JPS635090A - ピラゾ−ル誘導体、その製造法および除草剤 - Google Patents

ピラゾ−ル誘導体、その製造法および除草剤

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JPS635090A
JPS635090A JP14911386A JP14911386A JPS635090A JP S635090 A JPS635090 A JP S635090A JP 14911386 A JP14911386 A JP 14911386A JP 14911386 A JP14911386 A JP 14911386A JP S635090 A JPS635090 A JP S635090A
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JP
Japan
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lower alkyl
formula
alkyl group
group
atom
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Application number
JP14911386A
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English (en)
Inventor
Toshiya Uekado
上門 敏也
Keiichi Masumoto
升本 計一
Harutoshi Yoshikawa
吉川 治利
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、除草剤として有用な新規なピラゾール誘導体
に関する。
従来の技術 従来、ピラゾール誘導体の中には除草活性を有する化合
物がいくつかしられている。例えば、特公昭54−36
648.特開昭58−185568、特開昭59−46
272.特開昭60−16974.特開昭60−511
75等に4−ベンゾイルピラゾール類が除草剤として有
用であることが記載されており、実用化されている化合
物もある。しかし、これら公知の化合物は実施場面で使
用薬量を多く必要とし、また有効な雑草の種類が充分多
いとはいえない。また、イネに対する安全性が充分でな
い化合物もある。
発明が解決しようとする問題点 近年、省エネルギー的な立場、あるいは人畜その他の生
物に対する安全性、土壌への残留などの諸問題のため、
低薬量で除草活性が高く、殺草スペクトルが広く、かつ
選択性の高い除草剤の出現が望まれている。
問題点を解決するための手段 本発明者らは、これらの観点から、鋭意研究を続けた結
果、−般式 で表わされる化合物と一般式 で表わされる化合物(式中、R1およびR1は同一また
は相異なって水素原子、低級アルキル基またはアラルキ
ル基を、R1は低級アルキル基を、R4は水素原子また
は低級アルキル基を、R1はハロゲン原子、ニトロ基ま
たは低級アルキル基を、nは1ないし3を、XおよびY
は同一または相異なりて酸素原子または硫黄原子を、Z
lとZ、は−緒になって離脱し得る基を示す)とを反応
させと、−般式 (式中の記号は前記と同意義を示す。)で表わされるピ
ラゾール誘導体が得られること、さらに得られたピラゾ
ール誘導体[I11]が、公知ピラゾール誘導体に比し
、より高い除草活性と、より幅広い殺草スペクトルを有
し、かつ選択性にもすぐれていることを知見し、これら
に基づいて本発明を完成した。
すなわち、本発明は、高活性、高選択性でかつ広い殺草
スペクトル番有するピラゾール誘導体[I11]を提供
するもので、 (1) ピラゾール誘導体[II[]、(2)化合物[
1]と化合物[11]とを反応させることを特徴とする
ピラゾール誘導体[I[[]の製造法、 (3) ピラゾール誘導体[I11]を含有する除草剤
、に関する。
上記式中、R1およびR1は、同一または相異なって水
素原子、低級アルキル基またはアラルキル基を示す。R
1は、低級アルキル基を示す。R4は、水素原子または
低級アルキル基を示す。R5は、ハロゲン原子、ニトロ
基または低級アルキル基を示す。ここにおいて、R1、
R2、R5、R4およびR2で示される低級アルキル基
は、例えばメチル。
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル。
5ee−ペンチルなどの炭素数1〜5の分枝していても
よいアルキル基が用いられる。また、R1で示されるア
ラルキル基は、例えばベンジル、フェネチル、トルベン
ジルなどの炭素数7〜9のアラルキル基が用いられる。
さらに、R6で示されるハロゲン原子としては、例えば
