JPS6357581A - 線状ポリイミド樹脂及びその製造法 - Google Patents
線状ポリイミド樹脂及びその製造法Info
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- JPS6357581A JPS6357581A JP20106086A JP20106086A JPS6357581A JP S6357581 A JPS6357581 A JP S6357581A JP 20106086 A JP20106086 A JP 20106086A JP 20106086 A JP20106086 A JP 20106086A JP S6357581 A JPS6357581 A JP S6357581A
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- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野〕
本発明は、線状ポリイミド樹脂の合成原料として有用な
新規な脂肪族構造を有するテトラカルボン酸無水物、該
テトラカルボン酸無水物から4かれる新規な線状ポリイ
ミド樹脂及びそれらの製造法に関するものであり、詳し
くは、耐熱性、透明性、耐薬品性及び各種基材に対する
密着性に優れた新規な線状ポリイミド樹脂、その合成原
料である新規なテトラカルボン酸無水物及びそれらの製
造法に関するものである。
新規な脂肪族構造を有するテトラカルボン酸無水物、該
テトラカルボン酸無水物から4かれる新規な線状ポリイ
ミド樹脂及びそれらの製造法に関するものであり、詳し
くは、耐熱性、透明性、耐薬品性及び各種基材に対する
密着性に優れた新規な線状ポリイミド樹脂、その合成原
料である新規なテトラカルボン酸無水物及びそれらの製
造法に関するものである。
(ロ)従来の技術
ポリイミド樹脂は、ピロメリット酸二無水物等の芳香族
テトラカルボン゛酸二無水物と芳香族ジアミンの反応に
よって得られる線状の高分子であり、高引張強度、強靭
性をもち優れた電気絶縁性と耐薬品性を示すうえ、耐熱
性が優れるという特徴をもつ。
テトラカルボン゛酸二無水物と芳香族ジアミンの反応に
よって得られる線状の高分子であり、高引張強度、強靭
性をもち優れた電気絶縁性と耐薬品性を示すうえ、耐熱
性が優れるという特徴をもつ。
従って、耐熱性のフィルム、接着剤、成形用樹脂、積層
用樹脂、繊維として使用するのに好適であり、近年これ
らの特性を利用して、自動車部品、殊機械部品、電気、
電子材料、宇宙・航空機材料等への応用が盛んになりつ
つある。
用樹脂、繊維として使用するのに好適であり、近年これ
らの特性を利用して、自動車部品、殊機械部品、電気、
電子材料、宇宙・航空機材料等への応用が盛んになりつ
つある。
これらの耐熱性芳香族ポリイミド樹脂は濃い琥珀色に着
色していることが、一つの外観上の特徴である。
色していることが、一つの外観上の特徴である。
一方、最近になって適当な脂肪族構造を有するテトラカ
ルボン酸無水物を使用した透明性に優れ且つ耐熱性が良
好なポリイミド樹脂が提案されている。(特開昭60−
6727号) しかし、このポリイミド樹脂は原料であるテトラカルボ
ン酸無水物の製造が比較的煩雑であり、実用上必ずしも
満足の行くものではない。
ルボン酸無水物を使用した透明性に優れ且つ耐熱性が良
好なポリイミド樹脂が提案されている。(特開昭60−
6727号) しかし、このポリイミド樹脂は原料であるテトラカルボ
ン酸無水物の製造が比較的煩雑であり、実用上必ずしも
満足の行くものではない。
(ハ)発明が解決しようとする問題点
本発明は、上記問題点を改良した工業的に製造が有利で
、耐熱性、密着性及び透明性に優れたポリイミド樹脂の
製造原料として有用な新規なテトラカルボン酸無水物並
びに該テトラカルボン酸無水物から得られる耐熱性、透
明性、耐薬品性及び各種基材に対する密着性に優れた脂
肪族構造を有する新規なポリイミド樹脂及びそれらの製
造法を提供するものである。
、耐熱性、密着性及び透明性に優れたポリイミド樹脂の
製造原料として有用な新規なテトラカルボン酸無水物並
びに該テトラカルボン酸無水物から得られる耐熱性、透
明性、耐薬品性及び各種基材に対する密着性に優れた脂
肪族構造を有する新規なポリイミド樹脂及びそれらの製
造法を提供するものである。
(ニ)問題点を解決するための手段
本発明者は、新規なテトラカルボン酸である一般式(N
で表される1換ジフェノキシアルカン−4,4’−ビス
(コハク酸無水物)に注目し、その製造法につき研究し
た結果、4,4′−ジホルミルジフェノキシアルカンを
出発原料とする工業的に有利な製造法を見出すと共に、
