〜10時間の範囲である。かくし
て得られる化合物[1]は、反応混合物のまま本発明方
法の原料として供してもよいが、公知手段たとえば上記
[■〕で述べたごとき方法により単離、精製後に用いて
もよい。
また、本発明方法の一方の原料として用いられる化合物
[11]は、 たとえば特開昭60−51175および
特公昭54−366118などに、記載の方法あるいは
それに亭じた方法などによって製造することができる。
[11]は、 たとえば特開昭60−51175および
特公昭54−366118などに、記載の方法あるいは
それに亭じた方法などによって製造することができる。
本発明の化合物[111]を除草剤として用いる場合に
は、化合物[nl]の1種または2種以上を使用目的に
よって適当な液体担体(たとえば溶剤)に溶解するかあ
るいはこれに分散させ、また適当な固体担体(たとえば
希釈剤・増量剤)と混合するかあるいはこれに吸着させ
、所要の場合はさらにこれに乳化剤、懸濁剤、展着剤、
浸透剤1分散剤、湿潤剤、粘漿剤、安定剤などを添加し
、油剤、乳剤、水和剤、粉剤9粒剤1錠剤、噴霧剤、軟
膏などの剤型として使用する。これらの製剤は、自体公
知の方法で調製することができる。
は、化合物[nl]の1種または2種以上を使用目的に
よって適当な液体担体(たとえば溶剤)に溶解するかあ
るいはこれに分散させ、また適当な固体担体(たとえば
希釈剤・増量剤)と混合するかあるいはこれに吸着させ
、所要の場合はさらにこれに乳化剤、懸濁剤、展着剤、
浸透剤1分散剤、湿潤剤、粘漿剤、安定剤などを添加し
、油剤、乳剤、水和剤、粉剤9粒剤1錠剤、噴霧剤、軟
膏などの剤型として使用する。これらの製剤は、自体公
知の方法で調製することができる。
除草剤中の有効成分[II[]の含有割合は使用目的に
よっても異なるが、乳剤、水和剤などとしてlO〜90
重量%程度が適当であり、油剤、粉剤などとしてはo、
t−to重量%程度が適当であり、粒剤としては1〜2
0重量%程度が適当であるが、使用目的によってこれら
の濃度を適宜変更してもよい。なお、乳剤、水和剤など
は使用に際して水などで適宜希釈増量(たとえば10〜
toooo倍)して散布するのがよい。
よっても異なるが、乳剤、水和剤などとしてlO〜90
重量%程度が適当であり、油剤、粉剤などとしてはo、
t−to重量%程度が適当であり、粒剤としては1〜2
0重量%程度が適当であるが、使用目的によってこれら
の濃度を適宜変更してもよい。なお、乳剤、水和剤など
は使用に際して水などで適宜希釈増量(たとえば10〜
toooo倍)して散布するのがよい。
除草剤に使用する液体担体(溶剤)としては、たとえば
水、アルコール類(たとえばメチルアルコール、エチル
アルコール、エチレングライコールなど)、ケトン類(
たとえばアセトン、メチルエチルケトンなど)、エーテ
ル類(たとえば)オキサン。
水、アルコール類(たとえばメチルアルコール、エチル
アルコール、エチレングライコールなど)、ケトン類(
たとえばアセトン、メチルエチルケトンなど)、エーテ
ル類(たとえば)オキサン。
テトラハイドロフラン、セルソルブなど)、脂肪族炭化
水素類(たとえばガソリン、ケロセン、灯油、燃料油0
機減油など)、芳香族炭化水素類(たとえばベンゼン、
トルエン、キシレン、ソルベントナフサ。
水素類(たとえばガソリン、ケロセン、灯油、燃料油0
機減油など)、芳香族炭化水素類(たとえばベンゼン、
トルエン、キシレン、ソルベントナフサ。
メチルナフタレンなど)やその他ハロゲン化炭化水素類
(たとえばクロロホルム、四塩化炭素など)、酸アミド
類(たとえばジメチルホルムアミドなど)、エステル類
(たとえば酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル、
脂肪酸グリセリンエステルなど)、ニトリル類(たとえ
ばアセトニトリルなど)などの溶媒が適当であり、これ
らの1種または2種以上の混合物を使用する。固体担体