塩素、フッ素、臭素などが用いられる。
これらの中において、R,とじては水素原子または低級
アルキル基(特にメチル基)が繁用され、R7としては
低級アルキル基(特にメチル基などの炭素数1〜4の低
級アルキル基)またはベンジル基が繁用され、R1とし
てはメチル基が繁用され、R4としては水素原子が繁用
され、R6としてはハロゲン(特に塩素)またはニトロ
基が繁用される。
なお、 R,、!:ntが相異なる場合には、R1とR
1が置換する炭素が不斉炭素になり異性体が生じるが、
これらの異性体はいずれら本発明の範囲に入る。
また、上記式中、nは、!ないし3を水上、nの好まし
い例としては2が用いられる。nが2以上の場合、R2
は同一または相異なっていてもよい。
XおよびYは、同一または相異なって酸素原子または硫
黄原子を示す。特に、Xが硫黄原子を、Yが酸素原子を
示す場合が好ましい。そして、ZlとZ2は、−緒にな
って離脱し得る基を示し、具体例としてはZlは、例え
ば塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子:メタンスル
ホニル才キシ、エタンスルホニルオキシ、プロパンスル
ホニルオキシ。
トリフルオロメタンスルホニルオキシなどのハロゲンで
置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基;ま
たは例えばベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンス
ルボニルオキシ、p−ブロモベンゼンスルホニルオキン
、p−クロルベンゼンスルホニルオキシ、メシチレンス
ルホニルオキシなどのハロゲンで置換されていてもよい
アリールスルホニルオキシ基を、Z、は水素原子、アル
カリ金属(Na、になど)、アルカリ土類金属(Caな
ど)などを示す。とりわけ、Zlがハロゲン原子を示し
、Z、が水素原子を示す場合が繁用される。
目的物ピラゾール誘導体[1111の好ましい例として
は、−般式 [式中、R,、R,、XおよびYは面記と同意義を、R
6はハロゲン原子またはニトロ基を示す]で表わされる
ピラゾール誘導体などが用いられる。式%式% 前記と同意義を示す。また、R8は、ハロゲン原子また
はニトロ基を示す。R6で示されるハロゲン原子として
は、上記R6で述べたごときハロゲン原子が用いられる
。R6の好ましい例としては、塩素またはニトロ基が用
いられる。
目的物[I11]の製造は、化合物[I]と化合物[1
1]を反応させることによって実施される。
この反応は、通常溶媒中で行われ、このような溶媒とし
て、例えばベンゼン、トルエン、キンレン。
ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素類、イソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン。エチ
レングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ク
ロロホルム、四塩化炭素、1.1.2゜2−テトラクロ
ルエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
などのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド類、アセトニトリルなどの二l・リル類、酢酸エチ
ルなどのエステル類、水などが用いられる。これらの溶
媒は単独で用いることができるし、また必要に応じて二
種またはそれ以上の多種類を適当な割合例えば1.1〜
!Oの割合で混合してもよい。混合溶媒等が用いられ、
混合溶媒が均一相でない場合には相間移動触媒(例えば
塩化テトラ−n−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルト
リエチルアンモニウムなど)の存在下に反応を行なって
よい。好ましい溶媒としては、たとえばジメチルホルム
アミドなどのアミド類が繁用される。
この反応は、原料[[[]のZ、がHの場合には脱酸剤
の存在下に行うのが有利である。脱酸剤としては、例え
ば炭酸水素アルカリ金属(例えば炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウムなど)、炭酸アルカリ金属(例えば炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなど)、水酸化アルカリ金
属(例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなど)、
