JPS635558A - 不揮発性ram - Google Patents
不揮発性ramInfo
- Publication number
- JPS635558A JPS635558A JP61148641A JP14864186A JPS635558A JP S635558 A JPS635558 A JP S635558A JP 61148641 A JP61148641 A JP 61148641A JP 14864186 A JP14864186 A JP 14864186A JP S635558 A JPS635558 A JP S635558A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recall
- node
- channel
- sram
- eeprom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、MISFETにより構成されたSRAMとE
EPROMとから成る高集積化に適した不揮発性RAM
に関する。
EPROMとから成る高集積化に適した不揮発性RAM
に関する。
(発明の概要)
一般に、不揮発性RAMにおいて、EEPROMの内容
をSRAMへ読み出すことをリコールと呼ぶ。
をSRAMへ読み出すことをリコールと呼ぶ。
本発明は、不揮発性RAMのリコール時において、EE
PROM部のチャンネルの有無による容量差を利用する
ことにより、リコール動作が行なえる様にしたものであ
る。
PROM部のチャンネルの有無による容量差を利用する
ことにより、リコール動作が行なえる様にしたものであ
る。
(従来の技術)
従来、不揮発性RAMのリコールは、第2図におイテ、
SRAM(7)電rA電圧VRC11を一1f“0”レ
ベルまで立ち下げ、その後、徐々にVRCllを立ち上
げてゆく。その際、フローティングゲート4に電子が注
入されており、EEPROM3が、非導通状態であれば
、容量5は、ノードQと切り岨され、ノードQよりノー
ド0の付加容量の方が大きくなり、VRCI 1が完全
に立ち土がった状態では、ノードQは“0”、ノードQ
は°“1″レベルでそれぞれ安定した状態となり、結局
“1″がリコールされたことになる。
SRAM(7)電rA電圧VRC11を一1f“0”レ
ベルまで立ち下げ、その後、徐々にVRCllを立ち上
げてゆく。その際、フローティングゲート4に電子が注
入されており、EEPROM3が、非導通状態であれば
、容量5は、ノードQと切り岨され、ノードQよりノー
ド0の付加容量の方が大きくなり、VRCI 1が完全
に立ち土がった状態では、ノードQは“0”、ノードQ
は°“1″レベルでそれぞれ安定した状態となり、結局
“1″がリコールされたことになる。
また、逆に、フローティングゲート4から電子が抜かれ
、フローティングゲート4が正に帯電され、εEPRO
Mが尋通状態であれば、容量5はノードQと接続された
ことになり、ノードQよりノードQの付加容量の方が大
きくなり、VRCllが完全に立ち上がった状態では、
ノード◇は“1#、ノードQは“0”レベルでそれぞれ
安定した状態となり、結局“0″がリコールされること
になる。
、フローティングゲート4が正に帯電され、εEPRO
Mが尋通状態であれば、容量5はノードQと接続された
ことになり、ノードQよりノードQの付加容量の方が大
きくなり、VRCllが完全に立ち上がった状態では、
ノード◇は“1#、ノードQは“0”レベルでそれぞれ
安定した状態となり、結局“0″がリコールされること
になる。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、従来の不揮発性RAMは、SRAMとEEPR
OM以外に容量を1ピツトごとに設けなければならない
ので、メモリーセルの面積が大きくなり、高集積化に適
さないばかりでなく、チップコストも高くなるという欠
点があった。
OM以外に容量を1ピツトごとに設けなければならない
ので、メモリーセルの面積が大きくなり、高集積化に適
さないばかりでなく、チップコストも高くなるという欠
点があった。
そこで、本発明は、従来のこの様な欠点を解決するため
に、高集積で、メモリ容&の大きな集積回路を得ること
を目的としている。
に、高集積で、メモリ容&の大きな集積回路を得ること
を目的としている。
(問題点を解決するための手段)
上記問題点を解決するために、本発明は、εEPROM
部のチャンネルの有無による容量差だけでリコール動作
が行なえるようにした。
部のチャンネルの有無による容量差だけでリコール動作
が行なえるようにした。
(作用)
本発明は、ノードQ、◇に接続される容量を、εEPR
OM部のチャンネルの有無によってその容量値に差を与
え、その容11E[の差を用いて、SRAMのリコール
状態を決定するものである。
OM部のチャンネルの有無によってその容量値に差を与
え、その容11E[の差を用いて、SRAMのリコール
状態を決定するものである。
(実施例)
以下に、本発明の実施例を図面にもとづいて、詳細に説
明する。
明する。
第1図において、トランジスタ1のゲートは、ワード線
10に、ドレインおよびソースは、SRAMおよびピア
下112に接続され、トランジスタ2のゲートは、ワー
ド線10に、ドレインおよびソースは、SRAMおよび
ビット線13に接続され、εEPROM3のドレインは
、ノードQに接続される。また、VRCl 1は、SR
AMの電源である。
10に、ドレインおよびソースは、SRAMおよびピア
下112に接続され、トランジスタ2のゲートは、ワー
ド線10に、ドレインおよびソースは、SRAMおよび
ビット線13に接続され、εEPROM3のドレインは
、ノードQに接続される。また、VRCl 1は、SR
AMの電源である。
また、第3図(a)および(b)は、第1図におけるε
EPROM3の断面図であり、P型基板8上にN型拡散
層によりドレイン7を設け、P型基板8上に絶縁g11
0oを介してフローテ)ングゲート4を設け、さらに7
0−ティングゲート4上に絶縁11101を介しコント
ロールゲート6を設けた構造となっている。
EPROM3の断面図であり、P型基板8上にN型拡散
層によりドレイン7を設け、P型基板8上に絶縁g11
0oを介してフローテ)ングゲート4を設け、さらに7
0−ティングゲート4上に絶縁11101を介しコント
ロールゲート6を設けた構造となっている。
次にその動作を説明する。
まず、リコールを行う際は、SRAMの電源電圧VRC
11を″O″レベルまで立ち下げ、その後、徐々にVR
Cllを立ち上げてゆく。その際、第3図(a)に示す
様に、フローティングゲート4の電子が抜かれ、フロー
ティングゲート4が正に帯電した状態になっていると、
フローティングゲート4下の基板8上にチャンネル9が
形成され、ドレイン7とチャンネル9が同電位となり、
70−ティングゲート4とチャンネル9との間に容量が
形成されることになる。よって、ノード◇よりノードQ
の付加容量の方が大きくなり、VRCllが、完全に立
ち上がった状態では、ノードQは“0“、ノードdは“
