JPS6357516B2 - - Google Patents
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- JPS6357516B2 JPS6357516B2 JP11839285A JP11839285A JPS6357516B2 JP S6357516 B2 JPS6357516 B2 JP S6357516B2 JP 11839285 A JP11839285 A JP 11839285A JP 11839285 A JP11839285 A JP 11839285A JP S6357516 B2 JPS6357516 B2 JP S6357516B2
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Description
〈産業上の利用分野〉
本発明は、鋼板等の金属板の電気めつきなどの
電気化学処理において、被処理物の電気化学処理
速度の変化に関係なく、均質な処理皮膜を形成す
る方法に関する。 電気めつきなどの電気化学処理において、その
めつき種などは多種あるが、以下の説明では鋼板
へのクロム酸系電気化学処理時のラインスピード
の変動にかかわりなく均質な皮膜を得る例を代表
例として説明するが、本発明はこれのみ限定され
ず、種々の金属板への種々の電気化学処理に適用
できるのは勿論のことである。 〈従来技術とその問題点〉 缶用めつき鋼板としては現在、ぶりき（錫めつ
き鋼板）、テインフリースチール（クロムめつき
鋼板）、溶接缶用鋼板があり、このうちぶりきと
溶接缶用鋼板の化学処理に、そしてテインフリー
スチールのめつきと化学処理にクロム酸系の処理
浴が使用されている。 そしてこれらの処理浴では、通常陰極電解処理
がなされており、その電気制御方法は従来より２
通りの方法にて行なわれている。その１つは定電
流密度制御であり、一定電流をラインスピードに
関係なく流すというものである。又もう１つは定
電気量密度制御であり、ラインスピードの変化に
比例させて、鋼板の単位面積に流れ込む電気量が
一定になるように流す電流を変えさせるというも
のである。 更にこれらの処理でも最も重要なことは、求め
る処理皮膜、即ち、クロム酸系の処理浴では金属
クロムとクロム水和酸化皮膜とを連続して一定量
に確保することである。ところが、金属クロムの
析出効率が電流密度によつて変化する場合、従来
の２通りの電気制御方法では、ラインスピードの
変化に対して、一定量の皮膜を確保させることが
出来なかつた。それは、クロム酸系の処理浴で
は、金属クロムの析出効率が電流密度にも電気量
密度にも影響される為である。 従つて従来の技術としてはこの問題を解決する
為に処理浴の前後にストリツプのアキユムレータ
ー（ルーパー）を持つて、常に処理浴でのストリ
ツプスピードを一定に保てるようにしてきた。 本発明はこれらのアキユムレーターを備えなく
て、ストツプスピードが変化しても一定量の金属
クロムが得られるようにしたものである。 クロム酸系処理浴での金属クロムの析出効率は
電流密度及び電気量密度とは一般的に第１図およ
び第２図に示すような関係にあり、通常使用する
電流範囲では、ともにそれらの上昇とともに金属
クロムの析出効率も上がるようになつている。 その為従来の制御技術の１つである定電流密度
制御ではラインスピードが変化した時、例えばラ
インスピードが下がつた時、電流密度は一定であ
り、析出効率が一定であるが電気量密度が大きく
なる（上がる）為に金属クロムが多くなり過ぎ
る。一方、定電気量密度制御でもラインスピード
が下がつた時、電気量密度は一定であるが、電流
密度が小さくなる（下がる）為に金属クロムの析
出効率が低下して、金属クロムが少なくなり過ぎ
る。 同様にラインスピードが上がつた時は、それぞ
れ上記の場合と逆の現象が生じる。即ち、従来の
制御技術では、ラインスピードの変化に関係な
く、金属クロムを一定に析出させることが出来な
い。 本発明者等は、このような問題点を解決する為
