JPS635301A - 反射鏡 - Google Patents
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- JPS635301A JPS635301A JP14901686A JP14901686A JPS635301A JP S635301 A JPS635301 A JP S635301A JP 14901686 A JP14901686 A JP 14901686A JP 14901686 A JP14901686 A JP 14901686A JP S635301 A JPS635301 A JP S635301A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、白熱ランプ、ハロゲンランプ、水銀灯等の
照明器具に使用される冑効率反射鏡に関する。
照明器具に使用される冑効率反射鏡に関する。
白熱ランプ、ハロゲンランプ、水銀灯等の照明器具の照
射効率を高めるために反射鏡が使用されている。
射効率を高めるために反射鏡が使用されている。
このような反射鏡は、たとえば、金属基材を化学研磨、
電解研磨9胴布研磨等によって研磨して鏡面としたり、
第3図にみるように、金属、プラスチック、ガラス、セ
ラミック等の基材3表面に直接に、あるいは、有機塗装
被膜等の下地層を介して、AI、 Ag等の光輝性金属
膜4を形成して鏡面とした表面に、アルマイト、透明塗
装膜、金属酸化物膜等の透明な保護被膜6を形成するこ
とで製造されている。
電解研磨9胴布研磨等によって研磨して鏡面としたり、
第3図にみるように、金属、プラスチック、ガラス、セ
ラミック等の基材3表面に直接に、あるいは、有機塗装
被膜等の下地層を介して、AI、 Ag等の光輝性金属
膜4を形成して鏡面とした表面に、アルマイト、透明塗
装膜、金属酸化物膜等の透明な保護被膜6を形成するこ
とで製造されている。
このような反射鏡1′は、製造初期には、非常に反射効
率が良く、たとえば、可視域(380〜780nm)で
は80〜96%の反射率を示す。
率が良く、たとえば、可視域(380〜780nm)で
は80〜96%の反射率を示す。
ところが、このような反射鏡1′は、長期間使用すると
、その表面に、雰囲気中の浮遊物(主に有機物質)が汚
れとして付着し、反射効率が低下する、と言う問題があ
る。たとえば、使用する条件にもよるが、−年間使用す
ると、20〜50%も反射効率が低下してしまう場合も
ある。このため、このような反射鏡1′を使用するにあ
たっては、必要に応じて、その表面の清掃を行う必要が
あるが、特に有機物の汚れは、ランプの熱により反射鏡
表面に焼き付いてしまうため、容易に取り除くことがで
きなくなってしまう。
、その表面に、雰囲気中の浮遊物(主に有機物質)が汚
れとして付着し、反射効率が低下する、と言う問題があ
る。たとえば、使用する条件にもよるが、−年間使用す
ると、20〜50%も反射効率が低下してしまう場合も
ある。このため、このような反射鏡1′を使用するにあ
たっては、必要に応じて、その表面の清掃を行う必要が
あるが、特に有機物の汚れは、ランプの熱により反射鏡
表面に焼き付いてしまうため、容易に取り除くことがで
きなくなってしまう。
この発明は、以上の事情に鑑みてなされたものであって
、初期の高い反射率を長期間に渡って維持することがで
きる反射鏡を提供することを目的としている。
、初期の高い反射率を長期間に渡って維持することがで
きる反射鏡を提供することを目的としている。
以上の目的を達成するため、この発明は、鏡面を有する
反射鏡であって、前記鏡面上の最上層に、透明な光触媒
層が形成されていることを特徴とする反射鏡を要旨とし
ている。
反射鏡であって、前記鏡面上の最上層に、透明な光触媒
層が形成されていることを特徴とする反射鏡を要旨とし
ている。
以下に、この発明を、その一実施例をあられす図面を参
照しつつ、詳しく説明する。
照しつつ、詳しく説明する。
第1図にみるように、この発明の反射鏡1は、たとえば
、白熱ランプ、ハロゲンランプ、水銀灯等の光源2の後
方に設けられて使用されるものである。
、白熱ランプ、ハロゲンランプ、水銀灯等の光源2の後
方に設けられて使用されるものである。
この実施例では、第2図にみるように、基材3表面に直
接に、あるいは、有i=装被膜等の下地層を介して、A
I、 Ag等の光輝性金属膜4を形成して鏡面5が形成
されている。
接に、あるいは、有i=装被膜等の下地層を介して、A
I、 Ag等の光輝性金属膜4を形成して鏡面5が形成