第三級アミン(例えばトリメデルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、N−メチルモルホリン、N−
メチルピペリジン、N、N−ジメチルアニリンなど)、
環状アミン(例えばピリジン、ピコリン、ルチジンなど
)、l、8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウン
デセン。
1.5−ジアザビンクロ[4,3、O]−5−ノネン等
の無機および有機塩基を用いることができる。
上記有機塩基はそれ自体溶媒として用いることらできる
原料化合物[1]に対して化合物[11は、通常1:1
のモル比で用いられるが、場合によっては一方の原料を
過剰に(たとえばl:3〜3:l)用いることもできる
反応は通常、−10℃ないし150℃、好ましくは20
〜100℃の温度で行なうことができる。
反応時間は反応温度との関係において適宜設定されるが
、数分から数十時間、好ましくは1〜24時間の範囲で
ある。
このようにして得られるピラゾール誘導体[III]は
、公知の手段例えば常圧または減圧a縮、蒸留。
分留、溶媒抽出、液性変換、転溶、クロマトグラフィー
、拮品化、再結晶等により単離精製することが出来る。
本発明方法の原料物質として使用される化合物[l]は
文献未載の化合物てあり、例えば下記の製造方法または
それに準じた方法などによって製造されうる。
すなわち、−般式 (式中、l、、It2.X、Yは前記と同色義)で表わ
される化合物に、ホルムアルデヒドまたは1,3.5−
トリオキサンを反応さけて一般式 (式中、R,,1”(2,X、Yは前記と同色義)で表
わされるN−ヒドロキシメチル化合物を得た後、これを
ハロゲン化剤またはスルホニル化剤と反応させることに
より化合物[1]を得ることが出来る。
−般式[IV]で表わされる化合物とホルムアルデヒド
または1.3.5−トリオキサンとの反応において、反
応は溶媒なしで行なうこともできるが、例えばベンゼン
、トルエン、キシレン、ヘキザン、リグロインなどの炭
化水素類、メタノール、エタノール、プロパツール、イ
ソプロパツールなどのアルコール類、エチルエーテル、
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテ
ル類、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレンなどの
ハロゲン化炭化水素類、ジメチルポルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、N−メチルピペリジンなどのアミド類
、ジメチルスルホキシド、スルホランなどのスルホキシ
ド類、アセトニトリルなどのニトリル類、水などの溶媒
中で行なってよい。これらの溶媒は、単独で用いること
も出来るし、また必要に応じて2種またはそれ以上の多
種類を適当な割合に混合して用いることら出来る。この
反応を行なう場合において、触媒として酸を用いること
により、反応を促進することが出来る。使用する酸とし
ては、たとえば塩酸、@、酸、硝酸などの鉱酸類。
酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、パラトルエン
スルホン酸などの有機酸が用いられる。
原料化合物[IY]とホルムアルデヒドまたはl、3゜
5−トリオキサンとはtitのモル比で用いるか、−方
の原料を過剰に用いてもよいか、通常はホルムアルデヒ
ドまたは1,3,5−)ジオキサンを過剰に用いるのが
有利である。この反応では、使用する化合物[IV]の
種類や酸触媒の有無及びその種類、溶媒等により適当な
反応温度が選ばれるが、通常−10℃ないし100℃で
行なうことが出来ろ。つぎに、得られたN−ヒドロキシ
メチル化合物[V、]とハロゲン化剤またはスルホニル
化剤とを反応させることにより化合物[I]を得る。反
応させるハロゲン化剤としては、通常のアルコール類の
ハロゲン化に用いられる試薬であればいずれでもよく、
例えば塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン、五塩化
リン、五臭化リン、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、
トリフェニルポスフィンノプロミド、トリフェニルホス
フィンジアイオダイドなどが用いられる。また、スルホ
ニル化剤としては、例えばメタンスルホニルクロリド、
エタンスルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリ
ド、パラトルエンスルホニルクロリド、パラクロルベン
ゼンスルホニルクロリド、パラブロモベンゼンスルホニ
