JPS6363109A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPS6363109A JPS6363109A JP62208377A JP20837787A JPS6363109A JP S6363109 A JPS6363109 A JP S6363109A JP 62208377 A JP62208377 A JP 62208377A JP 20837787 A JP20837787 A JP 20837787A JP S6363109 A JPS6363109 A JP S6363109A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/18—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being compounds
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
- G11B5/1878—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film disposed immediately adjacent to the transducing gap, e.g. "Metal-In-Gap" structure
-
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- G11B5/23—Gap features
- G11B5/235—Selection of material for gap filler
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/18—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by cathode sputtering
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁心が非磁性ギャップをその間にそなえた２
つの軟磁性磁心半部を有し、ギャップと磁心半部の間な
らびにギャップとガラス充填物の間の領域にマグネトロ
ンスパッタ装置によって耐摩耗性の軟磁性層がスパッタ
されたようにした、スパッタされたギャップ領域を有す
る磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
つの軟磁性磁心半部を有し、ギャップと磁心半部の間な
らびにギャップとガラス充填物の間の領域にマグネトロ
ンスパッタ装置によって耐摩耗性の軟磁性層がスパッタ
されたようにした、スパッタされたギャップ領域を有す
る磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
電子技術の進歩に伴って、層より成る磁性材料が種々の
技術分野で一般に認識され、磁気記録に使用される磁気
ヘッドの分野で重要な役割を果たしている。
技術分野で一般に認識され、磁気記録に使用される磁気
ヘッドの分野で重要な役割を果たしている。
特にビデオ磁気ヘッドが、多結晶フェライトのような酸
化物磁性材料と単結晶センダストのような磁性材料の層
の形で構成されていることは公知である。この場合磁気
ヘッドは、例えばセンダストの磁心がフェライトのよう
な磁性材料の支持体と接合されるように、縦方向に配設
された層で形成することができる。異なる材料層を有す
る磁気ヘッドは、厳しい技術的な要求を満たすために必
要とされる。高い磁気記録密度の要求にこたえるために
、メタルテープや蒸着層を有するメタルテープのような
大きな保持力を有する記録媒体が開発されてきた。この
開発は、磁気ヘッド用の磁性材料の非常に著しい開発を
伴った。単一の磁性材料よりつくられ磁心を有する磁気
ヘッドは種々の欠点を有するので、例えばフェライトの
酸化物磁心の間に接合されたセンダストの磁性金属心の
ような複合磁性材料を用いた磁気ヘッドが提案された。
化物磁性材料と単結晶センダストのような磁性材料の層
の形で構成されていることは公知である。この場合磁気
ヘッドは、例えばセンダストの磁心がフェライトのよう
な磁性材料の支持体と接合されるように、縦方向に配設
された層で形成することができる。異なる材料層を有す
る磁気ヘッドは、厳しい技術的な要求を満たすために必
要とされる。高い磁気記録密度の要求にこたえるために
、メタルテープや蒸着層を有するメタルテープのような
大きな保持力を有する記録媒体が開発されてきた。この
開発は、磁気ヘッド用の磁性材料の非常に著しい開発を
伴った。単一の磁性材料よりつくられ磁心を有する磁気
ヘッドは種々の欠点を有するので、例えばフェライトの
酸化物磁心の間に接合されたセンダストの磁性金属心の
ような複合磁性材料を用いた磁気ヘッドが提案された。
更にまた、磁心がギャップ領域にセンダストの薄い層だ
けを有するようにした層構造を有する磁気ヘッドもある
。この層は種々のスパッタリング技法でスパッタされる
。マグネトロンスパッタ装置（ｍａｇｎｅｔｒｏｎ ｓ
ｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ａｐｐａｒａｔｕｓ）の使用は、
所望の厚さの層を得ることができるので有利である。け
れども、合金支持体（ターゲット）の厚さを、対応する
磁気特性を以て使用されるべき合金に対して薄く保たね
ばならず（通常３ ｍｍ以下）、たま、物理的な理由で
ターゲットの表面の極く僅かな部分だけが特にスパッタ
されるためにターゲットの消費量が大きいというのが欠
点である。より経済的に処理できる厚いターゲットは、
技術的な理由から、対応する磁気特性を有する所要の合
金に使用することができない。
けを有するようにした層構造を有する磁気ヘッドもある
。この層は種々のスパッタリング技法でスパッタされる
。マグネトロンスパッタ装置（ｍａｇｎｅｔｒｏｎ ｓ
ｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ａｐｐａｒａｔｕｓ）の使用は、