置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸
無水物)を芳香族ジアミンと重合させて、次いで脱水閉
環させて得られるポリイミド樹脂は、透明強靭で耐熱性
、耐薬品性及びガラス、金属等の各種基材に対する密着
性が優れていることも見出した。
で表される1換ジフェノキシアルカン−4,4’−ビス
(コハク酸無水物)に注目し、その製造法につき研究し
た結果、4,4′−ジホルミルジフェノキシアルカンを
出発原料とする工業的に有利な製造法を見出すと共に、
置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸
無水物)を芳香族ジアミンと重合させて、次いで脱水閉
環させて得られるポリイミド樹脂は、透明強靭で耐熱性
、耐薬品性及びガラス、金属等の各種基材に対する密着
性が優れていることも見出した。
本発明は、第1に、一般式(1)で表される置換ジフェ
ノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸無水物)に
関するものである。
ノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸無水物)に
関するものである。
本発明は、第2に、上記構造式CI)で表される置換ジ
フェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハクM無水物
)の製造法に関し、その製造法は、一般式(n)で表さ
れる ?In−4,4’−ビス(β−シアノ、β−アルコ上ジ
カルボニルビニル)−ジフェノキシアルカンとシアン化
アルカリを反応させて製造することができる。
フェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハクM無水物
)の製造法に関し、その製造法は、一般式(n)で表さ
れる ?In−4,4’−ビス(β−シアノ、β−アルコ上ジ
カルボニルビニル)−ジフェノキシアルカンとシアン化
アルカリを反応させて製造することができる。
上記製造法において、出発原料として用いられる一般式
(II)で表される置換−4,4′−ビス(β−シアノ
、β−アルコキシカルボニルビニル)−ジフェノキシア
ルカンは、一般式CIV)で表される4、4′−ジホル
ミルジフェノキシアルカンとシアノ酢酸エステルとの反
応によって製造することができ、この反応は、次式で表
すことができる。
(II)で表される置換−4,4′−ビス(β−シアノ
、β−アルコキシカルボニルビニル)−ジフェノキシア
ルカンは、一般式CIV)で表される4、4′−ジホル
ミルジフェノキシアルカンとシアノ酢酸エステルとの反
応によって製造することができ、この反応は、次式で表
すことができる。
N
(rV)
CI+)
(式中、X、 n、 R”は前記に同じ)ここで、一
般式(IV)で表される置換−4,4′−ビス(β−シ
アノ、β−アルコキシカルボニルビニル)−ジフェノキ
シアルカンは、p−ヒドロキシフェニルアルデヒド類と
一般式(V)で表されるメチレンジハロゲン化物の反応
によって製造することができる。
般式(IV)で表される置換−4,4′−ビス(β−シ
アノ、β−アルコキシカルボニルビニル)−ジフェノキ
シアルカンは、p−ヒドロキシフェニルアルデヒド類と
一般式(V)で表されるメチレンジハロゲン化物の反応
によって製造することができる。
この反応は、次式で表すことができる。
(VI)
(式中、Yはハロゲン、X、nは前記に同じ)上記一般
式〔I〕で表される置換ジフェノキシアルカン−4,4
′−ビス(コハク酸無水物)の製造法において、シアン
化アルカリと一般式(n)で表される置換−4,4′−
ビス(βシアノ、β−アルコキシカルボニルビニル)−
ジフェノキシアルカンの反応は無触媒で進行し、付加化
合物が生成することが分かった。この付加化合物を酸性
で加水分解すると、一般式〔■〕で表される置換ジフェ
ノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸)を製造す
ることができる。
式〔I〕で表される置換ジフェノキシアルカン−4,4
′−ビス(コハク酸無水物)の製造法において、シアン
化アルカリと一般式(n)で表される置換−4,4′−
ビス(βシアノ、β−アルコキシカルボニルビニル)−
ジフェノキシアルカンの反応は無触媒で進行し、付加化
合物が生成することが分かった。この付加化合物を酸性
で加水分解すると、一般式〔■〕で表される置換ジフェ
ノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸)を製造す
ることができる。
この反応は次式で表すことができる。
