JPS635351B2 - - Google Patents
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- JPS635351B2 JPS635351B2 JP56137358A JP13735881A JPS635351B2 JP S635351 B2 JPS635351 B2 JP S635351B2 JP 56137358 A JP56137358 A JP 56137358A JP 13735881 A JP13735881 A JP 13735881A JP S635351 B2 JPS635351 B2 JP S635351B2
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- sic
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- powder
- magnetic head
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/56—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides
- C04B35/565—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides based on silicon carbide
- C04B35/573—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides based on silicon carbide obtained by reaction sintering or recrystallisation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
本願発明は磁気ヘツド・スライダー及びその製
造方法に関するものである。 従来コンピユータ用をはじめとし、オーデイオ
用、VTR用等の記録再生用磁気ヘツドには多結
晶Ni―Zn、Mn―Znフエライトや単結晶Mn―Zn
フエライトあるいは高硬度パーマロイなどが用い
られていた。 今日では記録密度の高密度化並びに耐摩耗性の
改善が強く求められており、この為薄膜磁気ヘツ
ド化が進められている。この薄膜磁気ヘツド化に
伴い記録再生の為の磁気回路部材用材料とスライ
ダーあるいは耐摩耗用部材材料に、それぞれ要求
される特性を満足した個別の材料が選定されつつ
ある。すなわち磁気回路用としては高周波域の磁
気特性に優れたパーマロイやセンダストの薄膜が
用いられ又耐摩耗用部材としてはアルミナ系、炭
化物系材料が望ましいと考えられている。磁気ヘ
ツド・スライダー用材料として特開昭55−163665
号公報に示されるAl2O3―TiC系材料は上記耐摩
耗用部材材料に最適な材料の１つであるが、記録
媒体とのなじみ、潤滑性の点では必ずしも安定し
た材料とはいえない。特に今後実用化が予想され
る薄膜記録媒体すなわちメツキ媒体あるいはスパ
ツタリング媒体の場合には媒体の厚みが薄くなる
こと、媒体に潤滑保護膜をつけること等の点で問
題を生じる。又これまで長期間にわたつて使用さ
れてきたソフトフエライトはその硬さがHv＝600
〜800であるのに対して上記公報記載のAl2O3―
TiC系材料はHv＝1900〜2100の硬さを有するた
めに、媒体によつては適用が困難な場合が生じ
る。 この発明は磁気ヘツド・スライダー用材料に要
求される諸特性を満たし特に記録媒体とのなじ
み、潤滑性に優れた材料及びその製造方法に係
り、その要旨は、ケイ素５〜10重量％、ケイ化タ
ングステン1.3〜7.8重量％、残部が炭化ケイ素か
ら成る磁気ヘツド・スライダー用材料及び炭化ケ
イ素粉末60〜80重量％、残部炭素粉末から成るも
の100重量部に対しタングステン粉末２〜10重量
部と、セルロース１〜５重量部との混合成形物か
ら得た圧粉体を非酸化性雰囲気にて加熱した仮焼
体に溶融金属ケイ素を含浸せしめることを特徴と
する磁気ヘツド・スライダー用材料の製造方法で
ある。 本願製造方法にあつて、溶融金属ケイ素を仮焼
体に含浸せしめた後、更に引続いて熱間等方圧加
圧焼結を施すと一層優れた材料を得ることができ
るものである。 この発明においてWSi2の添加はSiC成形体の耐
酸化性の向上を目的としたものでWSi2が1.3重量
％未満ではその効果があまり認められず逆に7.8
重量％を越えればSiCとの熱膨脹率の違いによつ
て耐酸化性が逆に悪くなる。Siは５重量％以下で
は緻密なSiC成形体が得られず、SiC成形体を研
磨した場合表面に小さな気孔を生じる。また10重
量％を超えると耐食性及び強度の点で問題があり
またSiC成形体を研磨する場合SiC相とSi相で硬
さが異なるためきれいな面が得られ難いという欠