に、電解電流の制御方法に着目して研究を重ね
た。即ち、これ迄の電解電流の制御方法は第３図
および第４図に示すように、電流をラインスピー
ドに対して一定にするか、又は正比例させている
だけであつた。これは電解電流である整流器の一
般的な使用方法であるが、近年はミニコンピユー
ター等の使用により、もつと複雑な制御が容易に
可能となつたので、本発明の実施も可能となつ
た。 〈発明の目的〉 したがつて、本発明の目的は、前述した従来の
欠点を解決しようとするもので、鋼板等の金属板
の電気めつきなどの電気化学処理において、鋼板
等の被処理物の電気化学処理速度の変化に関係な
く、均質な処理皮膜を形成する方法を提供しよう
とするものである。 〈発明の構成〉 上記目的は次の本発明により達成される。 すなわち、本発明は、被処理物の表面に陰極電
解処理により、金属を析出するにあたり、 電解電流密度と前記金属の析出効率との関係を
少なくとも１つの次式、 η＝aiＤ＋bi η：金属の析出効率 Ｄ：電流密度 ai，bi：定数 で示される１次式に近似し、 上記１次式近似式にもとづいて次式、 Ｉ＝k1√＋2−k3 Ｉ：電解電流 Ｓ：鋼板速度 k1：定数 k2：定数 k3：定数 で算出される電解電流Ｉとなるように制御される
ことを特徴とする陰極電解処理方法を提供するも
のである。 以下本発明を更に詳細に説明する。前述のごと
く、鋼板へのクロム酸系電気化学処理について説
明を行うが、本発明はこれに限定されることはな
い。 本発明に必要不可欠の要件は次の通りである。 (1) 電解用整流器の電流制御がコンピューター等
の使用により、ラインスピード（被処理物の速
度）変化に対して１次関数以外の複雑な制御が
可能なこと。 (2) クロム酸系の処理浴での金属クロムの析出効
率が第５ａ図の示す実際の電解電流密度に対し
て第５ｂ図に示すように少なくとも部分的にで
も直線（１次関係で近似出来ること。 いま、ここで、 得ようとしている金属クロム量（mg／m2） ：Ｃ 金属クロムの析出効率（％） ：η ラインスピード（mpm） ：Ｓ 電解電流（Ａ） ：Ｉ 電流密度（Ａ／ｄm2） ：Ｄ 定 数 ：ai，bi，Ａ，Ｂ，k1，k2，k3 とすれば、先づ金属クロム量Ｃは Ｃ∝η×Ｉ／Ｓ となる。そしてここでηが部分的にでも η＝aiＤ＋bi となる関係が得られれば、 Ｃ＝（aiＤ＋bi）Ｉ／Ｓ＝ AI2／Ｓ＋BI／Ｓ となる式が得られ、これより、 Ｉ＝k1√＋2−k3 k1＝√ k2＝B2／4AC k3＝Ｂ／2A が求められる。 従つて電解電流ＩをラインスピードＳに対し
て、 Ｉ＝k1√＋2−k3 となるように制御すれば、ラインスピードがどの
ように変化しても金属クロム量は常に一定とな
る。 この技術はクロム酸系処理浴における金属クロ
ムの制御だけではなくて、全ての電気めつきに応
用出来る。電気めつきにおいて、金属の析出効率
が、第５ａ図に示す実際の電解電流密度に対し
て、第５ｂ図に示すように、部分的にでも、直線
にて近似出来る場合には、同様に制御可能であ
る。 上述した本発明の均質な電気化学的処理皮膜を
得る方法をまとめて示したものが第６図である。 あるラインスピードおよび設定付着量の電流量
を算出し、その電気量を通電する為に必要となる
電流値を析出効率（η）を演算する事により求め
この電流値指令にもとづいて整流器を制御する。 〈実施例〉 次に、本発明を実施例につき具体的に説明す
る。 （実施例 １） 連続焼鈍にて焼鈍前にNiめつきを施された板
厚0.20mmの溶接缶用鋼板の原板を脱脂、酸洗後、
＃７（片面のSnめつき量＝0.784ｇ／m2）に極薄錫
めつきを行つた。これを錫溶融処理後下記のクロ
ム酸系化学処理浴にて陰極電解を施した。 化学処理浴条件 CrO3 17ｇ／ H2SO4 0.12ｇ／ 温 度 40℃ この時の電解条件として、従来技術の定電流密
度制御と定電気量密度制御、そして本発明による
制御を行い、ラインスピードの変化による金属ク
ロム量の変化を求めた。その結果を表−１に示
