JPS6353731A - 光学ディスク読取装置用光学系及び部品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ビームスプリッタ、部分偏光子及び偏光セパ
レータを含む平形プレート光学部品、更にかかる平形プ
レート光学部品を具備した光学的ディスク読取装置用の
光学系に関する。

（従来の技術） ファラデー回転効果に基づ（磁気光学的記録方式では、
トラック上に記録された信号に従いトレースに沿ってフ
ァラデー回転効果が変化するように、トレースが磁気光
学的媒体上に生成される。

本発明は、平形プレート光学部品を用いて、そのような
トレースを読み取る系に係わる。

第１図は、上記トレースを読み取る光学系１０を概略的
に示す。直線偏光されたレーザビーム１１が、ターゲッ
トディスク１２のトラック上の小スポットに集束される
。つまり、レーザ光源１３からの直線偏光された光ビー
ム１１が、レンズ１４によって平行化された後、ビーム
スプリッタ１６を経て対物レンズ１７に至り、これが分
割後の光ビーム２１をディスク１２上の小スポット１８
に集束させる。一般に、読取系１０はディスク１２を横
切ってビーム２１を走査する通常の系（図示せず）も含
む。

入射ビーム２１はディスク１２で反射され、集束レンズ
１７を通って戻る。反射ビーム２２はまだ直線偏光され
ているが、ディスク１２上に被覆された磁気光学的媒体
のファラデー回転効果のため、偏光軸はわずかにシフト
している。偏光軸のシフトは小さく、０．１＠〜１″の
オーダである。

トラック上に記録された信号は、集束スポットがトレー
スに沿って走査されるとき、反射ビーム２２の偏光軸の
このシフトを測定することによって検出される。偏光軸
の変化を検知する一つの方法は、偏光セパレータ２４を
用いてビームスプリッタ１６からの出力ビーム２３を、
各々偏光の原軸に対して４５°偏光された２つの直交す
る直線偏光成分ビームＰとＳに分解することである。

第２図を参照すれば、ファラデー回転が存在しないとき
、両ビームＳとＰの強度２８．２９は正確に等しい（つ
まりＰ＝Ｓ）。再び第１図に戻ると、こうして得られた
両ビームＰとＳは収集レンズ２６により、電子光学的強
度検出器のアセンブリ２７へ入射するように差し向けら
れる。通常、検出器アセンブリ２７の２つの検出器から
の信号を電子的に減算する回路（不図示）が設けられて
いる。上記の場合、この回路は実質上ゼロの出力信号（
Ｐ−３＝Ｏ）を与える。

第３図に概略的に示すごとく、第１図のディスク１２に
おけるファラデー回転効果の結果生じるような小さい角
度αでの偏光軸の回転は、一方のビームの強度を他方よ
り大きくする（Ｐ＞Ｓ）。

従ってアセンブリ２７中の２検出器からの出力減算が、
正の信号をもたらす（Ｐ−３＞Ｏ）。

偏光軸の回転の効果は、基軸（Ｐ）に直角な偏光軸（Ｓ
）を優先する部分偏光子を戻りビーム２２内に置くこと
によって高めることができる。

第４図を参照すれば、ビーム２２の２つの直交偏光成分
への分割は、第１図に示した偏光セパレータ２４である
ウラストンプリズム３１を用いて通常行うことができる
。ウラスストンプリズム３１は、方解石や水晶等複屈性
結晶物質の２つの部片３２．３３から成る。両部片３２
．３３は面３４に沿って一体状に接着され、それぞれの
光軸が直交する。この結果、組立後のプリズム３１は相
互に直角な偏光であるビームＰとＳをわずかに異なる角
度で偏向し、両ビームは検出のためレンズ２６によって
分離可能となる。

（発明が解決しようとする問題） ウラストンプリズム等のプリズムは、偏光セパレータと
して使われる場合幾つかの有利な特徴を有する。例えば
、ウラストンプリズムは直線のビーム経路を与えるので
、そのビームを平行化する必要がない。さらに、プリズ
ムは非常に高い分離比と、Ｐ及び８両偏光に対して同一
の光路長を与える。しかし、大量生産の商業用途プリズ
ムは、これらをしのぐ幾つかの欠点を有する。第１に、
方解石等所望のプリズム材料は高価で、貴重である。第
２に、プリズム部品は製造及び組立が困難で、コスト高
である。さらに、３６及び３７等の受光面は反射防止コ
ーティング、あるいは他の光学素子とのマツチングを必
要とする。かかるコーティングは、特に小さいプリズム
が個々に被覆されねばならないため、困難且つコスト高
である。