(希釈、増量剤)としては、植物性粉末(たとえば大豆
粉、タバコ粉。
(たとえばクロロホルム、四塩化炭素など)、酸アミド
類(たとえばジメチルホルムアミドなど)、エステル類
(たとえば酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル、
脂肪酸グリセリンエステルなど)、ニトリル類(たとえ
ばアセトニトリルなど)などの溶媒が適当であり、これ
らの1種または2種以上の混合物を使用する。固体担体
(希釈、増量剤)としては、植物性粉末(たとえば大豆
粉、タバコ粉。
小麦粉、木粉など)、鉱物性粉末(たとえばカオリン、
ベントナイト、酸性白土などのクレイ類、滑石粉、ロウ
石粉などのタルク類、珪藻土、雲母粉などのシリカ類な
ど)さらにアルミナ、硫黄粉末、活性炭なども用いられ
、これらの1種または2種以上の混合物を使用する。こ
れらの液体担体または固体担体は、製剤中5〜99.9
重量%好ましくは10〜80重量%になるように用いる
。
ベントナイト、酸性白土などのクレイ類、滑石粉、ロウ
石粉などのタルク類、珪藻土、雲母粉などのシリカ類な
ど)さらにアルミナ、硫黄粉末、活性炭なども用いられ
、これらの1種または2種以上の混合物を使用する。こ
れらの液体担体または固体担体は、製剤中5〜99.9
重量%好ましくは10〜80重量%になるように用いる
。
また、軟膏基剤としては、たとえばポリエチレングライ
コール、ペクチン、たとえばモノステアリン酸グリセリ
ンエステル等の高級脂肪酸の多価アルコールエステル、
たとえばメチルセルローズ等のセルローズ誘導体、アル
ギン酸ナトリウム。
コール、ペクチン、たとえばモノステアリン酸グリセリ
ンエステル等の高級脂肪酸の多価アルコールエステル、
たとえばメチルセルローズ等のセルローズ誘導体、アル
ギン酸ナトリウム。
ベントナイト、高級アルコール、たとえばグリセリン等
の多価アルコール、ワセリン、白色ワセリン。
の多価アルコール、ワセリン、白色ワセリン。
流動パラフィン、豚脂、各種植物油、ラノリン、脱水ラ
ノリン、硬化油、蝋類、樹脂類等の1種または2種以上
あるいはこれらに各種界面活性剤、その他を添加したも
の等を適宜選択することができる。
ノリン、硬化油、蝋類、樹脂類等の1種または2種以上
あるいはこれらに各種界面活性剤、その他を添加したも
の等を適宜選択することができる。
また、乳化剤、展着剤、浸透剤1分散剤などとして使用
される界面活性剤としては、必要に応じて石けん類、ポ
リオキシエチレンアルキルアリールエーテル類(例、ノ
ナール0.東邦化学KK製)。
される界面活性剤としては、必要に応じて石けん類、ポ
リオキシエチレンアルキルアリールエーテル類(例、ノ
ナール0.東邦化学KK製)。
アルキル硫酸塩類(例、エマールI P 、エマ−/l
/40’、花王7 ) 5XKKtJ)、7/P、L=
、tzL=$ン酸塩類(例、ネオゲン 、ネオゲンT
、第1工業製薬KK製;ネオペレックス 、花王アトラ
スKK1iJ)、ポリエチレングリコールエーテル類(
fll、/ :ホー/u8 P、/ =ホー71z l
000./ :ボール160o三洋化成KK製)、多
価アルコールエステル類(例、トウィーン200.)ウ
イー780■、花王7)5XKK製)4□カ、適宜用5
、。
/40’、花王7 ) 5XKKtJ)、7/P、L=
、tzL=$ン酸塩類(例、ネオゲン 、ネオゲンT
、第1工業製薬KK製;ネオペレックス 、花王アトラ
スKK1iJ)、ポリエチレングリコールエーテル類(
fll、/ :ホー/u8 P、/ =ホー71z l
000./ :ボール160o三洋化成KK製)、多
価アルコールエステル類(例、トウィーン200.)ウ
イー780■、花王7)5XKK製)4□カ、適宜用5
、。
れる。
化合物[II[]を除草剤として用いる場合、その使用
量は、畑地lアール当り約1〜100g、より好ましく
は約2〜40g、水田1アール当り、約1−100g、