されている。
基材3の材料としては、これに限定されるものではない
が、たとえば、金属、プラスチック、ガラス、セラミッ
ク等を使用することができる。また、以上のような鏡面
5は、金属基材を化学研磨、電解研磨2胴布研磨等によ
って研磨して形成されるようであっても構わない。
が、たとえば、金属、プラスチック、ガラス、セラミッ
ク等を使用することができる。また、以上のような鏡面
5は、金属基材を化学研磨、電解研磨2胴布研磨等によ
って研磨して形成されるようであっても構わない。
以上のようにして形成された鏡面5の表面には、必要に
応じて、従来と同様な保護被膜6を形成してもよい。
応じて、従来と同様な保護被膜6を形成してもよい。
このような保護被膜6の材料としては、これに限定され
るものではないが、たとえば、鏡面5が金属基材表面を
研磨したものである場合には、その表面を酸化してなる
アルマイト等の酸化膜を、また、鏡面5が基材3表面に
光輝性金属膜4を形成してなるものである場合には、有
機塗料等の透明塗装膜、5i02. Al2O2、Ce
0z、 Mgh等を真空薄着等の方法で形成した金属酸
化物膜等を使用することができる。
るものではないが、たとえば、鏡面5が金属基材表面を
研磨したものである場合には、その表面を酸化してなる
アルマイト等の酸化膜を、また、鏡面5が基材3表面に
光輝性金属膜4を形成してなるものである場合には、有
機塗料等の透明塗装膜、5i02. Al2O2、Ce
0z、 Mgh等を真空薄着等の方法で形成した金属酸
化物膜等を使用することができる。
以上のようにして形成された鏡面5上に、前記保護被膜
6を介して、あるいは、介さず直接に、その最上層に、
透明な光触媒層7が形成されることで、この発明の反射
鏡1は構成されている。
6を介して、あるいは、介さず直接に、その最上層に、
透明な光触媒層7が形成されることで、この発明の反射
鏡1は構成されている。
このような光触媒層7に使用される物質としては、Ti
0z、’Fe2O:+ 、 In2O3および−o3か
らなる群より選ばれた少なくとも1つの化合物を挙げる
ことができる。このような化合物を前記光触媒層とする
方法は、この発明では特に限定されないが、たとえば、
以下の方法によることができる。
0z、’Fe2O:+ 、 In2O3および−o3か
らなる群より選ばれた少なくとも1つの化合物を挙げる
ことができる。このような化合物を前記光触媒層とする
方法は、この発明では特に限定されないが、たとえば、
以下の方法によることができる。
抵抗加熱による真空蒸着法、スパッタリング法、電子銃
による電子ビーム蒸着法およびイオンブレーティング法
等の真空プロセス、 前記化合物中の金属(Ti、 Fe、 In、 W等)
を含む有機金属化合物溶液を、鏡面5上に塗布し、乾燥
したあと、それを高温で焼き付ける方法、前記化合物の
微粒子粉末を透明塗料中にl捏合分散させておき、これ
を鏡面5上に塗布乾燥させて塗膜を形成する方法等。
による電子ビーム蒸着法およびイオンブレーティング法
等の真空プロセス、 前記化合物中の金属(Ti、 Fe、 In、 W等)
を含む有機金属化合物溶液を、鏡面5上に塗布し、乾燥
したあと、それを高温で焼き付ける方法、前記化合物の
微粒子粉末を透明塗料中にl捏合分散させておき、これ
を鏡面5上に塗布乾燥させて塗膜を形成する方法等。
なお、最後の、微粒子粉末を透明塗料中に混合分散させ
ておいて、それによって塗膜を形成する方法では、分散
させる化合物の微粒子粉末の粒径が0.1−以下であり
、透明塗料に対する添加量が10〜20%であることが
好ましい。なぜなら、微粒子粉末の粒径が0.1μmを
越えると、この微粒子粉末による隠蔽が強くなって塗膜
の透明性が低下する傾向がある。また、添加量が10%
未満では添加した効果が充分でなく、逆に20%を越え
ると、やはり、塗膜の透明性が低下する傾向があるから
である。
ておいて、それによって塗膜を形成する方法では、分散
させる化合物の微粒子粉末の粒径が0.1−以下であり
、透明塗料に対する添加量が10〜20%であることが
好ましい。なぜなら、微粒子粉末の粒径が0.1μmを
越えると、この微粒子粉末による隠蔽が強くなって塗膜
の透明性が低下する傾向がある。また、添加量が10%
未満では添加した効果が充分でなく、逆に20%を越え
ると、やはり、塗膜の透明性が低下する傾向があるから
である。
前記各方法で形成される光触媒層7の膜厚は、この発明
では、特に限定されるものではないが、0.5〜5μm
程度であることが好ましい。なぜなら、光触媒層7の膜