プリズムがビームスプリッタ１６としてよく使われ、部
分偏光子のコーティングを備えることができる。しかし
前述のように、プリズムで使われる材料は高価で、受光
面は反射防止されるかまたは次の光学素子とマツチされ
ねばならず、更にプリズムは製造、被覆及び組立が困難
且つコスト高である。

上記の議論に照らし、本発明の一つの目的は、前述し第
１図に概略的に示したような型で、ビームスプリッタ、
部分偏光子及び偏光セパレータとして比較的安価で、容
易に製造できる部品を用いた光学系を提供することにあ
る。

一特徴において、本発明は入射直線偏光用の平形プレー
トビームスプリッタ及び部分偏光子に関し、第１の非被
覆主面と第２の部分偏光コーティングを持つ反対側の主
面とを有する平形の光学的に透明なプレートから成る。

平形プレートと非被覆第１面が直線偏光ビームに対する
ブルースター角近くに配向されると、プレートはビーム
中の第１の偏光成分を実質上全く反射しない（Ｒｒ＝ｏ
）。

つまり、偏光Ｐがプレートを横切って進む。第２面上の
光学的コーティングは、第２の偏光成分を実質上全て反
射する一方、第１の偏光成分を実質上消失させるように
設計される。（例えば、Ｒ８！１；Ｒ，χ０．２５）。

この結果、ビームスプリッタ／部分偏光子がレーザ光源
とファラデー回転効果ディスクの間に置かれると、第２
の偏光成分は全くプレートを通過せず、ファラデー効果
を受けた戻りビームの偏光軸の角度ズレが拡大され、強
度及び検出器信号の比がそれに応じて高められる。

別の特徴において、本発明は入射直線偏光ビームをＰと
Ｓ別々の偏光に分離する平形プレート偏光セパレ゛−夕
に関し、小さい選定角で配向された第１及び第２の光学
的に透明なプレートから成る。

各平形プレートは第１及び第２のはゾ平行な表面を有す
る。全偏光コーティングが第１プレートの第１面上に形
成され、該プレートとその第１面が入射光に対しブルー
スター角で配向されたとき、一方の偏光ビームは実質上
全反射され（Ｒ，：１）、他方は反射されずに第１プレ
ートを自由に通過する（ＲＰ：０）。第２プレートの第
１面は、第２プレートがブルースター角近くに配置され
たとき高い反射性となるコーティングを有する（Ｒ３＝
１；Ｒｐ＝１）、つまり、第１プレート上の全偏光コー
ティング、第２プレート上の高反射コーティング及び両
プレート間の角度配向の組合せ結果として、直線偏光入
射ビームが２つの直交する偏光成分ビームＰとＳへと偏
向される。

さらに別の特徴において、本発明は光学的読取系に関し
、平行化単色直線偏光ビームを生じる手段；偏光ビーム
の選択成分をターゲットに差し向け、ターゲットに入射
したビームから反射ビームを分離し、更にターゲットか
ら反射されたＰ及びＳ偏光の相対強度を選択的に高める
平形プレートビームプリッタ及び部分偏光子；直線偏光
の反射戻りビームを前記選択的に高められたＰ及びＳ偏
光に分離する平形プレート偏光セパレータ；及び前記選
択的に高められたＰ及びＳ偏光の別々の像を与える手段
；を含む。

本発明の上記及びその他の特徴は、添付の図面を参照し
た以下の説明から明かとなろう。

（実施例） 全　・な磁気　学・読取系４０ 第５図は、本発明の平形プレート光学被覆部品を具備し
た磁気光学的読取系４０の好ましい実施例の第１図と同
様な概略図である。ビーム源１３は一般に、８３０ｎｍ
の波長を持つガリウムヒ素レーザ等通常の固体レーザで
、基本的に正確なポイント状単色光源である。ポイント
状光源１３からの入射ビーム４１はレンズ１４によって
平行化され、平行ビーム４２を平形プレート部品４５に
与える。平形プレート部品４５は、部分的に偏光するビ
ームスプリフタであるのが好ましい。これが部品４５か
らの出力ビーム４９Ｉから、ターゲット１２からの戻り
ビーム４９Ｒを分離する。部分偏光子は以下述べるよう
に、磁気光学的効果を高めるのに使われる。