点がある。一方SiC―WSi2―Si成形体の製造法に
おいてSiCとＣとの配合比はSiC60〜80重量％、
C40〜20重量％の範囲のものがよい。この範囲外
のものでもWSi2を添加することによつて耐酸化
性の向上は認められるものの強度的に低下がみら
れ磁気ヘツド・スライダー用材料としては不適で
ある。また耐酸化性及び緻密性に優れたSiC系焼
結体としてSiC―WSi2―Siの他SiC―MoSi2―Si
も同じ性質をもち、しかも同じ製造法にて製造で
きる。熱間等方圧加圧焼結による焼結は温度1300
℃以上、圧力は少なくとも500Kg／cm2必要である。
この理由として、SiC―Ｃ―Siの未反応部が高温
高圧により、より反応の促進が行なわれるものと
思われる。なお、SiC、ＷとＣの混合成形品を製
造する時に微結晶のセルロースを均一に同時に混
入し成形し、仮焼時に3000〜10000A（0.3〜1μm）
の範囲の繊維状マクロポアーを規則正しく規制す
る。この細孔を有する仮焼体は溶融Siを仮焼体内
部まで注入するのに極めて良好であり従来の方法
により製造された仮焼体に比較して溶融Siの浸透
速度は数倍以上となり、厚肉で高密度のSiC系焼
結体を短時間で得ることができ、しかもSiC系焼
結体の表層部と内部とでは材質的に均一なものが
得られ、従来の方法で製造されたSiC系焼結体の
如く反応焼結後表層部を削除する必要がない。
SiC系仮焼体内に繊維状マイクロポアーを生ぜし
めるために用いる微結晶セルロースは、木材、
綿、麻など植物の細胞膜の主成分であり、その構
造は分子が比較的規則正しく平行に配列している
結晶領域のものがよく、特に高純度の精製パルプ
より製造されたものがよい。これは仮焼後不純物
の混入を防ぐためである。また、微結晶セルロー
スを添加させた場合マイクロポアーを作り、Siの
注入を容易にするばかりでなく、SiC―Ｗ―Ｃ混
合粉末を室温で加圧成形する際、添加した微結晶
セルロースが容易に粒子の絡み合いを生じ粉体の
成形性を良好とし、複雑形状の成形品をも製造で
きるという利点がある。また磁気ヘツド・スライ
ダー用材料として要求されている材料の均一性に
おいてその効果は著しい。また高密度SiC系焼結
体を製造する場合SiC―Ｗ―Ｃ圧粉体はより高密
度の圧粒体とする必要があるが、その際本添加物
の効果は大きく、セルロースは１〜５重量部の添
加時にその効果は大となる。 以下本願発明を開発するに至つた実験並びにそ
の結果を説明する。即ち、 平均粒子径9μmをもつα型SiC粉末70重量％と
平均粒子径0.01μmカーボンブラツク30重量％か
らなるもの100に対し、セルロース１重量部と平
均粒子径2μmのＷ粉末を４重量部配合した粉末に
ワツクスを添加し造粒する。これを1000Kg／cm2の
圧力で30×10×５mmに成形した後、真空中700℃
の温度にて仮焼する。該仮焼物の上に10ｇの金属
Siをのせ0.1〜0.5tonの減圧中で温度1500℃まで１
時間で昇温し、３時間保持して反応焼結した。こ
の様にして得られた焼結体（88.5SiC―7Si―
4.5WSi2）の物性値を下表に示す。
造方法に関するものである。 従来コンピユータ用をはじめとし、オーデイオ
用、VTR用等の記録再生用磁気ヘツドには多結
晶Ni―Zn、Mn―Znフエライトや単結晶Mn―Zn
フエライトあるいは高硬度パーマロイなどが用い
られていた。 今日では記録密度の高密度化並びに耐摩耗性の
改善が強く求められており、この為薄膜磁気ヘツ
ド化が進められている。この薄膜磁気ヘツド化に
伴い記録再生の為の磁気回路部材用材料とスライ
ダーあるいは耐摩耗用部材材料に、それぞれ要求
される特性を満足した個別の材料が選定されつつ
ある。すなわち磁気回路用としては高周波域の磁
気特性に優れたパーマロイやセンダストの薄膜が
用いられ又耐摩耗用部材としてはアルミナ系、炭
化物系材料が望ましいと考えられている。磁気ヘ
ツド・スライダー用材料として特開昭55−163665
号公報に示されるAl2O3―TiC系材料は上記耐摩
耗用部材材料に最適な材料の１つであるが、記録
媒体とのなじみ、潤滑性の点では必ずしも安定し
た材料とはいえない。特に今後実用化が予想され
る薄膜記録媒体すなわちメツキ媒体あるいはスパ
ツタリング媒体の場合には媒体の厚みが薄くなる
こと、媒体に潤滑保護膜をつけること等の点で問
題を生じる。又これまで長期間にわたつて使用さ
れてきたソフトフエライトはその硬さがHv＝600
〜800であるのに対して上記公報記載のAl2O3―
TiC系材料はHv＝1900〜2100の硬さを有するた
めに、媒体によつては適用が困難な場合が生じ
る。 この発明は磁気ヘツド・スライダー用材料に要
求される諸特性を満たし特に記録媒体とのなじ
み、潤滑性に優れた材料及びその製造方法に係
り、その要旨は、ケイ素５〜10重量％、ケイ化タ
ングステン1.3〜7.8重量％、残部が炭化ケイ素か
