JPH0329131A - 光ディスク及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光ディスクの及びその製造方法に関するもので
あり、更に詳しくは信頼性に優れた光ディスク及びそれ
を簡便に製造する方法に関する。

（従来の技術） 従来知られている片面に記録可能な光ディスクは、第４
図に示すとおり、光学的に読みだし可能なビット列、ト
ラック溝などの情報記録パターンを有するスタンバから
、射出成形広、身・Ｉ出圧縮或形法または２Ｐ法などに
より情報記録パターンを転写したレプリカ基板９上の情
報記録パターン而に記録膜２を成膜し、記録膜２上に有
機物保護膜５を形成した構造を有している。また、両面
に記録可能な光ディスクは、第５図に示すとおり、レプ
リカ基板９上に記録膜２を成膜し、この記録膜２上に接
着剤６を介して情報記録パターン面に記録膜２を成膜し
たレプリカ基板９を貼り合せた構造を有している。

しかしながら、これらはいずれもレプリカ基板が記録膜
を担持している光ディスクであり、情報の記録，再生，
消去はこのレプリカ基板を介し記録膜に光を照射して行
なわれるために、レプリカ基板の複製工程における射出
成形法、射出圧縮成形法は複屈折率及び機械特性を厳密
に制御しながら行わなければならないという問題点を有
し、２Ｐ法によるレプリカ基板の複製はその製造プロセ
スそのものが複雑であるという問題点を有する。

また上記した従来の光ディスクは、その製膜工程あるい
は組立工程中において、用いる有機保護膜５あるいは接
着剤６中に含有する塩素イオン、酸、水分などが記録膜
に混入してしまうために、記録膜の腐食が完全に防止さ
れず、長期信頼性の点で問題があった。更に、両面に記
録可能な光ディスクは接着剤９を介して貼り合わせてな
るものであるが、その貼り合わせの際にズレが生じたり
、接着剤中に含まれる異物や接着剤塗布時のセコータの
荷重などによりあるいはプレス時にディスクが物理的に
損傷してしまうことがある。

（発明が解決しようとする課題） 本発明は従来技術の問題点に鑑みなされたちのであり、
その目的は長期信頼性に優れた光ディスク及びその簡便
な製造法を提供することにある。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行っ
た結果、光学的に読みだし可能な情報記録パターンを有
する芯材基板を用いることにより、信頼性に優れた光デ
ィスクが得られること、更にこの光ディスクを簡便に製
造できることを見出だし本発明を完成するに至った。す
なわち本発明は、光学的に読みだし可能な情報記録パタ
ーンを有する芯材基板により記録膜が担持され、該芯材
基板が樹脂により被覆されているでいることを特徴とす
る光ディスク及びその製造方法である。以下、本発明を
図面に基づき説明する。第１図は本発明の光ディスクの
構造の一例を示す該略図である。

本発明における光ディスクは、特に限定されないが、相
変化型、フォトクロミック型、光磁気記録型のものなど
が例示される。

第２図は本発明において用いられる芯材基板の構造の一
例を示す断面図であり、本発明の光ディスクは第１図に
示すとおり、記録膜２が芯材基板１に担持され、該芯材
基板が樹脂４により被覆されてなることに特徴のあるも
のである。このような構造とすることにより、本発明の
光ディスクは、従来の光ディスクのようにレプリカ基板
を介しての情報の記録，再生．消去が行なわれることが
なくなるために、その製造過程において複屈折率及び機
械特性の制御を含むレプリカ基板の複製工程は不必要と
なり、その製造方法は簡便なものとなる。また本発明の
光ディスクは、また記録膜が担持した芯材基板が樹脂に
より被覆されるために、情報記録パターン及び記録膜が
樹脂により密閉され、記録膜の腐食が完全に防止される
。更に、本発明の光ディスクのうち両面に記録可能なも
のは、従来の光ディスクのように貼り合わせる構造でな
いので、情報記録パターン及び記録膜の物理的損傷は防
止され、貼り合わせ０際に生ずるズレなどによる信頼性
の低下がなくなる。