より好ましくは、約2〜40gである。
量は、畑地lアール当り約1〜100g、より好ましく
は約2〜40g、水田1アール当り、約1−100g、
より好ましくは、約2〜40gである。
また、化合物[I[[]を含有する除草剤は、他種の除
草剤、植物成長調製剤、殺菌剤(たとえば汀機塩素系殺
菌剤、有機イオウ系殺菌剤、抗生物質など)。
草剤、植物成長調製剤、殺菌剤(たとえば汀機塩素系殺
菌剤、有機イオウ系殺菌剤、抗生物質など)。
殺虫剤(有機リン系殺虫剤、天然殺虫剤など)その他殺
ダニ剤、殺線虫剤、共力剤、誘引剤、忌避剤。
ダニ剤、殺線虫剤、共力剤、誘引剤、忌避剤。
色素、肥料などと配合し、混合使用することもできる。
作用
本発明のピラゾール誘導体[I[[]は、幅広い殺草ス
ペクトルと優れた除草活性を有し、かつ優れた選択性を
有しているので、ピラゾール誘導体[II[]を含有す
る製剤は、優れた除草作用のかつ安全な除草剤として用
いることができる。かくして本発明の除草剤は、たとえ
ばヒエ類、コナギ、キカシグサ、アゼナ、アブツメ、カ
ヤツリグサ、タマガヤツリ等の水田1手生雑草、ウリカ
ワ、マツバイ、クログワイ、ホタルイ、ミズガヤツリな
どの多年生雑草を防除するために使用できる。
ペクトルと優れた除草活性を有し、かつ優れた選択性を
有しているので、ピラゾール誘導体[II[]を含有す
る製剤は、優れた除草作用のかつ安全な除草剤として用
いることができる。かくして本発明の除草剤は、たとえ
ばヒエ類、コナギ、キカシグサ、アゼナ、アブツメ、カ
ヤツリグサ、タマガヤツリ等の水田1手生雑草、ウリカ
ワ、マツバイ、クログワイ、ホタルイ、ミズガヤツリな
どの多年生雑草を防除するために使用できる。
従って、本発明の除草剤は、薬害がきわめて少なく安全
でかつすぐれた除草作用、効果を奏するので、当業界に
おける有用性もきわめて大きい。
でかつすぐれた除草作用、効果を奏するので、当業界に
おける有用性もきわめて大きい。
試験例
1/10,0OOaポツトに水田土壌を約1,2kgつ
め、入水1代かき後、ポットの土壌表面にクマガヤツリ
、キカシグサの種子をまき、湛水3cmとし約5日後に
水稲稚苗(品種二日本晴、3葉期)2株を移植する。別
のポットにはマツバイ、ウリカワ、ミズガヤツリの塊茎
の植付を行ない、湛水3Cmとする。水稲移植7日後に
各ポットに、下記実施例1で得られる化合物No、1〜
7及び対照化合物(a) 、 (b)を実施例2と同様
にして乳剤とし、その所定ffi(Igまたは2g)を
水で希釈して4i2とし、この20dを注加する。3週
間後にそれぞれの化合物の薬害および除草効果を下記の
基準に従って評価し、結果を第1表に示した。
め、入水1代かき後、ポットの土壌表面にクマガヤツリ
、キカシグサの種子をまき、湛水3cmとし約5日後に
水稲稚苗(品種二日本晴、3葉期)2株を移植する。別
のポットにはマツバイ、ウリカワ、ミズガヤツリの塊茎
の植付を行ない、湛水3Cmとする。水稲移植7日後に
各ポットに、下記実施例1で得られる化合物No、1〜
7及び対照化合物(a) 、 (b)を実施例2と同様
にして乳剤とし、その所定ffi(Igまたは2g)を
水で希釈して4i2とし、この20dを注加する。3週
間後にそれぞれの化合物の薬害および除草効果を下記の
基準に従って評価し、結果を第1表に示した。
(以下余白)
(1) 除草効果は次の指数で表示する。
指数 効果 抑制率(殺草率)(%)0
無 Ol 微
0.1〜502 小 50,1
〜753 中 75.1〜87.5
4 大 87.6〜99.95
極大 100 (2)作物に対する薬害は次の指数で表示する。
無 Ol 微
0.1〜502 小 50,1
〜753 中 75.1〜87.5
4 大 87.6〜99.95
極大 100 (2)作物に対する薬害は次の指数で表示する。
指数 薬害 被害率 (%)
0 無 Ol 微
Ol〜12.52 小
12.6〜253 中 25.
