JPS6364429B2 - - Google Patents
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- -1 isoxazole compound Chemical class 0.000 claims description 46
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 47
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 46
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 27
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 12
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 7
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 5
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 5
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 4
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 4
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine hydrochloride Chemical compound Cl.ON WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZBKRLRPCFHXJL-UHFFFAOYSA-N O1NC(=O)C(C(=O)C=2C(=CC(Cl)=CC=2)Cl)=C1C Chemical compound O1NC(=O)C(C(=O)C=2C(=CC(Cl)=CC=2)Cl)=C1C OZBKRLRPCFHXJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEOCVKWBUWKBKA-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl CEOCVKWBUWKBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,3-dimethyl-7-nitro-4h-isoquinolin-1-one Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(C)(C)CC2=C1 NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWIEAWILPSRMU-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-pyrimidin-4-ylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CC1=CC=NC=N1 JHWIEAWILPSRMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOZYLBSNZFISHD-UHFFFAOYSA-N 4-benzyl-5-methyl-1,2-oxazol-3-one Chemical compound O1NC(=O)C(CC=2C=CC=CC=2)=C1C QOZYLBSNZFISHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQBGKWBKSYLJPJ-UHFFFAOYSA-N O1NC(=O)C(CC=2C(=CC(Cl)=CC=2)Cl)=C1C Chemical compound O1NC(=O)C(CC=2C(=CC(Cl)=CC=2)Cl)=C1C HQBGKWBKSYLJPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WRYNUJYAXVDTCB-UHFFFAOYSA-M acetyloxymercury Chemical compound CC(=O)O[Hg] WRYNUJYAXVDTCB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N alpha-methyl toluene Natural products CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- RCTYPNKXASFOBE-UHFFFAOYSA-M chloromercury Chemical compound [Hg]Cl RCTYPNKXASFOBE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKRNGKIEDAVMHL-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(dioxo)chromium;pyridine Chemical compound O[Cr](O)(=O)=O.C1=CC=NC=C1 NKRNGKIEDAVMHL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KPVWDKBJLIDKEP-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(dioxo)chromium;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.O[Cr](O)(=O)=O KPVWDKBJLIDKEP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002363 herbicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002545 isoxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001979 organolithium group Chemical group 0.000 description 1