本発明において用いられる芯材基板は、光学的に読み゛
だし可能な情報記録パターンを有する芯材基板の作製方
法としては、光学的に読みだし可能なビット列、トラッ
ク溝などの情報記録パターンを，有するスタンパと熱可
塑性樹脂を用いた射出成形法、射出圧縮成形法もしくは
スタンピング法、上記スタンパと光硬化性樹脂、熱硬化
性樹脂を用いた鋳造法またはガラスを用いたエッチング
法などにより作製することができる。第３図に芯材基板
の作製過程の一例を示す。第３図においては、スペーサ
−８によって配置したスタンパ７と樹脂を用いて、例え
ば射出成形あるいは射出圧縮成形などを行なうことによ
り芯材基板が得られる。本発明において用いる芯材基板
は、片面にのみ情報記録パターンを有するものでも両面
に情報記録パターンを有するものでもよく、前者により
片面に記録可能な光ディスクを、後者により第１図に示
すような両面に記録可能な光ディスクを得ることができ
る。

本発明の光ディスクの製造方法は、上記の芯材基板への
記録膜の成膜工程と、記録膜が成膜された芯材基板を樹
脂を用いて被覆する被覆工程を含むものであり、記録膜
の或膜工程においては、従来知られている蒸着法、スパ
ッタリング法などが採用される。また、樹脂披覆工程に
おいて用いられる樹脂としては、紫外線硬化樹脂、電子
ビーム硬化樹脂、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂など
が挙げられる。更に本発明の光ディスクには、第１図に
示すようにカー効果増大のための被覆膜３や反ａ・ｔ膜
などを設けることもできる。

（実施例） 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。

実施例 第３図に示すとおり、情報記録パターンを有する石英ガ
ラスからなるスタンバ７を２枚用い、スベーサ−８によ
りこれを配置し、エボキシ系紫外線硬化樹脂をスタンパ
間に注入し、露光硬化して第２図に示す芯材基板１を作
製した。

次に得られた芯材基板１の情報記録パターン上に、Ｔｂ
ＦｅＣｏ合金からなる光磁気記録膜２をスパッタリング
法により厚さ７００人となるように均一に成膜し、記録
膜２上にカー効果増大のための窒化ケイ素からなる無機
物被覆膜３をスパッタリング法により厚さ９００人とな
るように均一に成膜した。

その後、上記芯材基板を芯材とし、エボキシ系紫外線硬
化樹脂を用いて露光硬化することにより被覆して第１図
に示す本発明の光ディスクを得た。

得られた光ディスクを、温度８０℃、湿度９０％の条件
下で２５００時間放置し、劣化加速試験を行った。更に
、この光ディスクを−４０℃と８０℃の条件下に各々２
時間ずつ置き、１００サイクルの熱衝撃試験を行った。

その結果、いずれの試験においても光磁気記録膜の電気
信号特性の劣化は認められず、構造的な損傷あるいは機
械特性の劣化も認められなかった。

（発明の効果） 以上述べたとおり、本発明の光ディスクはその製造工程
においても情報記録パターン及び記録膜が樹脂により密
閉され、情報記録パターン及び記録膜の物理的損傷及び
記録膜の腐食が完全に防止されることから長期信頼性に
優れたものとなる。

更に、本発明の上記光ディスクの製造法は簡便なもので
ある。

３・・・被覆膜 ５・・・有機物保護膜 ７・・・スタンパ ９・・・レプリカ基板 ４・・・樹脂 ６・・・接着剤 ８・・・スベーサー を各々示す。

【図面の簡単な説明】 第ＩＩ１！Ｊは本発明の光ディスクの構造の一例を示す
該略図である。 第２図は本発明において用いられる芯材基板の横造の一
例を示す図である。 第３図は本発明において用いられる芯材基板の作製過程
の一例を示す図である。 第４図および第５図は従来の光ディスクを示す図である
。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）光学的に読みだし可能な情報記録パターンを有す
   る芯材基板により記録膜が担持され、該芯材基板が樹脂
   により被覆されていることを特徴とする光ディスク。
2. （２）光学的に読みだし可能な情報記録パターンを有す
   る芯材基板の作製工程と、芯材基板への記録膜の成膜工
   程と、記録膜が成膜された芯材基板を樹脂を用いて被覆
   する被覆工程を含んでなる特許請求の範囲第１項に記載
   の光ディスクの製造方法。