す。 （実施例 ２） 焼鈍、調質圧延された板厚0.22mmのめつき用原
板を脱脂、酸洗後下記のクロム酸系浴にてクロム
めつきを施した。 クロムめつき処理浴条件 CrO3 180ｇ／ H2SO4 0.75ｇ／ Na2SiF6 ６ｇ／ 温 度 50℃ この時のめつき条件として、従来技術の定電気
量密度制御と本発明による制御を行い、ラインス
ピードの変化による金属クロム量の変化を求め
た。 その結果を表−２に示す。
電気化学処理において、被処理物の電気化学処理
速度の変化に関係なく、均質な処理皮膜を形成す
る方法に関する。 電気めつきなどの電気化学処理において、その
めつき種などは多種あるが、以下の説明では鋼板
へのクロム酸系電気化学処理時のラインスピード
の変動にかかわりなく均質な皮膜を得る例を代表
例として説明するが、本発明はこれのみ限定され
ず、種々の金属板への種々の電気化学処理に適用
できるのは勿論のことである。 〈従来技術とその問題点〉 缶用めつき鋼板としては現在、ぶりき（錫めつ
き鋼板）、テインフリースチール（クロムめつき
鋼板）、溶接缶用鋼板があり、このうちぶりきと
溶接缶用鋼板の化学処理に、そしてテインフリー
スチールのめつきと化学処理にクロム酸系の処理
浴が使用されている。 そしてこれらの処理浴では、通常陰極電解処理
がなされており、その電気制御方法は従来より２
通りの方法にて行なわれている。その１つは定電
流密度制御であり、一定電流をラインスピードに
関係なく流すというものである。又もう１つは定
電気量密度制御であり、ラインスピードの変化に
比例させて、鋼板の単位面積に流れ込む電気量が
一定になるように流す電流を変えさせるというも
のである。 更にこれらの処理でも最も重要なことは、求め
る処理皮膜、即ち、クロム酸系の処理浴では金属
クロムとクロム水和酸化皮膜とを連続して一定量
に確保することである。ところが、金属クロムの
析出効率が電流密度によつて変化する場合、従来
の２通りの電気制御方法では、ラインスピードの
変化に対して、一定量の皮膜を確保させることが
出来なかつた。それは、クロム酸系の処理浴で
は、金属クロムの析出効率が電流密度にも電気量
密度にも影響される為である。 従つて従来の技術としてはこの問題を解決する
為に処理浴の前後にストリツプのアキユムレータ
ー（ルーパー）を持つて、常に処理浴でのストリ
ツプスピードを一定に保てるようにしてきた。 本発明はこれらのアキユムレーターを備えなく
て、ストツプスピードが変化しても一定量の金属
クロムが得られるようにしたものである。 クロム酸系処理浴での金属クロムの析出効率は
電流密度及び電気量密度とは一般的に第１図およ
び第２図に示すような関係にあり、通常使用する
電流範囲では、ともにそれらの上昇とともに金属
クロムの析出効率も上がるようになつている。 その為従来の制御技術の１つである定電流密度
制御ではラインスピードが変化した時、例えばラ
インスピードが下がつた時、電流密度は一定であ
り、析出効率が一定であるが電気量密度が大きく
なる（上がる）為に金属クロムが多くなり過ぎ
る。一方、定電気量密度制御でもラインスピード
が下がつた時、電気量密度は一定であるが、電流
密度が小さくなる（下がる）為に金属クロムの析
出効率が低下して、金属クロムが少なくなり過ぎ
る。 同様にラインスピードが上がつた時は、それぞ
れ上記の場合と逆の現象が生じる。即ち、従来の
制御技術では、ラインスピードの変化に関係な
く、金属クロムを一定に析出させることが出来な
い。 本発明者等は、このような問題点を解決する為
に、電解電流の制御方法に着目して研究を重ね
た。即ち、これ迄の電解電流の制御方法は第３図
および第４図に示すように、電流をラインスピー
ドに対して一定にするか、又は正比例させている
だけであつた。これは電解電流である整流器の一
般的な使用方法であるが、近年はミニコンピユー
ター等の使用により、もつと複雑な制御が容易に
可能となつたので、本発明の実施も可能となつ
た。 〈発明の目的〉 したがつて、本発明の目的は、前述した従来の