(I[)
Oz
(〜π〕
(式中、X、n、R2は前記に同じ)
上述のようにして製造することができる置換ジフェノキ
シアルカン−4,4′−ビス(コハク酸)は新規なテト
ラカルボン酸である。
シアルカン−4,4′−ビス(コハク酸)は新規なテト
ラカルボン酸である。
置換ジフェノキシアルカン−4,4′〜ビス(コハク酸
)と無水酢酸を煮沸することにより一般式(1)で表さ
れる置換ジフェノキシアルカン−4゜4 ′−ビス(コ
ハク酸無水物)を製造することができる。
)と無水酢酸を煮沸することにより一般式(1)で表さ
れる置換ジフェノキシアルカン−4゜4 ′−ビス(コ
ハク酸無水物)を製造することができる。
(式中、X、nは前記に同じ)
本発明は、第3に、実質的に下記繰返し構造単位CI)
で表される線状ポリイミドに関するものである。
で表される線状ポリイミドに関するものである。
以下余白
更に、本発明は、第4に、実質的に上記繰返し単位(I
V)で表される線状ポリイミド樹脂の製造法に関し、そ
の製造法は一般式CI〕で表される置換ジフェノキシア
ルカン−4,4′−ビス(コハク酸無水物)と芳香族ジ
アミンを溶媒中で重合させ、次いで脱水閉環させるもの
である 置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸
無水物)と反応させる芳香族ジアミンは、特に制限され
るものではない。
V)で表される線状ポリイミド樹脂の製造法に関し、そ
の製造法は一般式CI〕で表される置換ジフェノキシア
ルカン−4,4′−ビス(コハク酸無水物)と芳香族ジ
アミンを溶媒中で重合させ、次いで脱水閉環させるもの
である 置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸
無水物)と反応させる芳香族ジアミンは、特に制限され
るものではない。
その代表的な例をあげれば、p−フェニレンジアミン、
m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、
ジアミノジフェニルエーテル、2゜2−ジアミノジフェ
ニルプロパン、ジアミノフェニルスルホン、ジアミノベ
ンゾフェノン、ジアミノナフタレン、1,3−ビス(4
−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−ア
ミノフェノキシ)ベンゼン、4,4′−ジ(4−アミノ
フェノキシ)ジフェニルスルホン、2.2’−ビス〔4
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン等が挙げ
られる。
m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、
ジアミノジフェニルエーテル、2゜2−ジアミノジフェ
ニルプロパン、ジアミノフェニルスルホン、ジアミノベ
ンゾフェノン、ジアミノナフタレン、1,3−ビス(4
−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−ア
ミノフェノキシ)ベンゼン、4,4′−ジ(4−アミノ
フェノキシ)ジフェニルスルホン、2.2’−ビス〔4
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン等が挙げ
られる。
これらの芳香族ジアミンは一種に限定されるもめではな
く、二種以上を用いてもかまわない。
く、二種以上を用いてもかまわない。
又、本発明におけるポリミド樹脂の用途に応じて、特定
の性質を付与する目的でこれら芳香族ジアミンを種々選
択することは当然好ましいことであり、この目的で芳香
族ジアミンの一部を脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン等
で置換使用することも同等差支えない。
の性質を付与する目的でこれら芳香族ジアミンを種々選
択することは当然好ましいことであり、この目的で芳香
族ジアミンの一部を脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン等
で置換使用することも同等差支えない。
更に、得られるポリイミド樹脂の耐熱性、透明性並びに
各種基材に対する密着性を損なわない限りにおいて、置
換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸無
水物)の一部を他のテトラカルボン酸無水物、例えば、
ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物等の芳香族酸無水物、ブタンテトラカルボ
ン酸二無水物等の脂肪族酸無水物等で置換して用いるこ
とも差支えない。
