JPS6361973A - 磁気センサ及びその製造方法 - Google Patents

磁気センサ及びその製造方法

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Publication number
JPS6361973A
JPS6361973A JP61208499A JP20849986A JPS6361973A JP S6361973 A JPS6361973 A JP S6361973A JP 61208499 A JP61208499 A JP 61208499A JP 20849986 A JP20849986 A JP 20849986A JP S6361973 A JPS6361973 A JP S6361973A
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JP
Japan
Prior art keywords
sensor
magnetic sensor
insulating substrate
detected
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP61208499A
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English (en)
Inventor
Katsuto Nagano
克人 長野
Hitoshi Otake
均 大竹
Jitsuo Kanazawa
金澤 実雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は薄膜磁気抵抗効果素子の抵抗変化を利用して被
検出体の変位等を検出する磁気センサに関する。
(従来の技術) 各種回転物体や移動物体等の位置、変位の検出を薄膜磁
気抵抗効果素子の抵抗変化を利用して行う磁気センサが
実用化されている。
このような磁気センサの従来例及び使用例を以下に説明
する。
第8図(a)、(b)に示す従来の磁気センサ50は、
ガラス板製等の絶縁基板51上に、フォトエツチング等
の手法により薄膜磁気抵抗効果素子によるセンサ部52
及び導電層53.54をこれらの形状が口字状となるよ
うに形成し、絶縁基板51のセンサ部52に近い側面部
5’la側を、第10図に示すようにN、S磁極を有す
る回転ドラムの如き被検出体55に近接させて使用する
ようにしたものである。
しかしながら、この磁気センサ50は第9図に示すよう
に例えば前記絶縁基板51の長さの約2倍の長さを有す
る絶縁基板51′上に所定の間隔を隔てて2組のセンサ
部52及び導電層53゜54を所定の間隔を隔てて形成
すると共に、雨センサ部52.52間の第9図に示す斜
線部分を外周が丸味を帯びた砥石等からなるカッタ56
を用いて切断することにより製造するものであるため、
第8図(a)、(b)に示すように前記側面部51aの
下端側がこの側面部51aよりも外法に例えば長ざlだ
け突出した突出部51bが形成されてしまう。この突出
部51bができる理由はカッタ56による絶縁基板51
′の切り終り部分が、丸味を帯びたカッタ56の外周形
状に対応した形状となることに基づくものである。
この結果、第10図に示すように磁気センサ50の被検
出体55に対する配置状態が若干水平位置よりも傾斜す
ると前記突出部51bが被検出体55の外周面に当接す
る等の弊害が生じ、磁気センサ50の被検出体55に対
する位置決めにおける余裕度がなくなるという問題があ
る。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は上記事情に鑑みて成されたものであり、被検出
体に対する位置決めの余裕度を有する磁気センサ及びこ
の磁気センサを製造する方法を提供することを目的とす
るものである。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明の磁気センサは、絶縁基板上に薄膜磁気抵抗効果
素子によるセンサ部を有し、このセンサ部に生じる被検
出体からの磁束変化に基づく磁気抵抗の変化を利用して
被検出体の検出を行う磁気センサにおいて、前記絶縁基
板の被検出体に対面する側面部に、下端に至るにしたが
い被検出体から離隔する湾曲部を有して構成される。
また、本発明の磁気センサの製造方法は、絶縁基板上に
複数の薄膜磁気抵抗効果素子によるセンサ部を所定の間
隔を隔てて形成する工程と、前記各センサ部を形成した
面とは反対側の絶縁基板面で、かつ、前記各センサ部間
の間隔よりも狭範囲に亘る弧状の凹部を形成する工程と
、この凹部の中央部を境として絶縁基板を切断する工程
とを含んで構成される。
(作 用) 上記構成の磁気センサは、センサ部を形成した絶縁基板
における被検出体と対面する側面部に、下端に至るほど
被検出体から離隔する湾曲部が形成されているので、従
来の磁気センナの場合と異なりこの湾曲部側が被検出体
に接近するように磁気センサを傾けて配置してもなお被
検出体との間に空隙を保持することができ、これにより
、磁気センサの位置決めの余裕度をもたせることができ
る。
また、本発明の磁気センサの製造方法によれば、複数の
センサ部を所定の間隔を隔てて形成した絶縁基板におけ
る前記両センサ部とは反対側の面で、かつ、前記両セン
サ部に対応する領域に弧状の凹部を形成し、この凹部の
中央部を境として切断しこれにより得られる切断面を側
面部として、また、この切断面に連なる凹部を湾曲部と
して用いるものでおるから、前記機能を発揮し得る磁気
センサの製造方法を提供することができる (実施例) 以下に本発明の磁気センサの実施例を第1図(a)、(
b)を参照して説明する。