厚が0.5 trm未満では、その触媒効果が充分でな
く、逆に、光触媒層7の膜厚が5μmを越えると、場合
によっては、その透明性が著しく低下する恐れがあり、
透明性が低下しない場合であっても、5−以下の場合と
触媒効果が余り変わらない傾向があるからである。
では、特に限定されるものではないが、0.5〜5μm
程度であることが好ましい。なぜなら、光触媒層7の膜
厚が0.5 trm未満では、その触媒効果が充分でな
く、逆に、光触媒層7の膜厚が5μmを越えると、場合
によっては、その透明性が著しく低下する恐れがあり、
透明性が低下しない場合であっても、5−以下の場合と
触媒効果が余り変わらない傾向があるからである。
以上のような光触媒層7には、さらに、Pi、 Pd、
RhおよびIrよりなる群から選ばれた少なくとも1
つの金属を担持させるようであってもよい。このような
金属は、付着した汚れを分解する触媒として働(もので
あって、それを光触媒層7に担持させることにより、汚
れの除去作用をより活発に行わせることができるように
なるのである。
RhおよびIrよりなる群から選ばれた少なくとも1
つの金属を担持させるようであってもよい。このような
金属は、付着した汚れを分解する触媒として働(もので
あって、それを光触媒層7に担持させることにより、汚
れの除去作用をより活発に行わせることができるように
なるのである。
このような金属を光触媒層7に担持させる方法は、この
発明では、特に限定されないが、たとえば、以下のよう
な方法を用いることができる。すなわち、前記金属の可
溶性塩を水溶液とし、それに前記光触媒層7が形成され
た反射鏡1を浸漬して、前記可溶性塩を光触媒層7に染
み込ませる。
発明では、特に限定されないが、たとえば、以下のよう
な方法を用いることができる。すなわち、前記金属の可
溶性塩を水溶液とし、それに前記光触媒層7が形成され
た反射鏡1を浸漬して、前記可溶性塩を光触媒層7に染
み込ませる。
そのあと、これに、紫外線等を照射して可溶性塩を分解
し、光触媒層7中に、前記金属を担持させるのである。
し、光触媒層7中に、前記金属を担持させるのである。
なお、以上のようにして担持させる金属の量も、この発
明では特に限定されないが、光触媒層に対して、0.1
〜2%の金属を担持させることが好ましい。なぜなら、
担持量が0.1%未満では、担持させる効果が充分に得
られず、2%を越えると、光触媒層の透明性が低下して
しまう恐れがあるからである。
明では特に限定されないが、光触媒層に対して、0.1
〜2%の金属を担持させることが好ましい。なぜなら、
担持量が0.1%未満では、担持させる効果が充分に得
られず、2%を越えると、光触媒層の透明性が低下して
しまう恐れがあるからである。
以上のように、最上層に光触媒層7が形成された、この
発明の反射鏡1においては、雰囲気中の浮遊物が汚れと
して付着しても、それは、前記光触媒層7中のTiO2
,Fears 、 In2O3および−03等の金属化
合物や、Pt、 Pd、 Rhおよびrr等の金属と、
光源からの紫外線との作用によって分解され除去される
。したがって、このような汚れが、光触媒層7表面に残
ることはなく、反射鏡表面を常に清潔に保つことができ
るようになる。
発明の反射鏡1においては、雰囲気中の浮遊物が汚れと
して付着しても、それは、前記光触媒層7中のTiO2
,Fears 、 In2O3および−03等の金属化
合物や、Pt、 Pd、 Rhおよびrr等の金属と、
光源からの紫外線との作用によって分解され除去される
。したがって、このような汚れが、光触媒層7表面に残
ることはなく、反射鏡表面を常に清潔に保つことができ
るようになる。
つぎに、この発明の実施例について、比較例とあわせて
、説明する。
、説明する。
(実施例1)
プレスあるいはヘラ絞り等の方法で所望の形状に成形さ
れたアルミニウム基板表面を脱脂後、リン酸72.3重
量%、硝酸6.9重量%、水18.9重盪%2リン酸ア
ルミニウム1.9重量%からなり100℃に加熱された
化学研磨液中に120秒間浸漬して、その表面を研磨し
た。その後このアルミニウム基板を充分に水洗、乾燥し
て、鏡面を得た。この鏡面に対し、酸化チタンの微粒子
粉末(粒径0.08−)を10%添加したシリコン系透
明塗料をスプレー法によって塗布し、220〜250°
Cで20分間の焼付を行い、厚み3〜5μmの透明な光
触媒層が形成された反射鏡を得た。得られた反射鏡は、
可視光線(380〜780μm)の平均反射率が85%