ら成る磁気ヘツド・スライダー用材料及び炭化ケ
イ素粉末60〜80重量％、残部炭素粉末から成るも
の100重量部に対しタングステン粉末２〜10重量
部と、セルロース１〜５重量部との混合成形物か
ら得た圧粉体を非酸化性雰囲気にて加熱した仮焼
体に溶融金属ケイ素を含浸せしめることを特徴と
する磁気ヘツド・スライダー用材料の製造方法で
ある。 本願製造方法にあつて、溶融金属ケイ素を仮焼
体に含浸せしめた後、更に引続いて熱間等方圧加
圧焼結を施すと一層優れた材料を得ることができ
るものである。 この発明においてWSi2の添加はSiC成形体の耐
酸化性の向上を目的としたものでWSi2が1.3重量
％未満ではその効果があまり認められず逆に7.8
重量％を越えればSiCとの熱膨脹率の違いによつ
て耐酸化性が逆に悪くなる。Siは５重量％以下で
は緻密なSiC成形体が得られず、SiC成形体を研
磨した場合表面に小さな気孔を生じる。また10重
量％を超えると耐食性及び強度の点で問題があり
またSiC成形体を研磨する場合SiC相とSi相で硬
さが異なるためきれいな面が得られ難いという欠
点がある。一方SiC―WSi2―Si成形体の製造法に
おいてSiCとＣとの配合比はSiC60〜80重量％、
C40〜20重量％の範囲のものがよい。この範囲外
のものでもWSi2を添加することによつて耐酸化
性の向上は認められるものの強度的に低下がみら
れ磁気ヘツド・スライダー用材料としては不適で
ある。また耐酸化性及び緻密性に優れたSiC系焼
結体としてSiC―WSi2―Siの他SiC―MoSi2―Si
も同じ性質をもち、しかも同じ製造法にて製造で
きる。熱間等方圧加圧焼結による焼結は温度1300
℃以上、圧力は少なくとも500Kg／cm2必要である。
この理由として、SiC―Ｃ―Siの未反応部が高温
高圧により、より反応の促進が行なわれるものと
思われる。なお、SiC、ＷとＣの混合成形品を製
造する時に微結晶のセルロースを均一に同時に混
入し成形し、仮焼時に3000〜10000A（0.3〜1μm）
の範囲の繊維状マクロポアーを規則正しく規制す
る。この細孔を有する仮焼体は溶融Siを仮焼体内
部まで注入するのに極めて良好であり従来の方法
により製造された仮焼体に比較して溶融Siの浸透
速度は数倍以上となり、厚肉で高密度のSiC系焼
結体を短時間で得ることができ、しかもSiC系焼
結体の表層部と内部とでは材質的に均一なものが
得られ、従来の方法で製造されたSiC系焼結体の
如く反応焼結後表層部を削除する必要がない。
SiC系仮焼体内に繊維状マイクロポアーを生ぜし
めるために用いる微結晶セルロースは、木材、
綿、麻など植物の細胞膜の主成分であり、その構
造は分子が比較的規則正しく平行に配列している
結晶領域のものがよく、特に高純度の精製パルプ
より製造されたものがよい。これは仮焼後不純物
の混入を防ぐためである。また、微結晶セルロー
スを添加させた場合マイクロポアーを作り、Siの
注入を容易にするばかりでなく、SiC―Ｗ―Ｃ混
合粉末を室温で加圧成形する際、添加した微結晶
セルロースが容易に粒子の絡み合いを生じ粉体の
成形性を良好とし、複雑形状の成形品をも製造で
きるという利点がある。また磁気ヘツド・スライ
ダー用材料として要求されている材料の均一性に
おいてその効果は著しい。また高密度SiC系焼結
体を製造する場合SiC―Ｗ―Ｃ圧粉体はより高密
度の圧粒体とする必要があるが、その際本添加物
の効果は大きく、セルロースは１〜５重量部の添
加時にその効果は大となる。 以下本願発明を開発するに至つた実験並びにそ
の結果を説明する。即ち、 平均粒子径9μmをもつα型SiC粉末70重量％と
平均粒子径0.01μmカーボンブラツク30重量％か
らなるもの100に対し、セルロース１重量部と平
均粒子径2μmのＷ粉末を４重量部配合した粉末に
ワツクスを添加し造粒する。これを1000Kg／cm2の
圧力で30×10×５mmに成形した後、真空中700℃
の温度にて仮焼する。該仮焼物の上に10ｇの金属
Siをのせ0.1〜0.5tonの減圧中で温度1500℃まで１
時間で昇温し、３時間保持して反応焼結した。こ
の様にして得られた焼結体（88.5SiC―7Si―
4.5WSi2）の物性値を下表に示す。
【表】
次にアルミナ系材料（70Al2O3―30TiC）と本
発明品（88.5SiC―7Si―4.5WSi2）との試験片を
治具で固定し、これに滑車を介して10Kgの錘をつ
けレジンダイヤモンド切断砥石にて錘の力により
50mm長さを切断するに要する時間を調べた結果、
アルミナ系試験片50mmの長さを切断するに要する
時間を100とした場合、SiC系試験片は40の時間
で切断できた。このことはセラミツク系磁気ヘツ
ド・スライダー用材料に要求されている機械加工
性において本発明品が硬い材料であるにかかわら
ず優位な特性をもつていることが判る。次に本発