ルクロリドなどが用いられる。この反応は、−般に例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン、リグロイン、ヘキサ
ンなどの炭化水素類、エーテル、イソプロピルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、メチルセルソルブなどのエーテル
類、クロロホルム。
四塩化炭素、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類
、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスル
ホキシドなどのスルホキシド類、アセトニトリルなどの
ニトリル類、酢酸エチルなどのエステル類などの溶媒中
で行なってよい。これらの溶媒は単独で用いることらで
きるし、また必要に応じて二種またはそれ以上の多種類
を適当な割合例えば1:1−1:10割合で混合しても
よい。
混合溶媒等が用いられ、混合溶媒が均一相でない場合に
は相間移動触媒(たとえば塩化テトラ−n−ブヂルアン
モニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムなど)
の存在下に反応を行なってもよい。この反応は脱酸剤の
存在下に行われてよい。
脱酸剤としては、例えば炭酸水素アルカリ金属(例えば
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなど)、炭酸ア
ルカリ金属(例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど
)、水酸化アルカリ金属(例えば水酸化カリウム、水酸
化ナトリウムなど)、第3級アミン(例えばトリメチル
アミン、トリエチルアミン。
トリブチルアミン、N−メチルモルホリン、N−メチル
ピペリジン、N 、 N−ジメチルアニリンなど)。
環状アミン(例えばピリジン、ピコリン、ルヂジンなど
)等の無機および有機塩基を用いることができる。上記
有機塩基はそれ自体溶媒として用いることもできる。こ
の反応では、原料化合物[V]に対してハロゲン化剤ま
たはスルホニル化剤は、通常i二1〜I:1.5のモル
比で用いられるが、場合によっては一方の原料を過剰に
(たとえば1:5〜5−1)用いることらできる。反応
は、通常−30℃ないし120°C1好ましくは0〜5
0°Cの温度で行うことができる。反応時間は、反応温
度との関係において適宜設定できるが、数分から数十時
間、好ましくは0.5〜10時間の範囲である。かくし
て得られる化合物[1]は、反応混合物のまま本発明方
法の原料として供してもよいが、公知手段たとえば上記
[■〕で述べたごとき方法により単離、精製後に用いて
もよい。
また、本発明方法の一方の原料として用いられる化合物
[11]は、 たとえば特開昭60−51175および
特公昭54−366118などに、記載の方法あるいは
それに亭じた方法などによって製造することができる。
本発明の化合物[111]を除草剤として用いる場合に
は、化合物[nl]の1種または2種以上を使用目的に
よって適当な液体担体(たとえば溶剤)に溶解するかあ
るいはこれに分散させ、また適当な固体担体(たとえば
希釈剤・増量剤)と混合するかあるいはこれに吸着させ
、所要の場合はさらにこれに乳化剤、懸濁剤、展着剤、
浸透剤1分散剤、湿潤剤、粘漿剤、安定剤などを添加し
、油剤、乳剤、水和剤、粉剤9粒剤1錠剤、噴霧剤、軟
膏などの剤型として使用する。これらの製剤は、自体公
知の方法で調製することができる。
除草剤中の有効成分[II[]の含有割合は使用目的に
よっても異なるが、乳剤、水和剤などとしてlO〜90
重量%程度が適当であり、油剤、粉剤などとしてはo、
t−to重量%程度が適当であり、粒剤としては1〜2
0重量%程度が適当であるが、使用目的によってこれら
の濃度を適宜変更してもよい。なお、乳剤、水和剤など
は使用に際して水などで適宜希釈増量(たとえば10〜
toooo倍)して散布するのがよい。
除草剤に使用する液体担体(溶剤)としては、たとえば
水、アルコール類(たとえばメチルアルコール、エチル
アルコール、エチレングライコールなど)、ケトン類(
たとえばアセトン、メチルエチルケトンなど)、エーテ
ル類(たとえば)オキサン。
テトラハイドロフラン、セルソルブなど)、脂肪族炭化
水素類(たとえばガソリン、ケロセン、灯油、燃料油0
機減油など)、芳香族炭化水素類(たとえばベンゼン、
トルエン、キシレン、ソルベントナフサ。
メチルナフタレンなど)やその他ハロゲン化炭化水素類
(たとえばクロロホルム、四塩化炭素など)、酸アミド
類(たとえばジメチルホルムアミドなど)、エステル類