各種基材に対する密着性を損なわない限りにおいて、置
換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸無
水物)の一部を他のテトラカルボン酸無水物、例えば、
ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物等の芳香族酸無水物、ブタンテトラカルボ
ン酸二無水物等の脂肪族酸無水物等で置換して用いるこ
とも差支えない。
置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸
無水物)と芳香族ジアミンを溶媒中で重合させ、所謂ポ
リアミド酸とし、次いで脱水閉環することによりポリイ
ミド樹脂とする重合法は生成するポリアミド酸を単離せ
ずにポリイミド樹脂とする一段法で行ってもよ(、或い
は生成したポリアミド酸を単離し、次いで脱水閉環させ
てポリミド樹脂とする二段法で行ってもよい。
無水物)と芳香族ジアミンを溶媒中で重合させ、所謂ポ
リアミド酸とし、次いで脱水閉環することによりポリイ
ミド樹脂とする重合法は生成するポリアミド酸を単離せ
ずにポリイミド樹脂とする一段法で行ってもよ(、或い
は生成したポリアミド酸を単離し、次いで脱水閉環させ
てポリミド樹脂とする二段法で行ってもよい。
本発明における重合法は、溶液法が好適である。
溶液法に用いられる溶媒としては、生成するポリアミド
酸を溶解するものであれば特に限定されるものではない
。
酸を溶解するものであれば特に限定されるものではない
。
代表的な溶媒としては、N、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリド
ン、N−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド
、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘ
キサメチルホスホルアミド、ブチロラクトン等が挙げら
れる。
、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリド
ン、N−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド
、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘ
キサメチルホスホルアミド、ブチロラクトン等が挙げら
れる。
これらは、単独で用いてもよく、又混合して用いてもか
まわない。
まわない。
更に、ポリアミド酸を溶解しない溶媒であっても、ポリ
アミド酸を溶解させうる範囲内でこれを上記溶媒に加え
ても同等差支えない。
アミド酸を溶解させうる範囲内でこれを上記溶媒に加え
ても同等差支えない。
本発明における重合においては、置換ジフェノキシアル
カン−4,4′−ビス(コハク酸=水s>と芳香族ジア
ミンのモル比は0.5〜2、好ましくは0.9〜1.1
の任意のモル比で反応させることができる。通常の重合
反応と同様、これら二成分のモル比が1に近いほど生成
するポリアミド酸の分子量は大きくなる。
カン−4,4′−ビス(コハク酸=水s>と芳香族ジア
ミンのモル比は0.5〜2、好ましくは0.9〜1.1
の任意のモル比で反応させることができる。通常の重合
反応と同様、これら二成分のモル比が1に近いほど生成
するポリアミド酸の分子量は大きくなる。
ポリアミド酸生成のための重合温度は一20〜150℃
の任意の温度を選択できるが、特に−5〜100℃の範
圀が好ましい。
の任意の温度を選択できるが、特に−5〜100℃の範
圀が好ましい。
本発明において、ポリアミド酸をポリイミド樹脂に転化
するには、通常は加熱により脱水閉環する方法がとられ
る。この加熱脱水閉環する温度は、150〜400℃、
好ましくは170〜350℃の任意の温度を選択できる
。
するには、通常は加熱により脱水閉環する方法がとられ
る。この加熱脱水閉環する温度は、150〜400℃、
好ましくは170〜350℃の任意の温度を選択できる
。
又、この脱水閉環に要する時間は上記反応温度にもによ
るが30秒〜10時間、好ましくは5分〜5時間をかけ
ることが適当である。
るが30秒〜10時間、好ましくは5分〜5時間をかけ
ることが適当である。
又、ポリアミド酸をポリイミド樹脂に転化する他の方法
として、脱水閉環触媒を用いて化学的に閉環する方法も
とりうる。これらの方法については、通常のポリイミド
樹脂の合成において用いられる公知の方法をそのまま採
用でき、特に条件等を制限されるものではない。
として、脱水閉環触媒を用いて化学的に閉環する方法も
とりうる。これらの方法については、通常のポリイミド
