JPS635931A - 光硬化エポキシ樹脂デイスク - Google Patents
光硬化エポキシ樹脂デイスクInfo
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- JPS635931A JPS635931A JP61152321A JP15232186A JPS635931A JP S635931 A JPS635931 A JP S635931A JP 61152321 A JP61152321 A JP 61152321A JP 15232186 A JP15232186 A JP 15232186A JP S635931 A JPS635931 A JP S635931A
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- Pending
Links
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、光を用いて音声、画像、情報などを記録し再
製する光ディスク記碌媒体に関する。
製する光ディスク記碌媒体に関する。
（従来の技術）
従来のディスクは、ガラス盤上に溝または凹凸信号を７
オトボリマー法によって形成する方法と、ポリカーボネ
ート樹脂（以下ＰＣ）またはポリメチルメタクリレート
樹脂（以下ＰＭＭＡ）を射出成形に工って凹凸を形成す
る方法とがある。
オトボリマー法によって形成する方法と、ポリカーボネ
ート樹脂（以下ＰＣ）またはポリメチルメタクリレート
樹脂（以下ＰＭＭＡ）を射出成形に工って凹凸を形成す
る方法とがある。
また、フォトポリマー法に用いる透明基板として特開昭
５９−２２２４８号公報に見られるように、熱硬化性エ
ポキシ樹脂に用いる方法がある。
５９−２２２４８号公報に見られるように、熱硬化性エ
ポキシ樹脂に用いる方法がある。
（発明が解決しようとする問題点）
ガラスは高価であり、ディスクの高速回転時及び取扱い
に際して破損し易い問題がある。ＰＣは成形時の分子配
向による光学歪がおこり易く、かつその表面硬度が低い
欠点がある。ＰＭＭＡは、耐熱性、耐湿性が低く、ディ
スクの反り及び吸湿水分が金属記録膜を劣化させる問題
がある。さらに、ＰＣ，ＰＭＭＡの何れも、高分子量の
樹脂を射出成形するために樹脂の濾過が困難であって、
ディスク中にごみ、はこり等が混入し不良原因となる問
題がある。
に際して破損し易い問題がある。ＰＣは成形時の分子配
向による光学歪がおこり易く、かつその表面硬度が低い
欠点がある。ＰＭＭＡは、耐熱性、耐湿性が低く、ディ
スクの反り及び吸湿水分が金属記録膜を劣化させる問題
がある。さらに、ＰＣ，ＰＭＭＡの何れも、高分子量の
樹脂を射出成形するために樹脂の濾過が困難であって、
ディスク中にごみ、はこり等が混入し不良原因となる問
題がある。
特開昭５９−２２２４８公報に記載さｒした方法は、低
粘度の液状エポキシ樹脂を用いるから、０．２０μ以上
のごみ、はこりを除去することができ、かつ得られた硬
化物の耐熱性、耐湿性、光学歪などは改善されるが、熱
硬化性樹脂であるがために硬化時間が長いという問題が
ある。
粘度の液状エポキシ樹脂を用いるから、０．２０μ以上
のごみ、はこりを除去することができ、かつ得られた硬
化物の耐熱性、耐湿性、光学歪などは改善されるが、熱
硬化性樹脂であるがために硬化時間が長いという問題が
ある。
（問題点を解決するための手段）
本発明は前記諸問題を解決して、短時間に硬化し透明性
、耐熱性、耐湿性に優れ光学歪の少ない光硬化エポキシ
樹脂製ディスクを提供する。
、耐熱性、耐湿性に優れ光学歪の少ない光硬化エポキシ
樹脂製ディスクを提供する。
本発明は、エポキシ樹脂と、光硬化触媒としてトリトリ
ルスル７オニウムヘキサンロロアンチモネート、トリキ
シリルスルフオニウムへキサフロロアンチモネートの少
なくとも一池類とよりなる光硬化性エポキシ樹脂組成物
をガラスとガラスあるいはガラスとスタンバの間に注入
し、ガラス側から波長１８４．９ｎｍ、２５五７ｎｍ、
３６５ｎｍの紫外Ｍを照射して前記光硬化性エポキシ樹
脂組成物を硬化して成る光硬化ディスクに関する。
ルスル７オニウムヘキサンロロアンチモネート、トリキ
シリルスルフオニウムへキサフロロアンチモネートの少
なくとも一池類とよりなる光硬化性エポキシ樹脂組成物
をガラスとガラスあるいはガラスとスタンバの間に注入
し、ガラス側から波長１８４．９ｎｍ、２５五７ｎｍ、
３６５ｎｍの紫外Ｍを照射して前記光硬化性エポキシ樹
脂組成物を硬化して成る光硬化ディスクに関する。
次に前記各アンテモネートの化学構造を示す。
トリトリルスル７オニウムヘキサンロロアンチモネート
トリキシリルスルフオニウムへキサフロロアンテモネー
ト 本発明に使用するエポキシ樹脂は、常温で液状であわば
、ビスフェノールＡｆｆｉの他いかなるものも使用でき
特に限定することはないが、低粘度で揮発性の小さいも
のが好ましい。光硬化性とするために光硬化触媒を配合
するが、その割合は、エポキシ樹脂１００重量部に対し
て光硬化触媒を［１５〜１０重負部、好Ｊ量は１〜４重
量部とする。
ト 本発明に使用するエポキシ樹脂は、常温で液状であわば
、ビスフェノールＡｆｆｉの他いかなるものも使用でき
特に限定することはないが、低粘度で揮発性の小さいも
のが好ましい。光硬化性とするために光硬化触媒を配合
するが、その割合は、エポキシ樹脂１００重量部に対し
て光硬化触媒を［１５〜１０重負部、好Ｊ量は１〜４重
量部とする。
前記、光硬化性エポキシ樹脂組成物への紫外線照射は、
波長１８４．９ ｎｍ ｇ ２５１７ ｎｍ ＋３６
５ ｎｍを有する低圧水銀ランプを用いると５゜ガラス
材質として安倫なソーダガラスを用いても２ｍＩｎ厚の
樹脂を内部まで完全硬化することが分かり、本発明に至
った。−力、従来公知の高圧水銀ランプ、超高圧水銀ラ
ンプ、メタルハライドランプ等では、１．２ ｍｍ厚の
樹脂を硬化させるためＫは、紫外線透過率が良好な高価
な石英ガラスを使用しても内部まで完全硬化しない。
波長１８４．９ ｎｍ ｇ ２５１７ ｎｍ ＋３６
５ ｎｍを有する低圧水銀ランプを用いると５゜ガラス
材質として安倫なソーダガラスを用いても２ｍＩｎ厚の
樹脂を内部まで完全硬化することが分かり、本発明に至
った。−力、従来公知の高圧水銀ランプ、超高圧水銀ラ
ンプ、メタルハライドランプ等では、１．２ ｍｍ厚の