欠点を解決しようとするもので、鋼板等の金属板
の電気めつきなどの電気化学処理において、鋼板
等の被処理物の電気化学処理速度の変化に関係な
く、均質な処理皮膜を形成する方法を提供しよう
とするものである。 〈発明の構成〉 上記目的は次の本発明により達成される。 すなわち、本発明は、被処理物の表面に陰極電
解処理により、金属を析出するにあたり、 電解電流密度と前記金属の析出効率との関係を
少なくとも１つの次式、 η＝aiＤ＋bi η：金属の析出効率 Ｄ：電流密度 ai，bi：定数 で示される１次式に近似し、 上記１次式近似式にもとづいて次式、 Ｉ＝k1√＋2−k3 Ｉ：電解電流 Ｓ：鋼板速度 k1：定数 k2：定数 k3：定数 で算出される電解電流Ｉとなるように制御される
ことを特徴とする陰極電解処理方法を提供するも
のである。 以下本発明を更に詳細に説明する。前述のごと
く、鋼板へのクロム酸系電気化学処理について説
明を行うが、本発明はこれに限定されることはな
い。 本発明に必要不可欠の要件は次の通りである。 (1) 電解用整流器の電流制御がコンピューター等
の使用により、ラインスピード（被処理物の速
度）変化に対して１次関数以外の複雑な制御が
可能なこと。 (2) クロム酸系の処理浴での金属クロムの析出効
率が第５ａ図の示す実際の電解電流密度に対し
て第５ｂ図に示すように少なくとも部分的にで
も直線（１次関係で近似出来ること。 いま、ここで、 得ようとしている金属クロム量（mg／m2） ：Ｃ 金属クロムの析出効率（％） ：η ラインスピード（mpm） ：Ｓ 電解電流（Ａ） ：Ｉ 電流密度（Ａ／ｄm2） ：Ｄ 定 数 ：ai，bi，Ａ，Ｂ，k1，k2，k3 とすれば、先づ金属クロム量Ｃは Ｃ∝η×Ｉ／Ｓ となる。そしてここでηが部分的にでも η＝aiＤ＋bi となる関係が得られれば、 Ｃ＝（aiＤ＋bi）Ｉ／Ｓ＝ AI2／Ｓ＋BI／Ｓ となる式が得られ、これより、 Ｉ＝k1√＋2−k3 k1＝√ k2＝B2／4AC k3＝Ｂ／2A が求められる。 従つて電解電流ＩをラインスピードＳに対し
て、 Ｉ＝k1√＋2−k3 となるように制御すれば、ラインスピードがどの
ように変化しても金属クロム量は常に一定とな
る。 この技術はクロム酸系処理浴における金属クロ
ムの制御だけではなくて、全ての電気めつきに応
用出来る。電気めつきにおいて、金属の析出効率
が、第５ａ図に示す実際の電解電流密度に対し
て、第５ｂ図に示すように、部分的にでも、直線
にて近似出来る場合には、同様に制御可能であ
る。 上述した本発明の均質な電気化学的処理皮膜を
得る方法をまとめて示したものが第６図である。 あるラインスピードおよび設定付着量の電流量
を算出し、その電気量を通電する為に必要となる
電流値を析出効率（η）を演算する事により求め
この電流値指令にもとづいて整流器を制御する。 〈実施例〉 次に、本発明を実施例につき具体的に説明す
る。 （実施例 １） 連続焼鈍にて焼鈍前にNiめつきを施された板
厚0.20mmの溶接缶用鋼板の原板を脱脂、酸洗後、
＃７（片面のSnめつき量＝0.784ｇ／m2）に極薄錫
めつきを行つた。これを錫溶融処理後下記のクロ
ム酸系化学処理浴にて陰極電解を施した。 化学処理浴条件 CrO3 17ｇ／ H2SO4 0.12ｇ／ 温 度 40℃ この時の電解条件として、従来技術の定電流密
度制御と定電気量密度制御、そして本発明による
制御を行い、ラインスピードの変化による金属ク
ロム量の変化を求めた。その結果を表−１に示
す。 （実施例 ２） 焼鈍、調質圧延された板厚0.22mmのめつき用原
板を脱脂、酸洗後下記のクロム酸系浴にてクロム
めつきを施した。 クロムめつき処理浴条件 CrO3 180ｇ／ H2SO4 0.75ｇ／ Na2SiF6 ６ｇ／ 温 度 50℃ この時のめつき条件として、従来技術の定電気
量密度制御と本発明による制御を行い、ラインス
ピードの変化による金属クロム量の変化を求め
た。 その結果を表−２に示す。
【表】