樹脂の合成において用いられる公知の方法をそのまま採
用でき、特に条件等を制限されるものではない。
(ホ)発明の効果
本発明の方法により比較的安価に得られる一般式(1)
で表される置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス
(コハク酸無水物)及びこれを原料の一成分として用い
て得られるポリイミド樹脂はこれまで知られていなかっ
た。
で表される置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス
(コハク酸無水物)及びこれを原料の一成分として用い
て得られるポリイミド樹脂はこれまで知られていなかっ
た。
又、本発明のポリイミド樹脂は、透明性、耐熱性、耐薬
品性に優れ、更にガラス、金属等の各種基材に対して優
れた密着性をもつ等の特徴を有している。
品性に優れ、更にガラス、金属等の各種基材に対して優
れた密着性をもつ等の特徴を有している。
従って、本発明のポリイミド樹脂は、表示材料(例えば
透明導電膜のベースフィルム、液晶配向膜)フィルム、
シートを始めエナメル、ラミネート、接着剤、積層剤等
への応用が可能である。
透明導電膜のベースフィルム、液晶配向膜)フィルム、
シートを始めエナメル、ラミネート、接着剤、積層剤等
への応用が可能である。
(ホ)実施例
以下、実施例について本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
O置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク
酸無水物)の製造 実施例1〜3 0.2モルの置換−4,4′−ビス(β−シア八へ−エ
トキシカルボニルビニル)〜ジフェノキシアルカンをエ
タノールlooomfに分散し、42gのシアン化カリ
ウムを含む200n+j!の水溶液を滴下し室温で12
時間撹拌した。濃塩酸で強酸性にした後、ロータリーエ
バポレーターでエタノールと水を減圧留去し、残渣に濃
塩酸200 mlを加え、12時間還流した。放冷後、
冷却し結晶を濾別し、氷酢酸と水の混合液(9: 1)
から再結晶させた。この結晶0.1モルを200mi(
7)無水酢酸に分散し、4時間還流した。次に、室温に
放冷し、同体積のエチルエーテルを加えて生成物を濾別
後、加熱した無水酢酸に溶解し、エチルエーテルを加え
て結晶化させ置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビ
ス(コハク酸無水物)を得た。
酸無水物)の製造 実施例1〜3 0.2モルの置換−4,4′−ビス(β−シア八へ−エ
トキシカルボニルビニル)〜ジフェノキシアルカンをエ
タノールlooomfに分散し、42gのシアン化カリ
ウムを含む200n+j!の水溶液を滴下し室温で12
時間撹拌した。濃塩酸で強酸性にした後、ロータリーエ
バポレーターでエタノールと水を減圧留去し、残渣に濃
塩酸200 mlを加え、12時間還流した。放冷後、
冷却し結晶を濾別し、氷酢酸と水の混合液(9: 1)
から再結晶させた。この結晶0.1モルを200mi(
7)無水酢酸に分散し、4時間還流した。次に、室温に
放冷し、同体積のエチルエーテルを加えて生成物を濾別
後、加熱した無水酢酸に溶解し、エチルエーテルを加え
て結晶化させ置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビ
ス(コハク酸無水物)を得た。
表1に生成物の収率、融点、元素分析値を示す。
又、実施例1 (n=2.X=H) 、2 (n=3
゜X = H)及び実施例3 (n=4.X=H) に
対応する赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤法)のチャ
ートを図1.2及び3に示す。
゜X = H)及び実施例3 (n=4.X=H) に
対応する赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤法)のチャ
ートを図1.2及び3に示す。
以下余白
ジアミン0.001モルをジメチルアセトアミド3.O
n+j!に加え、均一溶液とした。次に置換ジフェノキ
シアルカン−4,4′−ビス(コハク酸無水物)0.0
01モルを少しづつ加え、室温で24時間反応させた。
n+j!に加え、均一溶液とした。次に置換ジフェノキ
シアルカン−4,4′−ビス(コハク酸無水物)0.0
01モルを少しづつ加え、室温で24時間反応させた。
反応溶液をアルミ製シート上にキャストし、減圧下60
〜70℃、4時間乾燥しポリアミド酸フィルムとした。
〜70℃、4時間乾燥しポリアミド酸フィルムとした。
更に、このフィルムを減圧下220℃で10時間加熱処