.1〜504 大 50.1〜9
995 極大 100 (但し、作物に対する指数0およびlは作物に対して実
用的であることを意味する。)(3)対照化合物 I と11゜ 第1表 この第1表は、本発明のピラゾール誘導体[I[1]化
合物No、 1〜7)を含有する除草剤が、従来のピラ
ゾール誘導体(化合物a、b)を含有する除草剤に比べ
、より優れた除草作用を有し、かつイネに対して薬害が
なく安全な除草剤であることを示している。
Ol〜12.52 小
12.6〜253 中 25.
.1〜504 大 50.1〜9
995 極大 100 (但し、作物に対する指数0およびlは作物に対して実
用的であることを意味する。)(3)対照化合物 I と11゜ 第1表 この第1表は、本発明のピラゾール誘導体[I[1]化
合物No、 1〜7)を含有する除草剤が、従来のピラ
ゾール誘導体(化合物a、b)を含有する除草剤に比べ
、より優れた除草作用を有し、かつイネに対して薬害が
なく安全な除草剤であることを示している。
実施例
以下に参考例、実施例をあげて本発明をさらに詳しく説
明する。
明する。
なお、参考例、実施例で用いる記号は次のような意義を
有する。
有する。
S、シングレット;d、ダブレット:q、カルチット;
m、マルチブレット、 ph、フェニル;%1重量%;
mp、、 融点; bp、、 ?JF、点。
m、マルチブレット、 ph、フェニル;%1重量%;
mp、、 融点; bp、、 ?JF、点。
参考例1
3−クロロメチル−5,5−ジメチルチアゾリジン−2
,4−ジオンの製造 (1) 5.5−ジメチルチアゾリジン−2,4−ジ
オン22gを37%ホルマリン21滅に加え、40℃で
40分間かきまぜた。反応液に水を10d加え、ジクロ
ルメタン150顧で抽出した。ジクロルメタン層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮すると3−ヒドロ
キシメチル−5,5−ジメチルデアシリジン−2,4−
ジオン26.6gか油状物として得られた。
,4−ジオンの製造 (1) 5.5−ジメチルチアゾリジン−2,4−ジ
オン22gを37%ホルマリン21滅に加え、40℃で
40分間かきまぜた。反応液に水を10d加え、ジクロ
ルメタン150顧で抽出した。ジクロルメタン層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮すると3−ヒドロ
キシメチル−5,5−ジメチルデアシリジン−2,4−
ジオン26.6gか油状物として得られた。
(2)上記(1)の油状物26.6gをエーテル+50
dに溶解し、水冷、かくはん下、五塩化リン29.5g
を少しづつ加えた。冷却下さらに1時間かくはんした後
、五塩化リンフ、4gを加え、冷却下2時間、ついで室
温(20°C)で1.5時間かきまぜfこ。反応液を氷
水にあけ、エーテル2007+112を追加して抽出後
、エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮す
ると28.6gの油状物が得られた。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ジクロルメタンで溶出)で
精製するとmp、56〜57℃の3−クロロメチル−5
,5−ジメチルデアシリジン−2゜4−ジオンの拮品2
2.6g(通算収率77%)が得られた。
dに溶解し、水冷、かくはん下、五塩化リン29.5g
を少しづつ加えた。冷却下さらに1時間かくはんした後
、五塩化リンフ、4gを加え、冷却下2時間、ついで室
温(20°C)で1.5時間かきまぜfこ。反応液を氷
水にあけ、エーテル2007+112を追加して抽出後
、エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮す
ると28.6gの油状物が得られた。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ジクロルメタンで溶出)で
精製するとmp、56〜57℃の3−クロロメチル−5
,5−ジメチルデアシリジン−2゜4−ジオンの拮品2
2.6g(通算収率77%)が得られた。
NI’vlR(CC1,)δ:1.74(611,s)
、5.32(21+、s)元素分Fr CaH8Cl
N0ISとして計算値(%) C,37,21: H