明品であるSiC―WSi―Si成形品をダイヤモンド
砥石により２×４mm断面の長さ20mmの長方体とな
しその一方端を鋭角な刃状に成形した。さらに外
径45mm、内径10mm、厚み10mmのドーナツ型円盤の
フエライトを用い、この発明の焼結体と組合せて
回転するフエライトに本願発明品たるSiC―WSi2
―Si成形品の鋭角な先端を当接させて行なう、い
わゆるピン・デイスク方位の摩耗試験を行なつ
た。 また上記試験の際に従来のMn―Zn多結晶フエ
ライト系材料（32MnO―15ZnO2―53Fe2O3）と
Al2O3―TiC系材料を用いて同様に摩耗試験を行
なつた。その結果を第１図及び第２図に示す。即
ち第１図に耐摩耗性と硬さとの関係を、また第２
図には相手材摩耗量と硬さとの関係をそれぞれ示
す。なお、両図における斜線部分が示す区域はお
よそ本願発明材料が有する各特性値に相当する。
この第１図、第２図からも判る如く本願発明材料
は従来のフエライト系材料と前記のAl2O3―TiC
系材料との中間よりAl2O3―TiC系側寄りの硬さ
を有しており、磁気ヘツド・スライダー用材料と
して優れた特性を有し、特に記録媒体とのなじ
み、潤滑性に優れ薄膜記録媒体に最適である。
発明品（88.5SiC―7Si―4.5WSi2）との試験片を
治具で固定し、これに滑車を介して10Kgの錘をつ
けレジンダイヤモンド切断砥石にて錘の力により
50mm長さを切断するに要する時間を調べた結果、
アルミナ系試験片50mmの長さを切断するに要する
時間を100とした場合、SiC系試験片は40の時間
で切断できた。このことはセラミツク系磁気ヘツ
ド・スライダー用材料に要求されている機械加工
性において本発明品が硬い材料であるにかかわら
ず優位な特性をもつていることが判る。次に本発
明品であるSiC―WSi―Si成形品をダイヤモンド
砥石により２×４mm断面の長さ20mmの長方体とな
しその一方端を鋭角な刃状に成形した。さらに外
径45mm、内径10mm、厚み10mmのドーナツ型円盤の
フエライトを用い、この発明の焼結体と組合せて
回転するフエライトに本願発明品たるSiC―WSi2
―Si成形品の鋭角な先端を当接させて行なう、い
わゆるピン・デイスク方位の摩耗試験を行なつ
た。 また上記試験の際に従来のMn―Zn多結晶フエ
ライト系材料（32MnO―15ZnO2―53Fe2O3）と
Al2O3―TiC系材料を用いて同様に摩耗試験を行
なつた。その結果を第１図及び第２図に示す。即
ち第１図に耐摩耗性と硬さとの関係を、また第２
図には相手材摩耗量と硬さとの関係をそれぞれ示
す。なお、両図における斜線部分が示す区域はお
よそ本願発明材料が有する各特性値に相当する。
この第１図、第２図からも判る如く本願発明材料
は従来のフエライト系材料と前記のAl2O3―TiC
系材料との中間よりAl2O3―TiC系側寄りの硬さ
を有しており、磁気ヘツド・スライダー用材料と
して優れた特性を有し、特に記録媒体とのなじ
み、潤滑性に優れ薄膜記録媒体に最適である。
第１図は各材料の耐摩耗性と硬さとの関係を示
すグラフ。第２図は同相手材摩耗量と硬さとの関
係を示すグラフである。
すグラフ。第２図は同相手材摩耗量と硬さとの関
係を示すグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ケイ素５〜10重量％、ケイ化タングステン
1.3〜7.8重量％、残部が炭化ケイ素から成る磁気
ヘツド・スライダー用材料。 ２ 炭化ケイ素粉末60〜80重量％、残部炭素粉末
から成るもの100重量部に対しタングステン粉末
２〜10重量部と、セルロース１〜５重量部との混
合成形物から得た圧粉体を非酸化性雰囲気にて加
熱した仮焼体に溶融金属ケイ素を含浸せしめるこ
とを特徴とする磁気ヘツド・スライダー用材料の
製造方法。 ３ 炭化ケイ素粉末60〜80重量％、残部炭素粉末
から成るもの100重量部に対しタングステン粉末
２〜10重量部と、セルロース１〜５重量部との混
合成形物から得た圧粉体を非酸化性雰囲気にて加
熱した仮焼体に溶融金属ケイ素を含浸した後、熱
間等方圧加圧焼結することを特徴とする磁気ヘツ
ド・スライダー用材料の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56137358A JPS5841467A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 磁気ヘツド・スライダ−用材料及びその製造方法 |
| US06/413,311 US4438213A (en) | 1981-08-31 | 1982-08-31 | Magnetic head slider material and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56137358A JPS5841467A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 磁気ヘツド・スライダ−用材料及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5841467A JPS5841467A (ja) | 1983-03-10 |