樹脂を硬化させるためＫは、紫外線透過率が良好な高価
な石英ガラスを使用しても内部まで完全硬化しない。
したがって加熱硬化を併用する必要があり、光硬化のメ
リットが損わ扛る。
リットが損わ扛る。
本発明において、組成物を注入する型がガラス−ガラス
の場合は、両面からの光硬化作用があり、硬化物に２オ
ドポリマー法用光硬化デイスクとなる。型がガラス−ス
タンバの場合は、スタンバの表面が銅、ニッケル、ガラ
スの何れか一つからなるスタンバ上の凹凸を硬化時に転
写する光硬化ディスクとなる。
の場合は、両面からの光硬化作用があり、硬化物に２オ
ドポリマー法用光硬化デイスクとなる。型がガラス−ス
タンバの場合は、スタンバの表面が銅、ニッケル、ガラ
スの何れか一つからなるスタンバ上の凹凸を硬化時に転
写する光硬化ディスクとなる。
実施例
離型剤を塗布したガラス２枚の間に、厚み１゜２ｍｍの
スペーサを介してガラスセルを作製した。
スペーサを介してガラスセルを作製した。
このセルの中にエポキシ樹脂（エピコート８２８油化シ
工ル社製）１００重量部、トリトリルスルフオニウムヘ
キサアンデモネート２ｆｉｉ部からなる組成物を注入し
た。さらに、ガラスセルの両面に紫外線照射装置（ウシ
オ電機社製フォトレックスＵＭＡ−７００）によって２
分間紫外線を照射した。
工ル社製）１００重量部、トリトリルスルフオニウムヘ
キサアンデモネート２ｆｉｉ部からなる組成物を注入し
た。さらに、ガラスセルの両面に紫外線照射装置（ウシ
オ電機社製フォトレックスＵＭＡ−７００）によって２
分間紫外線を照射した。
得た光硬化エポキシ基板の特性は次の通りである。
光透過率（６００ｎｍ波長） ９０％リターデーショ
ン（ダブルバス） ５００ｍガラス転移温度
１２０℃吸水率 ０
．２％表面粗さ ０．０７μｍ（
発明の効果） （１）透明性、耐湿性、耐熱性に優れた光デイスク基板
を短時間に製造できる。
ン（ダブルバス） ５００ｍガラス転移温度
１２０℃吸水率 ０
．２％表面粗さ ０．０７μｍ（
発明の効果） （１）透明性、耐湿性、耐熱性に優れた光デイスク基板
を短時間に製造できる。
（２） フォトポリマー法及び創出成形法によらずに
、基板上に凹凸信号を形成できる。
、基板上に凹凸信号を形成できる。
問 従って、フォトポリマー法の如き複雑な工程や射出
成形法の如き大型装置を要せず、クーロ＝ リーンルームの省スペース化が可能となっ１こ。
成形法の如き大型装置を要せず、クーロ＝ リーンルームの省スペース化が可能となっ１こ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、エポキシ樹脂と光硬化触媒とからなる光硬化性エポ
キシ樹脂組成物をガラスとガラス或るいはガラスとスタ
ンパとの間に注入し、ガラス側から紫外線を照射して前
記光硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化して成る光硬化エ
ポキシ樹脂ディスク。 ２、紫外線として１８４．９ｎｍ、２５３ｎｍ、３６５
ｎｍの波長を含む低圧水銀ランプ光を用いることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の光硬化エポキシ樹脂
ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61152321A JPS635931A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 光硬化エポキシ樹脂デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61152321A JPS635931A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 光硬化エポキシ樹脂デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS635931A true JPS635931A (ja) | 1988-01-11 |
Family
ID=15537971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61152321A Pending JPS635931A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 光硬化エポキシ樹脂デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS635931A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4879073A (en) * | 1988-04-22 | 1989-11-07 | United Technologies Corporation | Process of high pressure curing with ultraviolet radiation |
| US5532688A (en) * | 1993-06-21 | 1996-07-02 | Nec Corporation | Selective calling receiver capable of providing a message by a speech sound |
-
1986
- 1986-06-27 JP JP61152321A patent/JPS635931A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4879073A (en) * | 1988-04-22 | 1989-11-07 | United Technologies Corporation | Process of high pressure curing with ultraviolet radiation |
| US5532688A (en) * | 1993-06-21 | 1996-07-02 | Nec Corporation | Selective calling receiver capable of providing a message by a speech sound |
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