1“レベルでそれぞれ安定した状態となっており、結局
、“0”がリコールされることになる。また、リコール
動作を行なう際には、コントロールゲート6の電位を安
定にするために、コントロールゲート6は接地電位に接
続される。
11を″O″レベルまで立ち下げ、その後、徐々にVR
Cllを立ち上げてゆく。その際、第3図(a)に示す
様に、フローティングゲート4の電子が抜かれ、フロー
ティングゲート4が正に帯電した状態になっていると、
フローティングゲート4下の基板8上にチャンネル9が
形成され、ドレイン7とチャンネル9が同電位となり、
70−ティングゲート4とチャンネル9との間に容量が
形成されることになる。よって、ノード◇よりノードQ
の付加容量の方が大きくなり、VRCllが、完全に立
ち上がった状態では、ノードQは“0“、ノードdは“
1“レベルでそれぞれ安定した状態となっており、結局
、“0”がリコールされることになる。また、リコール
動作を行なう際には、コントロールゲート6の電位を安
定にするために、コントロールゲート6は接地電位に接
続される。
また、第3図(b)に示す様に、リコールを行なう際、
70−ティングゲート4に電子が注入された状態になっ
ていると、チャンネルが形成されないため、容量が形成
されないことになる。よって、ノードQよりノードQの
付加容量の方が大きくなり、VRCが完全に立ち上がっ
た状態では、ノードQは“1”、ノードQは“0”レベ
ルでそれぞれ安定した状態となっており、結局、01″
がリコールされることになる。
70−ティングゲート4に電子が注入された状態になっ
ていると、チャンネルが形成されないため、容量が形成
されないことになる。よって、ノードQよりノードQの
付加容量の方が大きくなり、VRCが完全に立ち上がっ
た状態では、ノードQは“1”、ノードQは“0”レベ
ルでそれぞれ安定した状態となっており、結局、01″
がリコールされることになる。
よって上記の様に、フO−ナイングゲート4に電子が注
入されているか、あるいは、電子が抜かれ正に帯電して
いるかによって容量を変化させることができるので、安
定なリコールを行なうことができる。
入されているか、あるいは、電子が抜かれ正に帯電して
いるかによって容量を変化させることができるので、安
定なリコールを行なうことができる。
(発明の効果)
本発明は、以上説明した様に、従来の不揮発性RAMに
おいて、リコール時に1ビツトごとに必要となる付加容
置を必要としないため、素子数が少なく、メモリーセル
の面積が小さくなり、高集積化に適しており、チップコ
ストも低くなるという効果がある。
おいて、リコール時に1ビツトごとに必要となる付加容
置を必要としないため、素子数が少なく、メモリーセル
の面積が小さくなり、高集積化に適しており、チップコ
ストも低くなるという効果がある。
第1図は、本発明にかかる不揮発性RAMの回路図、第
2図は、EEPROMのソース側に容量を接続した従来
の不揮発性RAMの回路図、第3図(a)は、フローテ
ィングゲートが正に帯電し、チャンネルが形成されたE
EPROMの断面図、第3図(b)は、フローティング
ゲートが負に帯電し、チャンネルが形成されていないE
EPROMの断面図である。 3・・・EEPROM 4・・・フローテイングゲート
2図は、EEPROMのソース側に容量を接続した従来
の不揮発性RAMの回路図、第3図(a)は、フローテ
ィングゲートが正に帯電し、チャンネルが形成されたE
EPROMの断面図、第3図(b)は、フローティング
ゲートが負に帯電し、チャンネルが形成されていないE
EPROMの断面図である。 3・・・EEPROM 4・・・フローテイングゲート
Claims (1)
- MISFETにより構成されたSRAMと、EEPRO
Mとから成る不揮発性RAMにおいて、前記EEPRO
Mの内容を前記SRAMへ読み出す際、前記SRAM入
力に接続されるEEPROM部のチャンネルの有無によ
って変化するEEPROMのゲート、ドレイン間の容量
を用いて、前記EEPROMの内容を前記SRAMへ読
み出すことを特徴とする不揮発性RAM。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61148641A JPS635558A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 不揮発性ram |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61148641A JPS635558A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 不揮発性ram |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS635558A true JPS635558A (ja) | 1988-01-11 |
Family
ID=15457337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61148641A Pending JPS635558A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 不揮発性ram |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS635558A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5721440A (en) * | 1991-05-29 | 1998-02-24 | Gemplus Card International | Memory with EEPROM cell having capacitive effect and method for the reading of such a cell |
| US6088303A (en) * | 1991-12-11 | 2000-07-11 | Seiko Precision Inc. | Time recorder |
-
1986
- 1986-06-25 JP JP61148641A patent/JPS635558A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5721440A (en) * | 1991-05-29 | 1998-02-24 | Gemplus Card International | Memory with EEPROM cell having capacitive effect and method for the reading of such a cell |
| US6088303A (en) * | 1991-12-11 | 2000-07-11 | Seiko Precision Inc. | Time recorder |
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