所望の厚さの層を得ることができるので有利である。け
れども、合金支持体（ターゲット）の厚さを、対応する
磁気特性を以て使用されるべき合金に対して薄く保たね
ばならず（通常３ ｍｍ以下）、たま、物理的な理由で
ターゲットの表面の極く僅かな部分だけが特にスパッタ
されるためにターゲットの消費量が大きいというのが欠
点である。より経済的に処理できる厚いターゲットは、
技術的な理由から、対応する磁気特性を有する所要の合
金に使用することができない。
本発明の目的は、スパッタにマグネトロンスパッタ装置
を用い、ビデオ磁気テープ装置用磁気ヘッドの磁心のギ
ャップ領域に対応した磁気特性を有する所定の材料層を
スパッタする経済的な方法を得ることにある。
を用い、ビデオ磁気テープ装置用磁気ヘッドの磁心のギ
ャップ領域に対応した磁気特性を有する所定の材料層を
スパッタする経済的な方法を得ることにある。
本発明はこの目的を達成するために次のようにしたこと
を特徴とするものである、すなわち、軟磁性のスパッタ
層は、弱い磁気特性を有する合金支持体（ターゲット）
例えば１０％Ｓｉ、 ９％Ａ１．８１％Ｆｅの合金よ
り成るターゲットよりスパッタされ、異なるスパッタ速
度（ｓｐｕｔｔｒｉｎｇ ｒａｔｅ）によって、強めら
れた磁気特性を有する層側えば９．６％Ｓｔ。
を特徴とするものである、すなわち、軟磁性のスパッタ
層は、弱い磁気特性を有する合金支持体（ターゲット）
例えば１０％Ｓｉ、 ９％Ａ１．８１％Ｆｅの合金よ
り成るターゲットよりスパッタされ、異なるスパッタ速
度（ｓｐｕｔｔｒｉｎｇ ｒａｔｅ）によって、強めら
れた磁気特性を有する層側えば９．６％Ｓｔ。
５．４％Ａｌ、 ８５％Ｆｅより成る層をつくり、或は
、強められた磁気特性を有する層が、弱い磁気特性を有
する少なくとも２つの異なる合金支持層から、スパッタ
速度の対応した選択によって同時にスパッタされる。
、強められた磁気特性を有する層が、弱い磁気特性を有
する少なくとも２つの異なる合金支持層から、スパッタ
速度の対応した選択によって同時にスパッタされる。
以下に本発明を添付の図面を参照して実施例で更に詳し
く説明する。
く説明する。
磁心は、非磁性ギャップ３を経て互いに連結された（好
ましくはフェライトの）２つの軟磁性磁心半部１，２を
有する。前記のギャップは両側に設けられたガラス充填
物４によって境界され、２つの磁心はかくして同時に機
械的に連結される。ギャップ３と磁心半部１，２との間
にはスパッタされた軟磁性層５，６が夫々の磁心半部１
，２に設けられる。前記の層５，６はマグネトロンスパ
ッタ装置を用いて公知の技法によってスパッタされる。
ましくはフェライトの）２つの軟磁性磁心半部１，２を
有する。前記のギャップは両側に設けられたガラス充填
物４によって境界され、２つの磁心はかくして同時に機
械的に連結される。ギャップ３と磁心半部１，２との間
にはスパッタされた軟磁性層５，６が夫々の磁心半部１
，２に設けられる。前記の層５，６はマグネトロンスパ
ッタ装置を用いて公知の技法によってスパッタされる。
この場合合金支持体（ターゲット）の材料組成は、マグ
ネトロンスパッタの利点が殆んど影響されないように選
ばれるが、これは、ターゲットを組成する合金が極（僅
かな磁気特性しか示さないようにすることによって達成
できる。例えばセンダストのスパッタの場合には、合金
が磁気特性をもはや殆んど有しないようにアルミニウム
とシリコン成分を増すことによって達成される。スバツ
タ工程に当っては、スパッタ速度は、異なるスパッタ速
度に応じて磁気的および機械的な要求を満足する例えば
センダストの材料組成を有する層が磁心半部上に形成さ
れるように選択または調整される。
ネトロンスパッタの利点が殆んど影響されないように選
ばれるが、これは、ターゲットを組成する合金が極（僅
かな磁気特性しか示さないようにすることによって達成
できる。例えばセンダストのスパッタの場合には、合金
が磁気特性をもはや殆んど有しないようにアルミニウム
とシリコン成分を増すことによって達成される。スバツ
タ工程に当っては、スパッタ速度は、異なるスパッタ速
度に応じて磁気的および機械的な要求を満足する例えば
センダストの材料組成を有する層が磁心半部上に形成さ
れるように選択または調整される。
図は本発明の方法によって得られた磁気ヘッドの線図的
斜視図である。 １．２・・・磁心半部 ３・・・ギャップ４・・
・ガラス充填物
斜視図である。 １．２・・・磁心半部 ３・・・ギャップ４・・
・ガラス充填物
Claims (1)
- １、磁心が非磁性ギャップ（３）をその間にそなえた２
つの軟磁性磁心半部を有し、ギャップと磁心半部の間な
らびにギャップとガラス充填物（４）の間の領域にマグ
ネトロンスパッタ装置によって耐摩耗性の軟磁性層（５
、６）がスパッタされるようにした、スパッタされたギ
ャップ領域を有する磁気ヘッドの製造方法において、軟
磁性のスパッタ層は、弱い磁気特性を有する合金支持体
（ターゲット）例えば１０％Ｓｉ、９％Ａｌ、８１％Ｆ
ｅの合金より成るターゲットよりスパッタされ、異なる
スパッタ速度によって、強められた磁気特性を有する層
側えば９．６％Ｓｉ、５．４％Ａｌ、８５％Ｆｅより成
る層をつくり、或は、強められた磁気特性を有する層が
、弱い磁気特性を有する少なくとも２つの異なる合金支
持層から、スパッタ速度の対応した選択によって同時に
スパッタされることを特徴とする磁気ヘッド製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3628950.7 | 1986-08-26 | ||
| DE19863628950 DE3628950A1 (de) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | Verfahren zur herstellung eines magnetkopfes |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6363109A true JPS6363109A (ja) | 1988-03-19 |
Family