対物レンズ１７が出力ビーム４９Ｉを経路５１１に沿っ
て、媒体ディスクつまりターゲット１２上の地点１８に
集束する。また対物レンズ１７は媒体ディスクつまりタ
ーゲット１２からの反射ビーム５１Ｒをビーム４９Ｒに
再び平行化し、該ビーム４９Ｒが平形プレート部品４５
のビームスプリント作用によって経路５２へと偏向され
る。偏向戻りビーム５２はブルースターの角で偏向セパ
レータ５５に差し向けられ、後で詳述するように偏向セ
パレータ５５がビーム５２を２つの直交する偏光Ｓ及び
Ｐ両成分ビーム６３に分解する。配向は、中性の媒体状
態で両成分が等しくなるように整えられる。次いで、収
集つまり再像形成レンズ２６が、Ｐ及びＳ偏光の別々の
像６６．６７を検出器２７上に形成する。収集レンズは
自動焦点系の一部として、アスチグマチック（非点収差
補正）素子を有し得る。

ドリフトによって生じる検出器の出力変化を減じるため
、検出器はシングルチップの集積回路型の検出器アセン
ブリとして形成されるのが好ましい。また前述のように
、検出器アセンブリ２７は一般に、Ｓ及びＲ偏光の強度
から得られた両信号を電子的に差し引く通常の電子回路
に接続されている。

部　　　子　びビームスプリッタ４５ 光学面とその上のコーティングとの識別を容易とするた
め、光学面に使われる参照番号（例えば４８）は、対応
したコーティング識別番号ＸＸＣ（４８Ｃ）のための接
頭数値として用いる。

平形プレート部品、つまりビームスプリッタ及び部分偏
光子の組合せ素子４５は、第１及び第２の実質上平行な
主面４７．４８を有するＢＫ７等の高品質光学ガラス製
である薄いプレー１−４６から成るのが好ましい。平行
ビーム４２が、被覆されてない第１面４７上に入射する
。このため、プレート４６及びその第１面が入射ビーム
４２に対し５６．５°の角度で配向されると、直線偏光
ビーム４２の偏光成分の反射率はＲｐ＝０となる。つま
り、Ｐ偏光がビーム４９Ｉとしてプレートを透過する。

第２面４８にはターゲット１２からの戻りビーム４９Ｒ
について、Ｐ偏光が消失されＳ偏光が全反射されるよう
に部分偏光するコーティング４８Ｃが施されている。（
例えばＲ，！０．２５、Ｒｓ　ユ１゜）すなわち、部分
偏光コーティング４８は戻りビームを入射ビーム経路か
ら分離するだけでなく、戻りビームを部分的に偏光する
。

ビームスブリットだけが所望の場合、つまり部分偏光が
不所望か不必要の場合には、Ｐ及びＳ偏光両方に対する
反射性が等しい（Ｒ３！０．５、Ｒｐ＝ｏ、５）コーテ
ィング４８Ｃを用いる。

部＼偏　子４５の効果 前述したように、平形プレートビームスプリッタ／部分
偏光子素子４５は、Ｐ偏光を透過する非被覆の第１主面
４７を有する平形プレート４６で形成される。反対側の
面４８Ｃは、反射ビームのＳ偏光を実質上消失させずに
元のＰ偏光を消失させる部分偏光コーティングで被覆さ
れている。

次に主に第６図を参照すれば、ターゲット１２に入射す
る偏光ビーム５１！は、図中同じ＜５１１で示した強度
を有する。ビームがターゲットでファラデー回転を受け
ないと、戻りビーム５１Ｒの偏向の向きは実質上同じで
ある。この結果第２図にも示したように、戻りビームを
初めの偏光の向きに対して４５°の２つの直交する直線
偏光ビームに分解すれば、Ｐ及びＳ偏光の各強度２８．
２９は実質上等しい。