(たとえば酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル、
脂肪酸グリセリンエステルなど)、ニトリル類(たとえ
ばアセトニトリルなど)などの溶媒が適当であり、これ
らの1種または2種以上の混合物を使用する。固体担体
(希釈、増量剤)としては、植物性粉末(たとえば大豆
粉、タバコ粉。
小麦粉、木粉など)、鉱物性粉末(たとえばカオリン、
ベントナイト、酸性白土などのクレイ類、滑石粉、ロウ
石粉などのタルク類、珪藻土、雲母粉などのシリカ類な
ど)さらにアルミナ、硫黄粉末、活性炭なども用いられ
、これらの1種または2種以上の混合物を使用する。こ
れらの液体担体または固体担体は、製剤中5〜99.9
重量%好ましくは10〜80重量%になるように用いる
また、軟膏基剤としては、たとえばポリエチレングライ
コール、ペクチン、たとえばモノステアリン酸グリセリ
ンエステル等の高級脂肪酸の多価アルコールエステル、
たとえばメチルセルローズ等のセルローズ誘導体、アル
ギン酸ナトリウム。
ベントナイト、高級アルコール、たとえばグリセリン等
の多価アルコール、ワセリン、白色ワセリン。
流動パラフィン、豚脂、各種植物油、ラノリン、脱水ラ
ノリン、硬化油、蝋類、樹脂類等の1種または2種以上
あるいはこれらに各種界面活性剤、その他を添加したも
の等を適宜選択することができる。
また、乳化剤、展着剤、浸透剤1分散剤などとして使用
される界面活性剤としては、必要に応じて石けん類、ポ
リオキシエチレンアルキルアリールエーテル類(例、ノ
ナール0.東邦化学KK製)。
アルキル硫酸塩類(例、エマールI P 、エマ−/l
/40’、花王7 ) 5XKKtJ)、7/P、L=
、tzL=$ン酸塩類(例、ネオゲン 、ネオゲンT 
、第1工業製薬KK製;ネオペレックス 、花王アトラ
スKK1iJ)、ポリエチレングリコールエーテル類(
fll、/ :ホー/u8 P、/ =ホー71z l
 000./ :ボール160o三洋化成KK製)、多
価アルコールエステル類(例、トウィーン200.)ウ
イー780■、花王7)5XKK製)4□カ、適宜用5
、。
れる。
化合物[II[]を除草剤として用いる場合、その使用
量は、畑地lアール当り約1〜100g、より好ましく
は約2〜40g、水田1アール当り、約1−100g、
より好ましくは、約2〜40gである。
また、化合物[I[[]を含有する除草剤は、他種の除
草剤、植物成長調製剤、殺菌剤(たとえば汀機塩素系殺
菌剤、有機イオウ系殺菌剤、抗生物質など)。
殺虫剤(有機リン系殺虫剤、天然殺虫剤など)その他殺
ダニ剤、殺線虫剤、共力剤、誘引剤、忌避剤。
色素、肥料などと配合し、混合使用することもできる。
作用 本発明のピラゾール誘導体[I[[]は、幅広い殺草ス
ペクトルと優れた除草活性を有し、かつ優れた選択性を
有しているので、ピラゾール誘導体[II[]を含有す
る製剤は、優れた除草作用のかつ安全な除草剤として用
いることができる。かくして本発明の除草剤は、たとえ
ばヒエ類、コナギ、キカシグサ、アゼナ、アブツメ、カ
ヤツリグサ、タマガヤツリ等の水田1手生雑草、ウリカ
ワ、マツバイ、クログワイ、ホタルイ、ミズガヤツリな
どの多年生雑草を防除するために使用できる。
従って、本発明の除草剤は、薬害がきわめて少なく安全
でかつすぐれた除草作用、効果を奏するので、当業界に
おける有用性もきわめて大きい。
試験例 1/10,0OOaポツトに水田土壌を約1,2kgつ
め、入水1代かき後、ポットの土壌表面にクマガヤツリ
、キカシグサの種子をまき、湛水3cmとし約5日後に
水稲稚苗(品種二日本晴、3葉期)2株を移植する。別
のポットにはマツバイ、ウリカワ、ミズガヤツリの塊茎
の植付を行ない、湛水3Cmとする。水稲移植7日後に
各ポットに、下記実施例1で得られる化合物No、1〜
7及び対照化合物(a) 、 (b)を実施例2と同様
にして乳剤とし、その所定ffi(Igまたは2g)を
水で希釈して4i2とし、この20dを注加する。3週
間後にそれぞれの化合物の薬害および除草効果を下記の
基準に従って評価し、結果を第1表に示した。
(以下余白) (1)  除草効果は次の指数で表示する。
指数  効果   抑制率(殺草率)(%)0    
無           Ol    微      
  0.1〜502    小       50,1
〜753    中       75.1〜87.5
4    大       87.6〜99.95  
 極大       100 (2)作物に対する薬害は次の指数で表示する。
指数  薬害   被害率 (%) 0    無           Ol     微
        Ol〜12.52    小    
  12.6〜253    中       25.