,4,16,N、7.27実測値(%) C937,
03; H,4,14; N、7.16参考例1と同様
にして第2表の化合物を合成した。
、5.32(21+、s)元素分Fr CaH8Cl
N0ISとして計算値(%) C,37,21: H
,4,16,N、7.27実測値(%) C937,
03; H,4,14; N、7.16参考例1と同様
にして第2表の化合物を合成した。
第 2 表
X Y R,R1物理定数
S OHCH3n2’ 1.5355S OHC
t I−1s no 1 、5260S OHn
−C4He no 1.5135S OHC1(
zPh mp 81〜82°C8S CH3CH
3bp 124〜125°C/lommHg0 0
CH3Ct(s m+1 90〜91℃参考例2 3−クロロメチル−5,5−ジメチルチアゾリジン−2
,4−ジオンの製造 (+) 5.5−ジメチルチアゾリジン−2,4−ジ
オン2.2g及び1,3.5−トリオキサン1.2gを
95%エタノールIO戒に溶解し、濃塩酸0.5滅を加
えて40℃で2時間かきまぜた。反応液を濃縮した後、
残留物をジクロルメタン150滅で抽出し無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濃縮して3−ヒドロキンメチル−5,
5−ジメチルチアゾリノン−2,4−ジオンの粗油状物
3gを得た。
t I−1s no 1 、5260S OHn
−C4He no 1.5135S OHC1(
zPh mp 81〜82°C8S CH3CH
3bp 124〜125°C/lommHg0 0
CH3Ct(s m+1 90〜91℃参考例2 3−クロロメチル−5,5−ジメチルチアゾリジン−2
,4−ジオンの製造 (+) 5.5−ジメチルチアゾリジン−2,4−ジ
オン2.2g及び1,3.5−トリオキサン1.2gを
95%エタノールIO戒に溶解し、濃塩酸0.5滅を加
えて40℃で2時間かきまぜた。反応液を濃縮した後、
残留物をジクロルメタン150滅で抽出し無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濃縮して3−ヒドロキンメチル−5,
5−ジメチルチアゾリノン−2,4−ジオンの粗油状物
3gを得た。
(2)上記粗油状物3gを参考例1−(2)と同様にし
てクロル化して3−クロロメチル−5,5−ジメチルデ
アシリジン−2,4−ジオンの結晶1.9gを得た。融
点55〜56℃。
てクロル化して3−クロロメチル−5,5−ジメチルデ
アシリジン−2,4−ジオンの結晶1.9gを得た。融
点55〜56℃。
実施例1
4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−5−(5゜5−
ジメチルチアゾリジン−2,4−ジオン−3−イル−メ
トキシ)−1−メチルピラゾール(化合物No、 1
)の合成 4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−5−ヒドロキシ
−1−メチルピラゾール1.35g及び炭酸カリウム0
.7gをツメデルホルムアミド8 rJlに加′え、1
0分間かきまぜた後、3−クロロメチル=5.5−ジメ
チルヂアゾリジンー2.4−ノオン0.97gを加え、
55℃て5.5時間かきまぜた。
ジメチルチアゾリジン−2,4−ジオン−3−イル−メ
トキシ)−1−メチルピラゾール(化合物No、 1
)の合成 4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−5−ヒドロキシ
−1−メチルピラゾール1.35g及び炭酸カリウム0
.7gをツメデルホルムアミド8 rJlに加′え、1
0分間かきまぜた後、3−クロロメチル=5.5−ジメ
チルヂアゾリジンー2.4−ノオン0.97gを加え、
55℃て5.5時間かきまぜた。
反応液を濃縮後、残留物をソリ力ゲルカラムクロマトグ
ラフィー(ジクロルメタンで溶出する)で精製して目的
化合物1.78g(73,2%)を得た。
ラフィー(ジクロルメタンで溶出する)で精製して目的
化合物1.78g(73,2%)を得た。
融点102〜103℃。
NMR(CC1,、)δ1.66(611,s)、3.
60(311,s)、、5.90(211、s)、7.
18(lit、s)、7.3〜7.5(311,m)。
60(311,s)、、5.90(211、s)、7.