一方、透過ビーム５１１がターゲット１２でファラデー
回転を受けると、その偏光は小さい角度αだけシフトさ
れる。見易くするため、角度αは大きく誇張して示しで
ある。偏光シフトの実際の角度は０．１°〜１°のオー
ダである。この結果第３図にも示すように、Ｓの強度２
８はＰの強度２９より１．３倍大きい。つまり、強度比
Ａ／Ｂは約１．３０である。

第７図は、部分偏光コーティング４８Ｃ（第５図）の効
果を示すＳ及びＰ両偏光の強度の概略図である。例示と
して、Ｒ３！４Ｒ，となるようにコーティング４８Ｃの
光学的性質が選ばれているものとする。戻りビーム５１
Ｒは、角度αだけ回転された偏光を有する。Ｐ成分の反
射率はＳ成分の反射率よりはるかに小さいので、得られ
る実効偏光５１ＲＰの振巾は前より（部分偏光子の前の
反射後における５１Ｒの場合より）小さくなる。

しかし、偏向角つまり偏光軸αははるかに大きい。

αの増加は、Ｓ及びＰ両偏光強度の比Ａ／Ｂを約１．３
（第６図）から、ビームが元の偏光軸に対して４５°の
２つの直交する偏光成分に分解されたときの約３．１へ
と増大する。この部分偏光によって得られる偏光強度比
の上昇は、系の検出感度を高める。何故なら、強度Ａ／
Ｂは実質上Ｓ及びＰ検出器６６．６７　（第５図）に対
応した検出器の信号比だからである。要するに、Ｓ及び
Ｐ偏光のエネルギーつまり振巾は減少されるが、角度の
ずれと検出感度は大巾に高まる。

上記の光学的被覆を施した平形プレート部分偏光ビーム
スプリフタは、プリズムによる部分偏光ビームスプリフ
タと比べ、受光面のコーティングまたは次の光学素子と
のマツチングを必要としないという利点を有する。さら
に、平形プレート部品は製造及び被覆するのが安価であ
る。例えば、平形プレートは大きいシートの形で形成被
覆した後、多数の個々の平形プレート部品４５に切断す
ることができる。この平形プレート部品を首尾よ（使用
するには、長期間にわたり安定で且つ水分や温度の変化
によって影響されない後述の部分偏光コーティングを必
要とする。

偏　セパレータ５５ 第８図を参照すれば、平形プレート偏光セパレータ５５
は第１及び第２の平形プレート５６．５７で形成されて
いる。これら両プレートは一端で直接一体状に接合され
る一方、他端ではロンドまたはワイヤ６８に接合され、
例えば０．６°の角度配向を与える。

次に、入射光ビームと遭遇するプレート面について検討
する。第１プレート５６の第１面５８は、Ｓ偏光が実質
上反射され、Ｐ偏光が同プレートを横切るように、全偏
光コーティング５８Ｃを含む（Ｒｐ＝Ｏ１Ｒｓ！１）、
第１プレートの第２面５９は、実質上反射が生じず、Ｐ
偏光が第２プレート５７の第１面６１へ差し向けられる
ように被覆されていない（ＲＰユＯ）。

第１面６１はその上に形成された高い反射コーティング
６１Ｃ（ＲＰ＝．Ｒ，＝１）を有し、Ｐ偏光は第１プレ
ート５７で反射され、Ｓ偏光に対し両プレート間の角度
分離の約２倍に等しい角度で、第１プレート５６を通っ
て戻される。例示として、Ｓ及びＰ間の開きは約１．２
°である。その後、第５図に関連して説明したように、
再像形成つまり収集レンズ２６が、検知器アセンブリ２
７上の各焦点６６．６７にＳ及びＰ偏光の別々の像をそ
れぞれ形成する。　・ 平形プレートビームスプリフタ／部分偏光子部品４５と
同じく、平形プレート偏光セパレータ５５は、製造、被
覆及び組立が安価で、ＡＲ（反射防止）コーティングや
受光面でのマツチングを必要としないという潜在的利点
を有する。また、この平形プレート部品を首尾よく使用
するには、対応したコーティングには安定性の他、特別
の光学的性質（この場合コーティング５８Ｃでの全偏光
とコーティング６１Ｇでの高反射）を必要とする。

現時点で好ましい実施例において、全偏光コーティング
５８Ｃと高反射コーティング６１Ｃは、高い及び低い反
射率と必要な安定性を有する物質の交互に重ねられた薄
層から成る。つまり、これらのコーティングが平形プレ
ート部分偏光ビームスプリフタの好首尾な構造と使用を
可能とする。