.1〜504     大       50.1〜9
995  極大      100 (但し、作物に対する指数0およびlは作物に対して実
用的であることを意味する。)(3)対照化合物 I と11゜ 第1表 この第1表は、本発明のピラゾール誘導体[I[1]化
合物No、 1〜7)を含有する除草剤が、従来のピラ
ゾール誘導体(化合物a、b)を含有する除草剤に比べ
、より優れた除草作用を有し、かつイネに対して薬害が
なく安全な除草剤であることを示している。
実施例 以下に参考例、実施例をあげて本発明をさらに詳しく説
明する。
なお、参考例、実施例で用いる記号は次のような意義を
有する。
S、シングレット;d、ダブレット:q、カルチット;
m、マルチブレット、 ph、フェニル;%1重量%;
mp、、  融点; bp、、 ?JF、点。
参考例1 3−クロロメチル−5,5−ジメチルチアゾリジン−2
,4−ジオンの製造 (1)  5.5−ジメチルチアゾリジン−2,4−ジ
オン22gを37%ホルマリン21滅に加え、40℃で
40分間かきまぜた。反応液に水を10d加え、ジクロ
ルメタン150顧で抽出した。ジクロルメタン層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮すると3−ヒドロ
キシメチル−5,5−ジメチルデアシリジン−2,4−
ジオン26.6gか油状物として得られた。
(2)上記(1)の油状物26.6gをエーテル+50
dに溶解し、水冷、かくはん下、五塩化リン29.5g
を少しづつ加えた。冷却下さらに1時間かくはんした後
、五塩化リンフ、4gを加え、冷却下2時間、ついで室
温(20°C)で1.5時間かきまぜfこ。反応液を氷
水にあけ、エーテル2007+112を追加して抽出後
、エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮す
ると28.6gの油状物が得られた。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ジクロルメタンで溶出)で
精製するとmp、56〜57℃の3−クロロメチル−5
,5−ジメチルデアシリジン−2゜4−ジオンの拮品2
2.6g(通算収率77%)が得られた。
NI’vlR(CC1,)δ:1.74(611,s)
、5.32(21+、s)元素分Fr  CaH8Cl
N0ISとして計算値(%)  C,37,21: H
,4,16,N、7.27実測値(%)  C937,
03; H,4,14; N、7.16参考例1と同様
にして第2表の化合物を合成した。
第  2  表 X  Y  R,R1物理定数 S  OHCH3n2’  1.5355S  OHC
t I−1s  no  1 、5260S  OHn
−C4He  no  1.5135S  OHC1(
zPh  mp  81〜82°C8S  CH3CH
3bp 124〜125°C/lommHg0 0  
CH3Ct(s   m+1 90〜91℃参考例2 3−クロロメチル−5,5−ジメチルチアゾリジン−2
,4−ジオンの製造 (+)  5.5−ジメチルチアゾリジン−2,4−ジ
オン2.2g及び1,3.5−トリオキサン1.2gを
95%エタノールIO戒に溶解し、濃塩酸0.5滅を加
えて40℃で2時間かきまぜた。反応液を濃縮した後、
残留物をジクロルメタン150滅で抽出し無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濃縮して3−ヒドロキンメチル−5,
5−ジメチルチアゾリノン−2,4−ジオンの粗油状物
3gを得た。
(2)上記粗油状物3gを参考例1−(2)と同様にし
てクロル化して3−クロロメチル−5,5−ジメチルデ
アシリジン−2,4−ジオンの結晶1.9gを得た。融
点55〜56℃。
実施例1 4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−5−(5゜5−
ジメチルチアゾリジン−2,4−ジオン−3−イル−メ
トキシ)−1−メチルピラゾール(化合物No、 1 
)の合成 4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−5−ヒドロキシ
−1−メチルピラゾール1.35g及び炭酸カリウム0
.7gをツメデルホルムアミド8 rJlに加′え、1
0分間かきまぜた後、3−クロロメチル=5.5−ジメ
チルヂアゾリジンー2.4−ノオン0.97gを加え、
55℃て5.5時間かきまぜた。
反応液を濃縮後、残留物をソリ力ゲルカラムクロマトグ
ラフィー(ジクロルメタンで溶出する)で精製して目的
化合物1.78g(73,2%)を得た。
融点102〜103℃。
NMR(CC1,、)δ1.66(611,s)、3.
60(311,s)、、5.90(211、s)、7.
18(lit、s)、7.3〜7.5(311,m)。
元素分析 CItHIsN 304S CItとして計
算値(%)  C,47,67; H,3,53,N、
9.81実測値(%)  C,47,72; H,3゜
47. N、9.73以下、実施例1と同様にして第3
表に示した化合物を合成した。
(以下余白) 第  3  表 4    5olt  ローCj1.CI1.  It
   <ン−CI   132〜+337 00 C1
13C113C1131+ ()−CI  109〜1
11RS OC11j Cl1j CIl、 It +
CI  130注1)NMri(CDCl2)61.7
0(311,d)、3.85(311,S)、4.32
(111,Q)、5.92(2H,S)、7.30−7
.55(411,m) 注2)結晶溶媒としてCH,C12を含む。
注3) N M R(CD CI3)δ:2.99〜3
.70(2i1.m)。
3.54(311,s)、3.58(111,q)、5
.75〜6.05(211゜m)、7.10〜7.53
(911,m)注4) N M R(CD CI3)δ
:1.70(611,s)、3.62(3H。
s)、6.28(211,s)、7.25〜7.53(
=l11.m)。
注5)NMR(CC1,)δ: 1.47(611,s
)、1.68(311,s)。
3.45(311,s)、5.44(211,s)、7
.0〜7.40(311゜m)。
実施例2 化合物番号(1)20g、ポリエチレングリコ−ルエー
テル系界面活性剤(ノニポール100 )20g、シク
ロへキサノン60gを加え混合して乳剤とする。
実施例3 化合物番号(2)5g、ベントナイト40g、タレイ5
0gおよびリグニンスルホン酸ソーダ5gをよく粉砕混
合し水16gを加えてよく練り合せた後造粒乾燥して粒
剤とする。
実施例4 化合物番号(7)30g、リグニンスルホン酸ソーダ5
g、ポリエチレングリコールエーテル界面活性剤(7ユ
ボー2,85■)5g、7+zイ60g、□混合粉砕し
て水和剤とする。
発明の効果 本発明の新規ピラゾール誘導体[I[1]は、すぐれた
除草作用と選択性を示す安全な除草剤として使用するこ
とができるので、本発明は従来のピラゾール誘導体に比
べより優れた除草剤を提供することができる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2は同一または相異なって水
    素原子、低級アルキル基またはアラルキル基を、R_3
    は低級アルキル基を、R_4は水素原子または低級アル
    キル基を、R_5はハロゲン原子、ニトロ基または低級
    アルキル基を、nは1ないし3を、XおよびYは同一ま
    たは相異なって酸素原子または硫黄原子を示す)で表わ
    されるピラゾール誘導体。
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物(式中、R_1およびR_2は同一
    または相異なって水素原子、低級アルキル基またはアラ
    ルキル基を、R_3は低級アルキル基を、R_4は水素
    原子または低級アルキル基を、R_5はハロゲン原子、
    ニトロ基または低級アルキル基を、nは1ないし3を、
    XおよびYは同一または相異なって酸素原子または硫黄
    原子を、Z_1とZ_2は一緒になって離脱し得る基を
    示す)とを反応させることを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中の記号は前記と同意義)で表わされるピラゾール
    誘導体の製造法。
  3. (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2は同一または相異なって水
    素原子、低級アルキル基またはアラルキル基を、R_3
    は低級アルキル基を、R_4は水素原子または低級アル
    キル基を、R_5はハロゲン原子、ニトロ基または低級
    アルキル基を、nは1ないし3を、XおよびYは同一ま
    たは相異なって酸素原子または硫黄原子を示す)で表わ
    されるピラゾール誘導体を含有する除草剤。
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