理した後、希塩酸でアルミ製シートを溶解除去し、薄黄
色の透明なポリイミド樹脂フィルムを得た。
理した後、希塩酸でアルミ製シートを溶解除去し、薄黄
色の透明なポリイミド樹脂フィルムを得た。
表2にポリアミド酸の還元粘度、ポリイミド樹脂の元素
分析値、熱軟化温度及び熱安定性の測定結果を示す。測
定条件は次の通りである。
分析値、熱軟化温度及び熱安定性の測定結果を示す。測
定条件は次の通りである。
■ ポリアミド酸還元粘度
0.2g/dl ジメチルアセトアミド溶液30℃■
軟化温度 ■ 熱安定性 空気中及び窒素ガス中における加熱i11&ljt曲線
(昇温速度 5℃/分)の10%重量重量減変 温4.5.6.7.8.9.10.11及び12に実施
例4 (n=2.X=H,Y=O) 、5 (n=2
.X=H,Y=S )、6 (n=2. X=H。
軟化温度 ■ 熱安定性 空気中及び窒素ガス中における加熱i11&ljt曲線
(昇温速度 5℃/分)の10%重量重量減変 温4.5.6.7.8.9.10.11及び12に実施
例4 (n=2.X=H,Y=O) 、5 (n=2
.X=H,Y=S )、6 (n=2. X=H。
Y=CHり、7 (n=3.X=H,Y=O)、8(n
=3. X=H,Y=S )、9 (n=3.X=H。
=3. X=H,Y=S )、9 (n=3.X=H。
Y=CHt)、10 (n=4.X=H,Y=O) 、
11 (n=4.X=1(、Y=S、及び12(n=
4゜X = H、Y =CHz)のポリイミドの赤外線
吸収スペクトル(KBr K刑法)のチャートを示す。
11 (n=4.X=1(、Y=S、及び12(n=
4゜X = H、Y =CHz)のポリイミドの赤外線
吸収スペクトル(KBr K刑法)のチャートを示す。
赤外線吸収スペクトルは、1770cm−’、1700
cm−’、1290cm−’の吸収があり5員環状イミ
ドが生成していることを示している。又、実施例4.5
.6.7.8.9.10.11及び12の生成したポリ
イミド樹脂はジメチルアセトアミド、N−メチル−2−
ピロリジノンには加熱しても不溶であった。
cm−’、1290cm−’の吸収があり5員環状イミ
ドが生成していることを示している。又、実施例4.5
.6.7.8.9.10.11及び12の生成したポリ
イミド樹脂はジメチルアセトアミド、N−メチル−2−
ピロリジノンには加熱しても不溶であった。
更に、図A、B、C,D、E、F、G、H及びIに実施
例4.5.6.7.8.9.10.11及び12のポリ
イミド樹脂の加熱−6!i量曲線を示す。
例4.5.6.7.8.9.10.11及び12のポリ
イミド樹脂の加熱−6!i量曲線を示す。
実線は空気中、点線は窒素中での測定である。
○4,4′−ジホルミルジフェノキシアルカンの製造
参考例1〜6
置換P−ヒドロキシベンズアルデヒド1モルを水酸化カ
リウム65gを含むエタノール1.54溶液に加え、還
流しながらジブロモアルカン0.5モルを滴下した。次
に、室温で25時間攪拌後、析出した固体を口過し、水
で洗浄乾燥した。
リウム65gを含むエタノール1.54溶液に加え、還
流しながらジブロモアルカン0.5モルを滴下した。次
に、室温で25時間攪拌後、析出した固体を口過し、水
で洗浄乾燥した。
生成物の再結晶溶媒としてジメチルアセトアミド/水=
371又はジメチルアセトアミド/エタノール=174
を使用した。表3に生成物の収率、融点を示す。
371又はジメチルアセトアミド/エタノール=174
を使用した。表3に生成物の収率、融点を示す。
表 3
12 H41,5136
23H64,4131
34H35,0−
42CH3053,5185
53CtlJ 67.1 146
64 CHsO85,9158
0Its−4,4’−ビス(β−シアノ、β−エトキシ
カルボニルビニル)−ジフェノキシアルカンの製造 参考例7〜12 4.4′−ジホルミルジフェノキシアルカンをジメチル
アセトアミド(DMAC)又はジメチルホルムアミド(
DMF)に分散し、シアノ酢酸エチル及び触媒としてピ
ペリジン3滴を加え室温で12時間攪拌した。
カルボニルビニル)−ジフェノキシアルカンの製造 参考例7〜12 4.4′−ジホルミルジフェノキシアルカンをジメチル
アセトアミド(DMAC)又はジメチルホルムアミド(
DMF)に分散し、シアノ酢酸エチル及び触媒としてピ
ペリジン3滴を加え室温で12時間攪拌した。
析出した生成物を口過しエタノールで洗浄、乾燥した。
再結晶溶媒としてジメチルアセトアミド/エタノール−
171を使用した。表4に反応条件及び生成物の元素分
析値、収率、融点を示す。
171を使用した。表4に反応条件及び生成物の元素分
析値、収率、融点を示す。
図13.14.15.16.17及び18に参考例7.