一つの適切な高屈折率物質は、２．３５の屈折率ｎを有
する二酸化チタン（ＴｉＯｚ）である。一つの適切な低
屈折率物質は、ｎ　＝　１．４５の二酸化シリコン（Ｓ
ｉＯ□）である。

例えば、入射角５６．５°でＲｒ＝Ｏ１Ｒ，＝１．０の
反射率を持つ全偏光コーティング５８Ｃは、次の複合層
から構成できるニガラス、０．４３　Ｈｌ（０，９７Ｌ
、　０．８６　Ｈ）’、（．，０３Ｌ　、　０．９１　
Ｈ）７、（０，９７Ｌ、　０．８６　Ｈ）”、０．９７
　Ｌ、０．４３　Ｈ１空気。この例では、２７の薄層が
真空蒸着法によってガラス表面５８上に形成される。上
述の表記において、３．７及び２等の添字は、対応した
カッコ内の層シーケンスがそれぞれ３回、７回及び２回
繰り返されることを意味する。文字り、Ｈを伴なう数値
は、それぞれ作動波長における高及び低屈折率物質の１
／４波長等価厚を表わす。つまり、０．４３　Ｈまたは
０．９７　Ｌ等の各層の識別は、それが高（Ｈ）または
低（Ｌ）屈折率の物質で、１／４波長等価厚に対して各
数値の厚さであることを示している。

例えば層０．４３　Ｈはｎ＝２．３５の比較的高い屈折
率物質つまり二酸化チタン（ＴｉＯｚ）である。

作業波長が例えば８３０ｎｍの場合、Ｈ＝（８３０ｎｍ
／２．３５）　　（１／　４）　＝８８．２９ｎｍとな
る。つまり、層厚は０．４３　Ｈユ０．４３　（８８，
２９）Σ３８ｎｍである。要するに、ガラスと隣接する
層は、約３８ｎｍの厚さに形成された高屈折率物質の二
酸化チタンである。

こ−で使われている更に別の表記を見れば、ガラスから
の第２層０．９７　Ｌは、厚さ１３９ｎｍの（０，９７
Ｌ＝０．９７　　（８３０／１．４５）（１／４）＝１
３８．８）比較的低い屈折率物質つまり二酸化シリコン
から成る。

第３層は、厚さ７６ｎ１Ｍ（０，８６Ｈ＝０．８６（８
３０／２．３５）（１／４）＝７５．９）の比較的高い
屈折率物質つまり二酸化チタン（Ｔ　ｉ　Ｏ□）である
。勿論、他の各層の厚さも同様に計算される。

２、　　射コーティング６１Ｃ 入射角５６．５°でＲ，＝１．０、Ｒ，ユ１．０の反射
率を持つ高反射面コーティング６１Ｃは、例えば次のよ
うな積層設計とし得るニガラス、（．０７Ｈ，．２１Ｌ
）　”、空気。

３、部　　　ビームスプリッタコーティング４８Ｃ上述
の表記法を用いれば、入射角５６．５°で例えばＲＰＰ
Ｏ２２５、Ｒ３ユ１．０の反射率を有する部分偏光面４
８Ｃは次のような積層設計とし得るニガラス、０．９６
　Ｈ，．６７Ｌ、　１．５１　Ｈ，．４６Ｌ、１．０５
Ｈ，．０５Ｌ、０．８０Ｈ，０，８ＯＬ。

０．７２　Ｈ，０，９１Ｌ、　０．９０　Ｈ，空気。こ
＼でも、高い及び低い屈折率の物質の交互に重ねられた
薄層（例では１１層）から成る複合コーティングと必要
な安定性を有する物質の使用とが、前述した利点を与え
る平形プレート部分偏光ビームスプリッタ成分の好首尾
な構造及び使用を可能とする。

上述したコーティングの設計は例示に過ぎず、異なる物
質の異なる設計のコーティングでも同一または同様の結
果を生じることが理解されるべきである。当業者であれ
ば、所望の屈折率に基づき、複合コーティングを最適化
するための標準的アルゴリズムを用いて、上記及びその
他の等価である多層複合光学的コーティングを容易に考
えられるであろう。