同図に示す磁気センサ1は、ガラス仮装等の絶縁基板2
と、この絶縁基板2の一方の面2a上にフォトエツチン
グ等の手法により全体としてコ状とするように形成され
た薄膜磁気抵抗効果素子によるセンサ部3及びこのセン
サ部3に通電するための導電層4a、4bと、絶縁基板
2の一方の側面部2Cにおいてこの側面部2Cの肉厚方
向中間部から絶縁基板2の他方の面2bに至るにしたが
いこの側面部2Cから離隔する湾曲部2dとを有して構
成されている。
次に上記構成の磁気センサ1の製造方法を第3図乃至第
7図を参照して説明する。
まず第3図に示すように、前記絶縁基板2の長ざLの2
倍より若干大きい長さL′を有する絶縁基板2′を用意
し、この絶縁基板2′の一方の而2a上にフォトエツチ
ング等の手法により薄膜磁気抵抗効果素子によるセンサ
部3及び導電層4a。
4bを2相互いにセンサ部3同士が所定の間隔を有し、
かつ、それぞれの形状がコ状となるように形成する。
次に、第4図に示すように絶縁基板2′の他方の面2b
の中央部で、かつ、前記両センサ部3゜3に対応する領
域よりも内側に弧状の凹部5を形成する。
次に、第5図に示すようにこの凹部5の最深部から同図
に示す斜線部6に沿って外周が丸味を帯びたカッタ7に
よりこの絶縁基板2′を切断する。
これにより、第6図に示すようにそれぞれ長ざLを有す
る2個の磁気センサ1,1を一方の面2aをいずれも下
側に向けた状態で製造することができる。
そして、第7図に示すように両磁気センザ1゜1を上下
反転する。これにより、カッタ7による切断面を前記側
面部2cとし、また、この切断面に連なる凹部5の部分
を前記湾曲部2dとする第1図(a)、(b)に示すよ
うな磁気センサ1を2個製造することができる。
次に、上述のようにして1qられる磁気センサの使用例
を第2図を参照して説明する。
尚、被検出体55は第10図に示すものと同様な構成を
有するものを用いるものとする。
第2図に示すように、この磁気センサ1の被検出体55
に対する配置状態が水平ラインXOよりもおる角度θだ
け傾斜したラインX1となっても、絶縁基板2の側面部
2Cの下側に前記湾曲部2dを設けているため、従来の
磁気センサ50の場合と異なり以前として被検出体55
との間に空隙が保持され、この結果、磁気センサ1の被
検出体55に対する位置決めの際の余裕度をもたせるこ
とができる。
本発明は上述した実施例に限定されるものではなく、そ
の要旨の範囲内で種々の変形が可能であることはいうま
でもない。
[発明の効果] 以上詳述した本発明によれば、被検出体に対する位置決
めの余裕度を有する磁気センサ及びこのような機能を発
揮し得る磁気センサの製造方法を提供することができる
。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)は本発明の磁気センサの実施例を示す平面
図、第1図(b)は同上の側面図、第2図は前記磁気セ
ンサの使用例を示す側面図、第3図乃至第7図はそれぞ
れ本発明方法の実施例を示す工程説明図、第8図(a)
は従来の磁気センサの平面図、第8図(b)は同上の側
面図、第9図は従来の磁気センサの製造工程を示す説明
図、第10図は従来の磁気センサの使用例を示す側面図
である。 1・・・磁気センサ、2・・・絶縁基板、2C・・・側
面部、2d・・・湾曲部、3・・・センサ部。 第9図 第10図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁基板上に薄膜磁気抵抗効果素子によるセンサ
    部を有し、このセンサ部に生じる被検出体からの磁束変
    化に基づく磁気抵抗の変化を利用して被検出体の検出を
    行う磁気センサにおいて、前記絶縁基板の被検出体に対
    面する側面部に、下端に至るにしたがい被検出体から離
    隔する湾曲部を設けたことを特徴とする磁気センサ。
  2. (2)絶縁基板上に複数の薄膜磁気抵抗効果素子による
    センサ部を所定の間隔を隔てて形成する工程と、前記各
    センサ部を形成した面とは反対側の絶縁基板面で、かつ
    、前記各センサ部間の間隔よりも狭範囲に亘る弧状の凹
    部を形成する工程と、この凹部の中央部を境として絶縁
    基板を切断する工程とを含むことを特徴とする磁気セン
    サの製造方法。
JP61208499A 1986-09-03 1986-09-03 磁気センサ及びその製造方法 Pending JPS6361973A (ja)

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JP61208499A JPS6361973A (ja) 1986-09-03 1986-09-03 磁気センサ及びその製造方法

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JPS6361973A true JPS6361973A (ja) 1988-03-18

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JP61208499A Pending JPS6361973A (ja) 1986-09-03 1986-09-03 磁気センサ及びその製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005003477A (ja) * 2003-06-11 2005-01-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気センサ

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