であった。以上のような反射鏡を、水銀灯使用の高天井
用照明器具に使用したところ、10000時間運転後も
、その表面への汚れの付着は殆ど認められず、また、平
均反射率も殆ど変化しなかった。
れたアルミニウム基板表面を脱脂後、リン酸72.3重
量%、硝酸6.9重量%、水18.9重盪%2リン酸ア
ルミニウム1.9重量%からなり100℃に加熱された
化学研磨液中に120秒間浸漬して、その表面を研磨し
た。その後このアルミニウム基板を充分に水洗、乾燥し
て、鏡面を得た。この鏡面に対し、酸化チタンの微粒子
粉末(粒径0.08−)を10%添加したシリコン系透
明塗料をスプレー法によって塗布し、220〜250°
Cで20分間の焼付を行い、厚み3〜5μmの透明な光
触媒層が形成された反射鏡を得た。得られた反射鏡は、
可視光線(380〜780μm)の平均反射率が85%
であった。以上のような反射鏡を、水銀灯使用の高天井
用照明器具に使用したところ、10000時間運転後も
、その表面への汚れの付着は殆ど認められず、また、平
均反射率も殆ど変化しなかった。
(実施例2)
プレス成形によってパラボラ形に成形された硬質ガラス
基材の表面に、lXl0−s〜lXl0−’Torrの
真空下、抵抗加熱蒸着法によって厚み700〜1000
人の光輝性アルミニウム膜を形成した。つぎに、この光
輝性アルミニウム膜の上に、I X 10−’〜5 X
10−’Torrの真空下、電子ビーム蒸着法によっ
て厚み4000〜7000人の透明な二酸化珪素保護被
膜を形成した。このあと、この上に、さらに、電子ビー
ム蒸着法により、厚み1.0〜1.2μmの酸化チタン
製光触媒層を形成し、反射鏡を得た。得られた反射鏡は
、可視光線の平均反射率が90%であった。以上のよう
な反射鏡を、ミニハロゲンランプスポットライトに使用
したところ、10000時間運転後も、その表面への汚
れの付着は殆ど認められず、また、平均反射率も殆ど変
化しなかった。
基材の表面に、lXl0−s〜lXl0−’Torrの
真空下、抵抗加熱蒸着法によって厚み700〜1000
人の光輝性アルミニウム膜を形成した。つぎに、この光
輝性アルミニウム膜の上に、I X 10−’〜5 X
10−’Torrの真空下、電子ビーム蒸着法によっ
て厚み4000〜7000人の透明な二酸化珪素保護被
膜を形成した。このあと、この上に、さらに、電子ビー
ム蒸着法により、厚み1.0〜1.2μmの酸化チタン
製光触媒層を形成し、反射鏡を得た。得られた反射鏡は
、可視光線の平均反射率が90%であった。以上のよう
な反射鏡を、ミニハロゲンランプスポットライトに使用
したところ、10000時間運転後も、その表面への汚
れの付着は殆ど認められず、また、平均反射率も殆ど変
化しなかった。
(実施例3)
実施例2と同様にして、二酸化珪素保護被膜までを形成
した硬質ガラス基材を、テトライソプロポキシチタン(
Ti(0−iC3H7)4) (7) 5%エタ) −
/L。
した硬質ガラス基材を、テトライソプロポキシチタン(
Ti(0−iC3H7)4) (7) 5%エタ) −
/L。
282反に繰り返し浸ン貞、乾燥させたあと、500
’cで30分間焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が
形成された反射鏡を得た。形成された光触媒層の膜厚は
1.0μmであった。つぎに、この反射鏡を、塩化白金
水溶液に浸漬したあと、これに紫外線を照射して、光触
媒層に白金を担持させた。光触媒層への白金の担持量は
1%であった。こうして得られた反射鏡は、可視光線の
平均反射率が90%であった。以上のような反射鏡を、
ミニハロゲンランプスポットライトに使用したところ、
10000時間運転後も、その表面への汚れの付着は殆
ど認められず、また、平均反射率も殆ど変化しなかった
。
’cで30分間焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が
形成された反射鏡を得た。形成された光触媒層の膜厚は
1.0μmであった。つぎに、この反射鏡を、塩化白金
水溶液に浸漬したあと、これに紫外線を照射して、光触
媒層に白金を担持させた。光触媒層への白金の担持量は
1%であった。こうして得られた反射鏡は、可視光線の
平均反射率が90%であった。以上のような反射鏡を、
ミニハロゲンランプスポットライトに使用したところ、
10000時間運転後も、その表面への汚れの付着は殆
ど認められず、また、平均反射率も殆ど変化しなかった
。
(比較例1)
最上層に光触媒層を形成しなかった以外は、実施例2.