第９図は、別のクサビ形プレート偏光セパレータ７５を
示している。クサビ形プレートの実施例は、所望の小さ
い角度を成すように配置された２つの対向主面７８．８
１を有するクサビ状の光学的に透明なガラス体７６から
成る。前面７８が、前記のコーティング５８Ｃと同じ全
偏光コーティング７８Ｃを備える。また背面８１が、前
記のコーティング６１Ｃと同じ高反射コーティング８１
Ｃを備える。クサビ形プレート偏光セパレータ７５はプ
リズムによる偏光セパレータと比べ、受光面のコーティ
ングまたはマツチングを必要とせず、組立を必要とせず
、しかも製造コストが割安という利点を有する。尚、ク
サビ形プレート偏光セパレータは平形プレート偏光セパ
レータ５５より製造及び被覆するのが割高である（クサ
ビ状ガラス体７６を個々に被覆しなければならないため
）。

（発明の効果） 要するに、上述した部分偏光、全偏光及び高反射の各コ
ーティングによって与えられる所望の特別な光学的特性
と安定性が、プリズム部品よりも好ましい前記の平形プ
レートビームスプリッタ／部分偏光子４５及び平形プレ
ート偏光セパレータ５５という解決策を可能とした。

【図面の簡単な説明】

第１図は磁気光学的ディスクを読み取る光学系の概略図
；第２及び３図はファラデー回転の結果が反射ビームの
直交する偏光成分に及ぼす影響を概略的に示す；第４図
はウラストンプリズムの構造と光学的機能を示す；第５
図は平形プレートビームスプリッタ／部分偏光子及び平
形プレート偏光セパレータを具備した磁気光学的ディス
クを読み取る光学系の概略図；第６図は偏光セパレータ
によって分解される偏光成分の強度を示す；第７図は部
分偏光子での反射後偏光セパレータによって分解される
偏光成分の強度を示す；第８図は第５図に示した型のや
＼拡大した平形プレート偏光セパレータを示す；及び第
９図は別のクサビ形プレート偏光セパレータを示す。 １０・・・・・・光学的読取系、　１２・・・・・・タ
ーゲット、４５・・・・・・ビームスプリッタ及び部分
偏光子、４６・・・・・・平形ガラスプレート、４７．
４８・・・・・・第１及び第２主面、４８Ｃ・・・・・
・部分偏光コーティング、５５・・・・・・偏光セパレ
ータ、 ５６．５７・・・・・・第１及び第２プレート、５８・
・・・・・第１プレートの第１面、５８Ｃ・・・・・・
全偏光コーティング、６１・・・・・・第２プレートの
第１面、６１Ｇ・・・・・・高反射コーティング。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、直線偏光ビーム中の選択された偏光成分をターゲッ
   トに差し向け、該ターゲットに差し向けられたビームか
   らターゲットによる反射光を反射分離するビームスプリ
   ッタ；前記ターゲットから反射される２つの直交する偏
   光成分の相対的強度を選択的に高める部分偏光子；直線
   偏光の反射ビームを前記選択的に高められた偏光成分に
   分離する偏光セパレータ；及び前記選択的に高められた
   偏光成分の相対的強度を求める手段；を含む光学的読取
   系において： 前記ビームスプリッタ及び部分偏光子が；第１及び第２
   の対向主面を有する平形の、光学的に透明なガラスプレ
   ートから成り；前記第１面が第１の選択偏光成分を選択
   的に通すように被覆されていず、前記第２面が第２の偏
   光成分を実質上消失させずに反射し且つ第１偏光成分を
   選択的に消失させて反射する部分偏光コーティングを有
   する；更に 前記偏光セパレータが；選定角度を成して配向された第
   １及び第２の平形プレートから成り；該第１及び第２プ
   レートの各々が、入射する直線偏光反射ビームの方向に
   沿った第１及び第２の対向主面を有し；前記第１プレー
   トの第１面が第２偏光成分を反射して第１偏光成分を透
   過する全偏光コーティングを有し、前記第１プレートが
   直線偏光反射ビームに対してブルースター角で配向され
   ：前記第２プレートの第１面が第１偏光成分を第１プレ