【表】
〈発明の効果〉
本発明の方法によれば、析出金属の析出効率を
１次式に近似し、この近似式の基づく析出効率と
実際のラインスピードから電流値を求め、この電
流値にて金属の析出を行わせるようにするので、
ラインスピードが変動しても均質な金属皮膜が得
られ、従来の定電流方式あるいは定電気量方式に
比べ安定した電気化学処理を行うことができる。
１次式に近似し、この近似式の基づく析出効率と
実際のラインスピードから電流値を求め、この電
流値にて金属の析出を行わせるようにするので、
ラインスピードが変動しても均質な金属皮膜が得
られ、従来の定電流方式あるいは定電気量方式に
比べ安定した電気化学処理を行うことができる。
第１図および第２図はそれぞれ電流密度および
電気量密度と金属クロム析出効率との関係を示す
グラフである。第３図および第４図はそれぞれ定
電流方式および定電気量方式のラインスピードと
電解電流との関係を示すグラフである。第５ａ図
および第５ｂ図は本発明方法において金属の析出
効率を少なくとも１つの１次式に近似する例を示
す線図である。第６図は本発明方法のフローチヤ
ートである。
電気量密度と金属クロム析出効率との関係を示す
グラフである。第３図および第４図はそれぞれ定
電流方式および定電気量方式のラインスピードと
電解電流との関係を示すグラフである。第５ａ図
および第５ｂ図は本発明方法において金属の析出
効率を少なくとも１つの１次式に近似する例を示
す線図である。第６図は本発明方法のフローチヤ
ートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被処理物の表面に陰極電解処理により、金属
を折出するにあたり、 電解電流密度と前記金属の析出効率との関係を
少なくとも１つの次式、 η＝aiＤ＋bi η：金属の折出効率 Ｄ：電流密度 ai，bi：定数 で示される１次式に近似し、 上記１次式近似式にもとづいて次式、 Ｉ＝k1√＋2−k3 Ｉ：電解電流 Ｓ：鋼板速度 k1：定数 k2：定数 k3：定数 で算出される電解電流Ｉとなるように制御される
ことを特徴とする陰極電解処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11839285A JPS61276998A (ja) | 1985-05-31 | 1985-05-31 | 陰極電解処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11839285A JPS61276998A (ja) | 1985-05-31 | 1985-05-31 | 陰極電解処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61276998A JPS61276998A (ja) | 1986-12-06 |
| JPS6357516B2 true JPS6357516B2 (ja) | 1988-11-11 |
Family
ID=14735542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11839285A Granted JPS61276998A (ja) | 1985-05-31 | 1985-05-31 | 陰極電解処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61276998A (ja) |
-
1985
- 1985-05-31 JP JP11839285A patent/JPS61276998A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61276998A (ja) | 1986-12-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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