| JPS635351B2 true JPS635351B2 (ja) | 1988-02-03 |
Family
ID=15196786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56137358A Granted JPS5841467A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 磁気ヘツド・スライダ−用材料及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4438213A (ja) |
| JP (1) | JPS5841467A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4972336A (en) * | 1983-10-14 | 1990-11-20 | Applied Magnetics Corporation | Read while write magnetic head assembly |
| US5013583A (en) * | 1984-02-11 | 1991-05-07 | Teijin Limited | Method of producing a magnetic recording medium |
| EP0180242B1 (en) * | 1984-11-02 | 1991-01-23 | Teijin Limited | Magnetic recording medium, method for producing the same, and method of recording and reproduction using the same and magnetic head |
| US4626516A (en) * | 1985-07-31 | 1986-12-02 | General Electric Company | Infiltration of Mo-containing material with silicon |
| JPH07118073B2 (ja) * | 1986-05-14 | 1995-12-18 | 株式会社日立製作所 | 薄膜磁気ヘッドを搭載した磁気ディスク装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2412374A (en) | 1943-11-27 | 1946-12-10 | Wejnarth Axel Richard | Electrical resistance elements durable at high temperatures and proof against chemical action, and process of making same |
| US3036017A (en) | 1954-06-03 | 1962-05-22 | Kanthal Ab | Heat resistant and oxidation proof materials |
| SE394666B (sv) | 1974-07-29 | 1977-07-04 | Bulten Kanthal Ab | Anvendning av ett material bestaende av ett rekristalliserat skelett av kiselkarbid sasom vermebestendigt underlag for brenngods i brennugnar |
| US4251841A (en) | 1979-06-01 | 1981-02-17 | International Business Machines Corporation | Magnetic head slider assembly |
-
1981
- 1981-08-31 JP JP56137358A patent/JPS5841467A/ja active Granted
-
1982
- 1982-08-31 US US06/413,311 patent/US4438213A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4438213A (en) | 1984-03-20 |
| JPS5841467A (ja) | 1983-03-10 |
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