ID=6308185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62208377A Pending JPS6363109A (ja) | 1986-08-26 | 1987-08-24 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4960498A (ja) |
| EP (1) | EP0257246A3 (ja) |
| JP (1) | JPS6363109A (ja) |
| DE (1) | DE3628950A1 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60218820A (ja) * | 1984-04-14 | 1985-11-01 | Sony Corp | Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金薄膜の製造方法 |
| JPS60229210A (ja) * | 1983-12-30 | 1985-11-14 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS61113759A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-05-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スパツタリング用タ−ゲツト |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3303292A (en) * | 1963-02-25 | 1967-02-07 | Ampex | Magnetic head assembly |
| US3566045A (en) * | 1968-09-26 | 1971-02-23 | Nasa | Magnetic recording head and method of making same |
| US3829373A (en) * | 1973-01-12 | 1974-08-13 | Coulter Information Systems | Thin film deposition apparatus using segmented target means |
| US4049522A (en) * | 1976-02-26 | 1977-09-20 | International Business Machines Corporation | Low coercivity iron-silicon material, shields, and process |
| US4415427A (en) * | 1982-09-30 | 1983-11-15 | Gte Products Corporation | Thin film deposition by sputtering |
| NL8400140A (nl) * | 1984-01-17 | 1985-08-16 | Philips Nv | Magneetkop. |
| US4569746A (en) * | 1984-05-17 | 1986-02-11 | Varian Associates, Inc. | Magnetron sputter device using the same pole piece for coupling separate confining magnetic fields to separate targets subject to separate discharges |
| JPS61184705A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-18 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド |
-
1986
- 1986-08-26 DE DE19863628950 patent/DE3628950A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-07-03 EP EP87109570A patent/EP0257246A3/de not_active Withdrawn
- 1987-08-24 US US07/088,765 patent/US4960498A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-08-24 JP JP62208377A patent/JPS6363109A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60229210A (ja) * | 1983-12-30 | 1985-11-14 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS60218820A (ja) * | 1984-04-14 | 1985-11-01 | Sony Corp | Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金薄膜の製造方法 |
| JPS61113759A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-05-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スパツタリング用タ−ゲツト |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4960498A (en) | 1990-10-02 |
| EP0257246A3 (de) | 1989-12-13 |
| DE3628950A1 (de) | 1988-03-03 |
| EP0257246A2 (de) | 1988-03-02 |
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