- FWFGVMYFCODZRD-UHFFFAOYSA-N oxidanium;hydrogen sulfate Chemical compound O.OS(O)(=O)=O FWFGVMYFCODZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000003333 secondary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- KZJPVUDYAMEDRM-UHFFFAOYSA-M silver;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [Ag+].[O-]C(=O)C(F)(F)F KZJPVUDYAMEDRM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Description
この発明は、一般式
〔式中、R1およびR3は低級アルキル基または
フエニル基（該フエニルは適宜１乃至３個の低級
アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子ま
たはニトロ基で置換されていてもよい。）を示し、
R2は水素原子、低級アルキル基またはフエニル
基（該フエニルは適宜１乃至３個の低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子またはニト
ロ基で置換されていてもよい。）を示す。〕を有す
る新規なイソオキサゾール化合物に関するもので
ある。 前記一般式（）の定義において、R1，R2お
よびR3の低級アルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、ｎ―プロピル、イソプロピル、ｎ―
ブチル、イソブチルまたはtert―ブチルのような
炭素数１乃至４個を有する直鎖状または分枝鎖状
のアルキル基があげられる。 R1およびR2およびR3が低級アルキル基を置換
分として有するフエニル基である場合の低級アル
キル基としては、例えばメチル、エチル、ｎ―プ
ロピルまたはイソプロピルのような炭素数１乃至
３個を有するアルキル基があげられる。 R1，R2およびR3が低級アルコキシ基を置換分
として有するフエニル基である場合の低級アルコ
キシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ
―プロポキシまたはイソプロポキシのような炭素
数１乃至３個を有するアルコキシ基があげられ
る。 また、R1，R2およびR3がハロゲン原子を置換
分として有するフエニル基である場合のハロゲン
原子としては、例えば塩素、臭素または弗素があ
げられる。 前記一般式（）において、R2が水素原子で
ある化合物（H）は互変異性体（′H）との平
衡混合物として存在することができる。 （上記式中、R1およびR3は前述したものと同
意義を示す。） この発明の新規なイソオキサゾール化合物
（）は、農園芸用殺菌剤または水田用除草剤と
して有用な化合物である。 この発明の新規イソオキサゾール化合物として
は、例えば次のものがあげられる。 １ ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―５―
メチル―２―フエニル―４―イソオキサゾリン
―３―オン ２ ５―メチル―２―フエニル―４―ｐ―トルオ
イル―４―イソオキサゾリン―３―オン ３ ５―メチル―２―フエニル―４―ｍ―トルオ
イル―４―イソオキサゾリン―３―オン ４ ４―ベンゾイル―５―メチル―２―フエニル
―４―イソオキサゾリン―３―オン ５ ４―（２，４―ジメチルベンゾイル）―５―
メチル―２―フエニル―４―イソオキサゾリン
―３―オン ６ ４―（２―クロルベンゾイル）―５―メチル
―２―フエニル―４―イソオキサゾリン―３―
オン ７ ４―（４―ブロムベンゾイル）―５―メチル
―２―フエニル―４―イソオキサゾリン―３―
オン ８ ―メチル―２―フエニル―４―（３，４，５
―トリメトキシベンゾイル―４―イソオキサゾ
リン―３―オン ９ ４―（３，５―ジニトロベンゾイル）―５―
メチル―２―フエニル―４―イソオキサゾリン
―３―オン 10 ５―メチル―４―（２―メトキシベンゾイ
ル）―２―フエニル―４―イソオキサゾリン―
３―オン 11 ４―ベンゾイル―２―（４―クロルフエニ
ル）―５―メチル―４―イソオキサゾリン―３
―オン 12 ４―ベンゾイル―５―メチル―２―ｐ―トリ
ル―４―イソオキサゾリン―３―オン 13 ４―ベンゾイル―５―メチル―２―ｍ―トリ
ル―４―イソオキサゾリン―３―オン 14 ４―ベンゾイル―２―（３―クロルフエニ
ル）―５―メチル―４―イソオキサゾリン―３
―オン 15 ４―ベンゾイル―２―（３，５―ジクロルフ
エニル）―５―メチル―４―イソオキサゾリン
―３―オン 16 ４―ベンゾイル―２―（４―ブロムフエニ
ル）―５―メチル―４―イソオキサゾリン―３
―オン 17 ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―２，
５―ジメチル―４―イソオキサゾリン―３―オ
ン 18 ４―アセチル―５―メチル―２―フエニル―
４―イソオキサゾリン―３―オン 19 ４―アセチル―２，５―ジフエニル―４―イ
ソオキサゾリン―３―オン 20 ４―アセチル―２―（４―クロルフエニル）