   ートを通って戻るように反射し、第１及び第２偏光成分
   の分離した分散ビームを与える高反射コーティングを有
   する；ことを特徴とする光学的読取系。 ２、前記部分偏光コーティングが薄層の複合物から成り
   、該各層が比較的高い及び低い屈折率を持つ物質の中か
   ら選ばれ、前記第２偏光成分を実質上消失させずに反射
   し且つ前記第１偏光成分を選択的に消失させて反射する
   物質からなる特許請求の範囲第１項の光学的読取系。 ３、前記比較的高い屈折率の物質が二酸化チタンで、前
   記比較的低い屈折率の物質が二酸化シリコンである特許
   請求の範囲第２項の光学的読取系。 ４、前記部分偏光コーティングが、前記第２ガラス面か
   ら順番に０．９６Ｈ、１．６７Ｌ、１．５１Ｈ、１．４
   ６Ｌ、１．０５Ｈ、１．０５Ｌ、０．８０Ｈ、０．８０
   Ｌ、０．７２Ｈ、０．９１Ｌ、０．９０Ｈから成り、約
   ５６．５°の入射角で前記第２偏光成分に対し約１の反
   射率、前記第１偏光成分に対し約０．２５の反射率を与
   える１１層を有し；前記Ｌ及びＨがそれぞれ直線偏光ビ
   ームの選定波長における二酸化チタン及び二酸化シリコ
   ンの１／４波長等価厚である；特許請求の範囲第３項の
   光学的読取系。 ５、前記全偏光コーティングが薄層の複合物から成り、
   該各層が比較的高い及び低い屈折率を持つ物質の中から
   選ばれ、前記第２偏光成分を反射し且つ前記第１偏光成
   分を透過する物質からなる特許請求の範囲第１項の光学
   的読取系。 ６、前記比較的高い屈折率の物質が二酸化チタンで、前
   記比較的低い屈折率の物質が二酸化シリコンである特許
   請求の範囲第５項の光学的読取系。 ７、前記全偏光コーティングが、前記第１プレートの第
   １面から順番に；０．４３Ｈ；各々の２重層が（０．９
   ７Ｌ、０．８６Ｈ）から成る一連の３回繰り返される２
   重層；各々の２重層が（１．０３Ｌ、０．９１Ｈ）から
   成る一連の７回繰り返される２重層；各々の２重層が（
   ０．９７Ｌ、０．８６Ｈ）から成る一連の２回繰り返さ
   れる２重層：０．９７Ｌ：０．４３Ｈから成り、前記第
   ２偏光成分に対し約１の反射率、前記第１偏光成分に対
   し約０の反射率を与える２５層を有し；前記Ｌ及びＨが
   それぞれ直線偏光ビームの選定波長における二酸化チタ
   ン及び二酸化シリコンの１／４波長等価厚である；特許
   請求の範囲第６項の光学的読取系。 ８、前記高反射コーティングが薄層の複合物から成り、
   該各層が比較的高い及び低い屈折率を持つ物質の中から
   選ばれ、前記第１偏光成分を反射する物質からなる特許
   請求の範囲第１項の光学的読取系。 ９、前記比較的高い屈折率の物質が二酸化チタンで、前
   記比較的低い屈折率の物質が二酸化シリコンである特許
   請求の範囲第８項の光学的読取系。 １０、前記高反射コーティングが、各々の２重層が前記
   第２プレートの第１面から順番に（１．０７Ｈ、１．２
   １Ｌ）から成り、約５６．５°の入射角で前記第１及び
   第２両偏光成分に対し約１の反射率を与える１０回繰り
   返される一連の２重層で構成され；前記Ｌ及びＨがそれ
   ぞれ直線偏光ビームの選定波長における二酸化チタン及
   び二酸化シリコンの１／４波長等価厚である；特許請求
   の範囲第９項の光学的読取系。 １１、第１及び第２の対向主面を有する平形の、光学的
   に透明なガラスプレートから成り；前記第１面が第１の
   選択偏光成分を選択的に通すように被覆されていず、前
   記第２面が第２の偏光成分を実質上消失させずに反射し
   且つ第１偏光成分を選択的に消失させて反射する部分偏
   光コーティングを有する；平形プレートの組合せビーム
   スプリッタ及び部分偏光子。 １２、前記部分偏光コーティングが薄層の複合物から成
   り、該各層が比較的高い及び低い屈折率を持つ物質の中