3と同様にして反射鏡を作製した。得られた反射鏡の製
造直後の可視光線の平均反射率は90%であった。この
反射鏡を、ミニハロゲンランプスポットライトに使用し
たところ、10000時間運転後には、その表面に、か
なりの汚れが付着していることが観察され、可視光線の
平均反射率が78%に低下していた。
3と同様にして反射鏡を作製した。得られた反射鏡の製
造直後の可視光線の平均反射率は90%であった。この
反射鏡を、ミニハロゲンランプスポットライトに使用し
たところ、10000時間運転後には、その表面に、か
なりの汚れが付着していることが観察され、可視光線の
平均反射率が78%に低下していた。
(実施例4)
実施例2と同様にして、二酸化珪素保護被膜までを形成
した硬質ガラス基材に、さらに、1×10−5〜I X
10−’Torrの真空下、電子ビーム1着法により
、厚み1.0〜1.2−の酸化インジウム製光触媒層を
形成し、反射鏡を得た。得られた反射鏡は、可視光線の
平均反射率が88%であった。
した硬質ガラス基材に、さらに、1×10−5〜I X
10−’Torrの真空下、電子ビーム1着法により
、厚み1.0〜1.2−の酸化インジウム製光触媒層を
形成し、反射鏡を得た。得られた反射鏡は、可視光線の
平均反射率が88%であった。
以上のような反射鏡を、ミニハロゲンランプスポットラ
イトに使用したところ、10000時間運転後も、その
表面への汚れの付着は殆ど認められず、また、平均反射
率も殆ど変化しなかった。
イトに使用したところ、10000時間運転後も、その
表面への汚れの付着は殆ど認められず、また、平均反射
率も殆ど変化しなかった。
(実施例5)
前記実施例4で得られた反射鏡を、塩化パラジウム水溶
液に浸漬し乾燥させたあと、これに紫外線を照射して、
光触媒層にパラジウムを0.5%担持させた。こうして
得られた反射鏡は、可視光線の平均反射率が88%であ
った。以上のような反射1を、ミニハロゲンランプスポ
ットライトに使用したところ、10000時間運転後も
、その表面への汚れの付着は殆ど認められず、また、平
均反射率も殆ど変化しなかった。
液に浸漬し乾燥させたあと、これに紫外線を照射して、
光触媒層にパラジウムを0.5%担持させた。こうして
得られた反射鏡は、可視光線の平均反射率が88%であ
った。以上のような反射1を、ミニハロゲンランプスポ
ットライトに使用したところ、10000時間運転後も
、その表面への汚れの付着は殆ど認められず、また、平
均反射率も殆ど変化しなかった。
この発明の反射鏡は以上のようであり、鏡面上の最上層
に、透明な光触媒層が形成されているため、初期の高い
反射率を長期間に渡って維持することができるようにな
っている。
に、透明な光触媒層が形成されているため、初期の高い
反射率を長期間に渡って維持することができるようにな
っている。
第1図はこの発明の反射鏡を照明器具に使用する場合の
構成を説明する説明図、第2図はこの発明の一実施例の
構成を説明する説明図、第3図は従来の反射鏡を照明器
具に使用する場合の構成を説明する説明図である。 1・・・反射鏡 5・・・鏡面 7・・・光触媒層代理
人 弁理士 松 本 武 彦 第1図 第3図
構成を説明する説明図、第2図はこの発明の一実施例の
構成を説明する説明図、第3図は従来の反射鏡を照明器
具に使用する場合の構成を説明する説明図である。 1・・・反射鏡 5・・・鏡面 7・・・光触媒層代理
人 弁理士 松 本 武 彦 第1図 第3図
Claims (3)
- (1)鏡面を有する反射鏡であって、前記鏡面上の最上
層に、透明な光触媒層が形成されていることを特徴とす
る反射鏡。 - (2)光触媒層が、TiO_2、Fe_2O_3、In
_2O_3およびWO_3からなる群より選ばれた少な
くとも1つである特許請求の範囲第1項記載の反射鏡。 - (3)光触媒層に、Pt、Pd、RhおよびIrよりな
る群から選ばれた少なくとも1つの金属が担持されてい
る特許請求の範囲第1項または第2項記載の反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14901686A JPS635301A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14901686A JPS635301A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS635301A true JPS635301A (ja) | 1988-01-11 |
Family
ID=15465828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14901686A Pending JPS635301A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS635301A (ja) |
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-
1986
- 1986-06-25 JP JP14901686A patent/JPS635301A/ja active Pending
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