―５―フエニル―４―イソオキサゾリン―３―
オン 21 ４―アセチル―５―フエニル―２―ｐ―トリ
ル―４―イソオキサゾリン―３―オン 22 ４―アセチル―５―フエニル―２―ｍ―トリ
ル―４―イソオキサゾリン―３―オン 23 ４―アセチル―２―（３，５―ジクロルフエ
ニル）―５―フエニル―４―イソオキサゾリン
―３―オン 24 ４―アセチル―２―（４―ブロムフエニル）
―５―フエニル―４―イソオキサゾリン―３―
オン 25 ４―アセチル―２―（３―クロルフエニル）
―フエニル―４―イソオキサゾリン―３―オン 26 ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―５―
メチル―４―イソオキサゾリン―３―オン 27 ４―ベンゾイル―５―メチル―４―イソオキ
サゾリン―３―オン 28 ４―ベンゾイル―５―エチル―２―フエニル
―４―イソオキサゾリン―３―オン 29 ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―５―
イソプロピル―２―フエニル―４―イソオキサ
ゾリン―３―オン 30 ４―（４―ブロムベンゾイル）―５―tert―
ブチル―２―メチル―４―イソオキサゾリン―
３―オン 31 ４―（４―クロルベンゾイル）―５―（４―
クロルフエニル）―２―フエニル―４―イソオ
キサゾリン―３―オン 32 ４―（３―ブロムベンゾイル）―５―（３―
ブロムフエニル）―２―フエニル―４―イソオ
キサゾリン―３―オン 33 ２―（３，５―ジクロルフエニル）―４―ｐ
―トルオイル―５―ｐ―トリル―４―イソオキ
サゾリン―３―オン 34 ４―ベンゾイル―２―エチル―５―メチル―
４―イソオキサゾリン―３―オン 35 ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―２―
イソプロピル―５―メチル―４―イソオキサゾ
リン―３―オン 36 ２―tert―ブチル―４―（３，５―ジニトロ
ベンゾイル）―５―メチル―４―イソオキサゾ
リン―３―オン 37 ５―エチル―２―フエニル―４―プロピオニ
ル―４―イソオキサゾリン―３―オン 38 ４―ブチロイル―５―ｎ―プロピル―２―ｐ
―トリル―４―イソオキサゾリン―３―オン 39 ２―（４―ブロムフエニル）―４―イソブチ
ロイル―５―イソプロピル―４―イソオキサゾ
リン―３―オン 40 ５―tert―ブチル―２―（４―クロルフエニ
ル）―４―ピバロイル―４―イソオキサゾリン
―３―オン この発明による新規化合物（）は次のように
して製造することができる。 (1) 前記一般式（）を有する化合物のうち、
R2が水素原子以外の化合物であるときは一般
式 （式中、R1およびR2は前述したものと同意
義を示す。）を有するヒドロキサム酸を一般式 R3―COX （） （式中、R3は前述したものと同意義を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す。）を有するハライド
と塩基の存在下で反応させることにより得るこ
とができる。 上記反応を実施するにあたり、前記一般式
（）を有する化合物を等モル乃至やゝ過剰に
使用し、不活性溶剤中、２倍モル乃至やゝ過剰
の塩基の存在下で両者を接触させることによつ
て行なわれる。 使用される塩基としてはトリエチルアミンま
たはトリｎ―ブチルアミンのような鎖状三級ア
ミン；トリエチレンジアミンまたは１，５―ジ
アザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン―５のよう
な環状三級アミン；カリウム tert―ブトキシ
ドまたはナトリウム イソアミレートのような
アルカリ金属アルコキシド類；ｎ―ブチルリチ
ウムのような有機リチウム試薬；水素化ナトリ
ウムまたは水素化カリウムのような水素化金属
があげられる。反応に使用される溶剤としては
本反応に不活性な溶剤であれば特に限定はな
く、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン
のような芳香族炭化水素類；塩化メチレンまた
はクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素
類；テトラヒドロフランまたはジオキサンのよ
うなエーテル類；アセトニトリル、プロピオニ
トリルまたはベンズニトリルのようなニトリル
類；tert―ブタノールまたはイソアミルアルコ
ールのようなアルコール類；ジメチルホルムア
ミドまたはジメチルアセトアミドのようなアミ
ド類；およびこれらの溶剤の混合溶剤があげら
れる。反応温度は特に限定はなく通常−40℃乃
至60℃程度で行なわれる。反応に要する時間は
通常１乃至15時間である。 反応終了後、目的化合物は常法によつて反応
混合物から採取される。例えば反応混合物を多
量の氷水中に注加し、有機層を分取した後、エ
チルエーテル、ベンゼンまたはトルエンのよう
な溶剤で抽出し、抽出液を先の有機層に合し、
水洗後濃縮することにより得ることができ、更
に必要ならば常法、例えば再結晶法、カラムク
ロマトグラフイ等によつて精製することができ
る。 なお、前記一般式（）の原料化合物はC.
A.59，10058ｇ（1963）記載の方法に準じて製
造される。 (2) 前記一般式（）を有する化合物のうち、
R2が水素原子である化合物（H）は、下記の
ような一連の反応によつて製造することができ
る。 （式中、R1およびR3は前述したものと同意
義を示し、R4は酸残基を示し、Ｘはハロゲン
原子を示す。） すなわちβ―ケトエステル（）をヒドロキ
シルアミンで閉環後、得られたイソオキサゾー
ルの水酸基を保護し、４位のメチレンをハロゲ
ン化後加水分解し二級アルコール（）を得
る。次いで（）を酸化後、保護基を除去して
（H）を得ることができる。 以下、各工程において説明する。 第一工程は前記一般式（）を有する化合物を