18(lit、s)、7.3〜7.5(311,m)。
元素分析 CItHIsN 304S CItとして計
算値(%) C,47,67; H,3,53,N、
9.81実測値(%) C,47,72; H,3゜
47. N、9.73以下、実施例1と同様にして第3
表に示した化合物を合成した。
算値(%) C,47,67; H,3,53,N、
9.81実測値(%) C,47,72; H,3゜
47. N、9.73以下、実施例1と同様にして第3
表に示した化合物を合成した。
(以下余白)
第 3 表
4 5olt ローCj1.CI1. It
<ン−CI 132〜+337 00 C1
13C113C1131+ ()−CI 109〜1
11RS OC11j Cl1j CIl、 It +
CI 130注1)NMri(CDCl2)61.7
0(311,d)、3.85(311,S)、4.32
(111,Q)、5.92(2H,S)、7.30−7
.55(411,m) 注2)結晶溶媒としてCH,C12を含む。
<ン−CI 132〜+337 00 C1
13C113C1131+ ()−CI 109〜1
11RS OC11j Cl1j CIl、 It +
CI 130注1)NMri(CDCl2)61.7
0(311,d)、3.85(311,S)、4.32
(111,Q)、5.92(2H,S)、7.30−7
.55(411,m) 注2)結晶溶媒としてCH,C12を含む。
注3) N M R(CD CI3)δ:2.99〜3
.70(2i1.m)。
.70(2i1.m)。
3.54(311,s)、3.58(111,q)、5
.75〜6.05(211゜m)、7.10〜7.53
(911,m)注4) N M R(CD CI3)δ
:1.70(611,s)、3.62(3H。
.75〜6.05(211゜m)、7.10〜7.53
(911,m)注4) N M R(CD CI3)δ
:1.70(611,s)、3.62(3H。
s)、6.28(211,s)、7.25〜7.53(
=l11.m)。
=l11.m)。
注5)NMR(CC1,)δ: 1.47(611,s
)、1.68(311,s)。
)、1.68(311,s)。
3.45(311,s)、5.44(211,s)、7
.0〜7.40(311゜m)。
.0〜7.40(311゜m)。
実施例2
化合物番号(1)20g、ポリエチレングリコ−ルエー
テル系界面活性剤(ノニポール100 )20g、シク
ロへキサノン60gを加え混合して乳剤とする。
テル系界面活性剤(ノニポール100 )20g、シク
ロへキサノン60gを加え混合して乳剤とする。
実施例3
化合物番号(2)5g、ベントナイト40g、タレイ5
0gおよびリグニンスルホン酸ソーダ5gをよく粉砕混
合し水16gを加えてよく練り合せた後造粒乾燥して粒
剤とする。
0gおよびリグニンスルホン酸ソーダ5gをよく粉砕混
合し水16gを加えてよく練り合せた後造粒乾燥して粒
剤とする。
実施例4
化合物番号(7)30g、リグニンスルホン酸ソーダ5
g、ポリエチレングリコールエーテル界面活性剤(7ユ
ボー2,85■)5g、7+zイ60g、□混合粉砕し
て水和剤とする。
g、ポリエチレングリコールエーテル界面活性剤(7ユ
ボー2,85■)5g、7+zイ60g、□混合粉砕し
て水和剤とする。
発明の効果
本発明の新規ピラゾール誘導体[I[1]は、すぐれた
除草作用と選択性を示す安全な除草剤として使用するこ
とができるので、本発明は従来のピラゾール誘導体に比
べより優れた除草剤を提供することができる。
除草作用と選択性を示す安全な除草剤として使用するこ
とができるので、本発明は従来のピラゾール誘導体に比
べより優れた除草剤を提供することができる。
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2は同一または相異なって水
素原子、低級アルキル基またはアラルキル基を、R_3
は低級アルキル基を、R_4は水素原子または低級アル
キル基を、R_5はハロゲン原子、ニトロ基または低級
アルキル基を、nは1ないし3を、XおよびYは同一ま
たは相異なって酸素原子または硫黄原子を示す)で表わ
されるピラゾール誘導体。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物(式中、R_1およびR_2は同一
または相異なって水素原子、低級アルキル基またはアラ
ルキル基を、R_3は低級アルキル基を、R_4は水素
原子または低級アルキル基を、R_5はハロゲン原子、
ニトロ基または低級アルキル基を、nは1ないし3を、
XおよびYは同一または相異なって酸素原子または硫黄
原子を、Z_1とZ_2は一緒になって離脱し得る基を
示す)とを反応させることを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中の記号は前記と同意義)で表わされるピラゾール
誘導体の製造法。 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2は同一または相異なって水
素原子、低級アルキル基またはアラルキル基を、R_3
は低級アルキル基を、R_4は水素原子または低級アル
キル基を、R_5はハロゲン原子、ニトロ基または低級
アルキル基を、nは1ないし3を、XおよびYは同一ま
たは相異なって酸素原子または硫黄原子を示す)で表わ
されるピラゾール誘導体を含有する除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14911386A JPS635090A (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | ピラゾ−ル誘導体、その製造法および除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14911386A JPS635090A (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | ピラゾ−ル誘導体、その製造法および除草剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS635090A true JPS635090A (ja) | 1988-01-11 |
Family
ID=15467994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14911386A Pending JPS635090A (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | ピラゾ−ル誘導体、その製造法および除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS635090A (ja) |
-
1986
- 1986-06-24 JP JP14911386A patent/JPS635090A/ja active Pending
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