8.9.10.11及び12の置換−4゜4 ′−ビス
(β−シアノ、β−エトキシカルボニルビニル)−ジフ
ェノキシアルカンの赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤
法)のチャートを示す。
8.9.10.11及び12の置換−4゜4 ′−ビス
(β−シアノ、β−エトキシカルボニルビニル)−ジフ
ェノキシアルカンの赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤
法)のチャートを示す。
以下余白
図1.2及び3は、実施例1.2及び3の各種置換ジフ
ェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸無水物)
の赤外線吸収スペクトル(KBrBr法)のチャート、 図4.5.6.7.8.9.10.11及び12は、実
施例4.5.6.7.8.9.10.11及び12の各
種生成ポリイミド樹脂の赤外線吸収スペクトル(KBr
9刑法)のチャート、図13.14.15.16.1
7及び18は、参考例7.8.9.10.11及び12
の各種4゜4 ′−ビス(β−シアノ、β−エトキシカ
ルボニルビニル)−ジフェノキシアルカンの赤外線吸収
スペクトル(KBr錠剤法)のチャートを示す。 又、図A、B、、C,D、E、F、G、H及びIは、実
施例4.5.6.7.8.9.10.11及び12の各
種生成ポリイミドの加熱減量曲′fr3(実線は空気中
、点線は窒素中の測定、縦軸は重量残率%、横軸は温度
)を示す。 特許出願人 日産化学工業株式会社 ?二へF(−C) )21LO オニ度 く′″ C) 1[F] Σ1 を二&(−C) 121’LL ?温度 く@ c〉 咄 23 t工2朦 ぐ−C) 1′D I+ 温度 く6 C) +iL5 ?温度 く0 c〉 )21 と6 温り社 (−C) )色 λ゛7 txL度 く0 c) 手続補正書(方式) %式% 2、発明の名称 置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸
無水物)、線状ポリイミド樹脂及びそれらの製造法3、
事件との関係 特許出願人 住所■101東京都千代田区神田錦町3丁目7番地14
、補正命令の日付 昭和61年10月8日 (発送日 昭和61年10月28日) 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄及び図面の節華な6、補
正の内容 1)明細書の第23頁第17〜18行目及び第29頁第
15行目の「図A、 B、 C,D、 E。 F、G、H及びI」とあるのを「図19.20.21,
22,23,24.−25.26及び27」と訂正する
。 2)「図16」を別紙のとおり訂正する。 3)「図17」を別紙のとおり訂正する。 4)「図18」を別紙のとおり訂正する。 5)別紙のとおり、「図A」とあるのを「図19Jと訂
正する。 6)別紙のとおり、「図B」とあるのを「図20」と訂
正する。 7)別紙のとおり、「図C」とあるのを「図21」と訂
正する。 8)別紙のとおり、「図D」とあるのを「図22」と訂
正する。 9)別紙のとおり、「図E」とあるのを「図23」と訂
正する。 11)別紙のとおり、「図F」とあるのを「図24」と
訂正する。 12)別紙のとおり、「図G」とあるのを「図25」と
訂正する。 13)別紙のとおり、「図H」とあるのを「図26」と
訂正する。 14)別紙のとおり、「図I」とあるのを「図27」と
訂正する。
ェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸無水物)
の赤外線吸収スペクトル(KBrBr法)のチャート、 図4.5.6.7.8.9.10.11及び12は、実
施例4.5.6.7.8.9.10.11及び12の各
種生成ポリイミド樹脂の赤外線吸収スペクトル(KBr
9刑法)のチャート、図13.14.15.16.1
7及び18は、参考例7.8.9.10.11及び12
の各種4゜4 ′−ビス(β−シアノ、β−エトキシカ
ルボニルビニル)−ジフェノキシアルカンの赤外線吸収
スペクトル(KBr錠剤法)のチャートを示す。 又、図A、B、、C,D、E、F、G、H及びIは、実
施例4.5.6.7.8.9.10.11及び12の各
種生成ポリイミドの加熱減量曲′fr3(実線は空気中
、点線は窒素中の測定、縦軸は重量残率%、横軸は温度
)を示す。 特許出願人 日産化学工業株式会社 ?二へF(−C) )21LO オニ度 く′″ C) 1[F] Σ1 を二&(−C) 121’LL ?温度 く@ c〉 咄 23 t工2朦 ぐ−C) 1′D I+ 温度 く6 C) +iL5 ?温度 く0 c〉 )21 と6 温り社 (−C) )色 λ゛7 txL度 く0 c) 手続補正書(方式) %式% 2、発明の名称 置換ジフェノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸
無水物)、線状ポリイミド樹脂及びそれらの製造法3、
事件との関係 特許出願人 住所■101東京都千代田区神田錦町3丁目7番地14
、補正命令の日付 昭和61年10月8日 (発送日 昭和61年10月28日) 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄及び図面の節華な6、補
正の内容 1)明細書の第23頁第17〜18行目及び第29頁第
15行目の「図A、 B、 C,D、 E。 F、G、H及びI」とあるのを「図19.20.21,
22,23,24.−25.26及び27」と訂正する
。 2)「図16」を別紙のとおり訂正する。 3)「図17」を別紙のとおり訂正する。 4)「図18」を別紙のとおり訂正する。 5)別紙のとおり、「図A」とあるのを「図19Jと訂
正する。 6)別紙のとおり、「図B」とあるのを「図20」と訂
正する。 7)別紙のとおり、「図C」とあるのを「図21」と訂
正する。 8)別紙のとおり、「図D」とあるのを「図22」と訂
正する。 9)別紙のとおり、「図E」とあるのを「図23」と訂
正する。 11)別紙のとおり、「図F」とあるのを「図24」と
訂正する。 12)別紙のとおり、「図G」とあるのを「図25」と
訂正する。 13)別紙のとおり、「図H」とあるのを「図26」と
訂正する。 14)別紙のとおり、「図I」とあるのを「図27」と
訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式〔 I 〕で表される ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔 I 〕 (式中、Xは水素又はOR^1、n=1〜5の整数、但
しR^1は炭素数1〜4のアルキル基を示す。)置換ジ
フエノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸無水物
)。 2、一般式〔II〕で表される ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔II〕 式中、Xは水素又はOR^1、n=1〜5の整数、R^
2は炭素数1〜4のアルキル基、但しR^1は炭素数1
〜4のアルキル基を示す。 置換−4,4′−ビス(β−シアノ、β−アルコキシカ
ルボニルビニル)−ジフエノキシアルカンとシアン化ア
ルカリを反応させることを特徴とする一般式〔 I 〕で
表される ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔 I 〕 (式中、Xは水素又はOR^1、n=1〜5の整数、但
しR^1は炭素数1〜4のアルキル基を示す。)置換ジ
フエノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸無水物
)の製造法。 3、実質的に繰返し構造単位〔III〕で表される▲数式
、化学式、表等があります▼ 〔III〕 式中、Xは水素、OR^1、n=1〜5の整数、R^3
は芳香族ジアミン残基、但しR^1は炭素数1〜4のア
ルキル基を示す。 線状ポリイミド樹脂。 4、一般式〔 I 〕で表される ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔 I 〕 (式中、Xは水素又はOR^1、n=1〜5の整数、但
しR^1は炭素数1〜4のアルキル基を示す。)置換ジ
フエノキシアルカン−4,4′−ビス(コハク酸無水物
)とジアミンを溶媒中で重合させ、次いで、脱水閉環せ
しめることを特徴とする実質的に繰返し構造単位〔III
〕で表される ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔III〕 式中、Xは水素又はOR^1、n=1〜5の整数但しR
^1は炭素数1〜4のアルキル基、R^3は芳香族ジア
ミン残基を示す。 線状ポリイミド樹脂の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20106086A JPS6357581A (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | 線状ポリイミド樹脂及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20106086A JPS6357581A (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | 線状ポリイミド樹脂及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6357581A true JPS6357581A (ja) | 1988-03-12 |
| JPH0582849B2 JPH0582849B2 (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=16434717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20106086A Granted JPS6357581A (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | 線状ポリイミド樹脂及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6357581A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0493453A (ja) * | 1990-08-09 | 1992-03-26 | Nisshin Kogyo Kk | 脱気防水工法並びにそれに用いる脱気蓋 |
| WO2010056452A3 (en) * | 2008-11-14 | 2010-07-29 | Cytec Technology Corp. | Dimeric cyanoacrylate compounds as red-shifted uv absorbers |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4263209A (en) * | 1979-07-02 | 1981-04-21 | The Dow Chemical Company | Aromatic dianhydrides |
-
1986
- 1986-08-27 JP JP20106086A patent/JPS6357581A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4263209A (en) * | 1979-07-02 | 1981-04-21 | The Dow Chemical Company | Aromatic dianhydrides |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0493453A (ja) * | 1990-08-09 | 1992-03-26 | Nisshin Kogyo Kk | 脱気防水工法並びにそれに用いる脱気蓋 |
| WO2010056452A3 (en) * | 2008-11-14 | 2010-07-29 | Cytec Technology Corp. | Dimeric cyanoacrylate compounds as red-shifted uv absorbers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0582849B2 (ja) | 1993-11-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |