JPS6351520A - ネガテイブフリクシヨンの低減方法 - Google Patents

ネガテイブフリクシヨンの低減方法

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Publication number
JPS6351520A
JPS6351520A JP19669186A JP19669186A JPS6351520A JP S6351520 A JPS6351520 A JP S6351520A JP 19669186 A JP19669186 A JP 19669186A JP 19669186 A JP19669186 A JP 19669186A JP S6351520 A JPS6351520 A JP S6351520A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ground
negative friction
buffer layer
ground surface
supporting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19669186A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomio Arii
有居 東海男
Sadatoshi Tsuji
定利 辻
Kazuhiro Yamamoto
山本 和博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Construction Co Ltd
Original Assignee
Mitsui Construction Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Construction Co Ltd filed Critical Mitsui Construction Co Ltd
Priority to JP19669186A priority Critical patent/JPS6351520A/ja
Publication of JPS6351520A publication Critical patent/JPS6351520A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (a)、産業上の利用分野 本発明は、軟弱地盤等において地繋沈下に際して地盤側
から基礎や構造P等の部材に作用するネガティブフリク
ションを低減する方法に関する。
(b)、従来の技術 従来、こうしたネガティブフリクシシンを低減する方法
としては、基礎や構造物等の部材の軟弱地盤等の沈下地
盤に接する部分にコールタールやアスファルト等の瀝青
材等を塗布し、MK層を形成する方法が知られていた。
(C)0発明が解決しようとする問題点しかし、地盤の
沈下は通常、地表面部分が一番大きく、支持地盤に近く
につれて小さくなる傾向が有り、単に均一な厚さの41
4層を形成しても、ネガティブフリクションを効果的に
吸収することが出来ない不都合が有った。
本発明は、前述の欠点を解消すべく、地盤の沈下量に応
じてネガティブフリクションを効果的に吸収することが
出来るネガティブフリクションの低減方法を提供するこ
とを目的とするものである。
(d)0問題点を解決するための手段 即ち、本発明は、部材(5)の表面(5a)にネガティ
ブフリクションによろせん断変形が可能な緩衝層(6)
を、地表面(1)近くは厚く、支持地盤(3)近くは薄
くなるように形成して構成される。
なお、括弧内の番号等は、図面における対応する要素を
示す、便宜的なものであり、従って、本記述は図面上の
記載に限定拘束されるものではない。以下のr te+
 、作用」の欄についても同様である。
(e)0作用 上記した構成により、本発明は、ネガティブフリクショ
ンが大なる地表面(1)近くでは、厚い緩衝層(6)が
大きくせん断変形を生じて該ネガティブフリクシ7しを
吸収し、ネガティブフリクシ3ンが小なる支持地盤(3
)近くでは、薄い厚さの緩衝層(6)でも該緩衝層(6
)のせん断変形により十分にネガティブフリクションを
吸収することが出来るように作用する。
(f)、実施例 以下、本発明の実施例を図面に基づき説明する。
第1図は本発明によるネガティブフリクションの低減方
法の一実施例を示す図で、(alは地盤の状態を示す図
、(b)はそのN値を示す図、(ciは地盤の沈下量を
示す図、(dlは緩衝層の形成厚さを示す図である。
地盤は、第1図(alに示すように、地表面1から所定
深さまでは軟弱地盤2で形成されており、軟弱地盤2の
図中下方には強固な支持地盤3が存在している。一方、
地表面1から支持+fi、FxL3までの間には、第1
図(d)に示すように、基礎や構造物を構成する部材5
が設置されており、その表面5aにはコールタールやア
スファルト等のJ部材等を塗布した緩(資)層6が形成
されている。緩衝層6の厚Tさは、地表面1に近いほど
厚く形成されており、支持地盤3に近づくにつれて薄く
形成されている。
また、第1図(blには第1図(a)に示す地盤のN値
を示し、更に第1図(clには第1図fatに示す軟弱
地盤2の地盤沈下量X1を示す。この図からも明らかな
ように、地盤沈下量x1は、地表面1に近いほど大きく
、支持地盤3に近くにつれ小さくなる。従って、部材5
に作用するネガティブフリクションも当然、地表面1に
近いほど大きく、支持地盤3に近くにつれ小さくなる。
しかし、既に述べたように、緩衝層6の厚Tさは、地表
面1に近いほど厚く形成されており、支持地盤3に近く
につれて薄く形成されているので、ネガティブフリクシ
ョンが大なる地表面1近くでは、厚い緩衝層6が大きく
せん断変形を生じて該ネガティブフリクションを吸収し
、ネガティブフづクションが小なる支持地盤3近くでは
、薄い厚さの緩衝層6でも該緩衝R6のせん断変形によ
り十分にネガティブフリクションを吸収することが出来
る。
なお、部材5としては、第1図(d)に示す、H形鋼状
のものに限らず、棒状のもの、連続壁状のものなど各種
の形態が考えられろことは勿論である。
(g)0発明の効果 以上、説明したように、本発明によれば、部材5の表面
5aにネガティブフリクションにょるせん断変形が可能
な緩衝層6を、地表面1近くは厚く、支持地盤3近くは
薄くなるように形成して構成したので、地表面1近くで
最も大きく、支持地盤3側に近づくにつれて小さくなる
沈下量x1に伴うネガティブフリクションを効果的に吸
収することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるネガティブフ・ツクジョンの低減
方法の一実施例を示す図で、(Aiは地盤の状態を示す
図、(blはそのN値を示す図、(c)は地盤の沈下量
を示す図、fdlは緩衝層の形成厚さを示す図である。 1・・・・・地表面 2・・・・・・軟弱地R 3・・・・支持地盤 5・・・・部材 6 ・・・・緩闇層 出願人     三井建設株式会社 代理人   弁理士  相1)伸二 (ほか1名) 第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 軟弱地盤中を支持地盤に向けて設けられた 部材において、該部材に作用する軟弱地盤の地盤沈下に
    伴うネガティブフリクションを低減する場合に、 前記部材の表面に前記ネガティブフリクシ ョンによるせん断変形が可能な緩衝層を、地表面近くは
    厚く、支持地盤近くは薄くなるように形成して構成した
    ネガティブフリクションの低減方法。
JP19669186A 1986-08-22 1986-08-22 ネガテイブフリクシヨンの低減方法 Pending JPS6351520A (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4879410A (ja) * 1972-01-13 1973-10-24
JPS5323106B2 (ja) * 1973-05-17 1978-07-12
JPS5934329A (ja) * 1982-08-17 1984-02-24 Fujita Corp

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4879410A (ja) * 1972-01-13 1973-10-24
JPS5323106B2 (ja) * 1973-05-17 1978-07-12
JPS5934329A (ja) * 1982-08-17 1984-02-24 Fujita Corp

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