   から選ばれ、前記第２偏光成分を実質上消失させずに反
   射し且つ前記第１偏光成分を選択的に消失させて反射す
   る物質からなる特許請求の範囲第１１項の組合せビーム
   スプリッタ及び部分偏光子。 １３、前記比較的高い屈折率の物質が二酸化チタンで、
   前記比較的低い屈折率の物質が二酸化シリコンである特
   許請求の範囲第１２項の組合せビームスプリッタ及び部
   分偏光子。１４、前記部分偏光コーティングが、前記第
   ２ガラス面から順番に０．９６Ｈ、１．６７Ｌ、１．５
   １Ｈ、１．４６Ｌ、１．０５Ｈ、１．０５Ｌ、０．８０
   Ｈ、０．８０Ｌ、０．７２Ｈ、０．９１Ｌ、０．９０Ｈ
   から成り、約５６．５°の入射角で前記第２偏光成分に
   対し約１の反射率、前記第１偏光成分に対し約０．２５
   の反射率を与える１１層を有し；前記Ｌ及びＨがれぞれ
   直線偏光ビームの選定波長における二酸化チタン及び二
   酸化シリコンの１／４波長等価厚である；特許請求の範
   囲第１３項の組合せビームスプリッタ及び部分偏光子。 １５、選定角度を成して配向された第１及び第２の平形
   プレートから成り；該第１及び第２プレートの各々が、
   入射する直線偏光反射ビームの方向に沿った第１及び第
   ２の対向主面を有し；前記第１プレートの第１面が第１
   の偏光成分を反射して第２の直交偏光成分を透過する全
   偏光コーティングを有し、前記第１プレートが直線偏光
   反射ビームに対してブルースター角で配向され；前記第
   ２プレートの第１面が第２偏光成分を第１プレートを通
   って戻るように反射し、第１及び第２偏光成分の分離し
   た分散ビームを与える高反射コーティングを有する；平
   形プレート偏光セパレータ。 １６、前記全偏光コーティングが薄層の複合物から成り
   、該各層が比較的高い及び低い屈折率を持つ物質の中か
   ら選ばれ、第２偏光成分を反射し且つ前記第１偏光成分
   を透過する物質からなる特許請求の範囲第１５項の平形
   プレート偏光セパレータ。 １７、前記比較的高い屈折率の物質が二酸化チタンで、
   前記比較的低い屈折率の物質が二酸化シリコンである特
   許請求の範囲第１６項の平形プレート偏光セパレータ。 １８、前記全偏光コーティングが、前記第１プレートの
   第１面から順番に：０．４３Ｈ；各々の２重層が（０．
   ９７Ｌ、０．８６Ｈ）から成る一連の３回繰り返される
   ２重層；各々の２重層が（１．０３Ｌ、０．９１Ｈ）か
   ら成る一連の７回繰り返される２重層；各々の２重層が
   （０．９７Ｌ、０．８６Ｈ）から成る一連の２回繰り返
   される２重層；０．９７Ｌ；０．４３Ｈから成り、前記
   第２偏光成分に対し約１の反射率、前記第１偏光成分に
   対し約０の反射率を与える２５層を有し；前記Ｌ及びＨ
   がそれぞれ直線偏光ビームの選定波長における二酸化チ
   タン及び二酸化シリコンの１／４波長等価厚である；特
   許請求の範囲第１７項の平形プレート偏光セパレータ。 １９、前記高反射コーティングが薄層の複合物から成り
   、該各層が比較的高い及び低い屈折率を持つ物質の中か
   ら選ばれ、前記第１偏光成分を反射する物質からなる特
   許請求の範囲第１５項の平形プレート偏光セパレータ。 ２０、前記比較的高い屈折率の物質が二酸化チタンで、
   前記比較的低い屈折率の物質が二酸化シリコンである特
   許請求の範囲第１９項の平形プレート偏光セパレータ。 ２１、前記高反射コーティングが、各々の２重層が前記
   第２プレートの第１面から順番に（１．０７Ｈ、１．２
   １Ｌ）から成り、約５６．５°の入射角で前記第１及び
   第２両偏光成分に対し約１の反射率を与える１０回繰り
   返される一連の２重層で構成され；前記Ｌ及びＨがそれ
   ぞれ直線偏光ビームの選定波長における二酸化チタン及
   び二酸化シリコンの１／４波長等価厚である；特許請求
   の範囲第２０項の平形プレート偏光セパレータ。