製造する工程であり、エステル（）にヒドロキ
シルアミンを等モル乃至やゝ過剰に使用し、不活
性溶剤中エステルと等モル乃至２倍モルの塩基の
存在下、両者を接触させるとによつて達成され
る。 使用される塩基としては水酸化ナトリウムまた
は水酸化カリウムのようなアルカリ金属の水酸化
物；水酸化カルシウムまたは水酸化マグネシウム
のようなアルカリ土類金属の水酸化物等が好適に
用いられる。反応は溶剤の存在下で好適に行なわ
れる。使用される溶剤としては本反応に関しなけ
れば特に限定はなく例えば水；メタノールまたは
エタノールのような低級アルコール類；アセトン
またはメチルエチルケトンのようなケトン類；ジ
メチルホルムアミドまたはジメチルアセトアミド
のようなアミド類およびこれらの溶剤の混合溶剤
があげられる。反応温度は特に限定はなく通常−
50℃乃至０℃程度で行なわれる。反応に要する時
間は約２乃至５時間である。 反応終了後、目的化合物は常法によつて反応混
合物から採取される。例えば反応混液を多量の水
に注加後、目的化合物が結晶として析出するとき
はこれを取することにより、析出しないときは
エチルエーテルのような溶剤で抽出後抽出液より
溶剤を留去することによつて得られる。粗製の目
的化合物は常法例えば再結晶法、カラムクロマト
グラフイ等によつて精製することもできる。 第二工程は前記一般式（）を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式（を有する化
合物の水酸基を保護することによつて達成され
る。反応は前記一般式（）を有する化合物を水
酸基の保護基を形成する化合物（）と塩基の存
在下接触させることによつて行なわれる。 使用される水酸基の保護基を形成する化合物と
しては例えばカルボン酸、スルホン酸もしくはリ
ン酸のような酸のハライドがあげられる。使用さ
れる塩基としては例えばトリエチルアミンまたは
トリ―ブチルアミンのような鎖状三級アミン；ト
リエチレンジアミンまたは１・５―ジアザビシク
ロ〔5.4.0〕ウンデセン―５のような環状三級ア
ミン等が特に限定なく使用される。反応は溶剤の
存在下で好適に行われる。使用される溶剤として
は本反応に関与しなければ特に限定はなく、例え
ばベンゼンまたはトルエンのような芳香族炭化水
素類；メチレンクリドまたはクロロホルムのよう
なハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフランま
たはジオキサンのようなエーテル類；アセトニト
リルまたはプロピオニトリルのようなニトリル
類；酢酸エチルまたはれらの溶剤の混合溶剤が好
適に使用される。反応温度は特に限定はなく通常
室温乃至60℃程度で行われる。反応に要する時間
は通常１乃至４時間である。 反応終了後、目的化合物は常法により反応混合
物から採取される。例えば反応混合物を多量の水
中に投入し、有機層を分取し、水洗した後適当な
乾燥剤で乾燥し、溶剤を留去することによつて得
ることができる。 第三工程は前記一般式（）を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式（）を有する
化合物を、適当な溶剤中でハロゲン化剤と接触さ
せることによつて達成される。 使用されるハロゲン化剤としては例えばＮ―ブ
ロムサクシンイミド、Ｎ―クロルサクシンイミド
のようなＮ―ハロサククシンイミドおよびハロゲ
ン分子等が好適に用いられる。反応に使用される
溶剤としては本反応に関与しないものであれば特
に限定はなく、例えばベンゼンまたはクロルベン
ゼンのような芳香族炭化水素類；四塩化炭素また
はジクロルエタンのようなハロゲン化炭化水素類
があげられる。本反応は化学量論的量のハロゲン
化剤にて遂行されるが、反応を速やかに行なうた
めに通常過剰量（約1.1〜1.5倍モル）を使用する
のが好ましい。また、反応は触媒量の過酸化ベン
ゾイル、アゾイソブチロニトリルのようなラジカ
ル開始剤を添加するか、光を照射することによつ
て有利に行われ、溶剤の還流温度で0.5乃至４時
間加熱することにより完結する。 反応終了後、目的化合物は常法によつて反応混
合物から採取される。例えば反応混合物より不溶
物を除去し液を濃縮することにより固形物とし
て得ることができるが、この一連の方法において
は単離精製することなくそのまま次の工程の原料
化合物の溶液として使用することができる。 第四工程は前記一般式（）を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式（）を有する
化合物を加水分解することによつて達成される。 反応は等モル乃至やゝ過剰の硝酸銀またはトリ
フルオロ酢酸銀のような銀剤；塩化銅または酢酸
銅のような銅剤；塩化水銀または酢酸水銀のよう
な水銀剤及び基質の２乃至４倍重量のシリカゲル
の存在下で実施される。使用される溶剤としては
tertブタノールまたはイソアミルアルコールのよ
うなアルコール類；アセトンまたはメチルイソブ
チルケトンのようなケトン類；アセトニトリルま
たはプロピオニトリルのようなニトリル類；およ
び酢酸エチルのような水と混和する有機溶剤と水
との混合溶剤が好適に用いられる。反応は触媒量
の酸、例えば塩酸または硫酸のような鉱酸を滴加
することにより加速されるとがある。反応温度は
特に限定はないが通常反応は室温付近で行なわれ
る。反応に要する時間は15乃至50時間である。 反応終了後、目的化合物は常法により反応混合
物から採取される。例えば反応混合物より不溶物
を去し、液を多量の水で希釈後塩化メチレン
のような溶剤で抽出し、抽出液より溶剤を留去す
ることによつて得ることができる。このものは更
に再結晶法、カラムクロマトグラフイ等の常法に
よつて精製しその鈍品を得ることができる。 第五工程は前記一般式（）を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式（）を有する
化合物を酸化することによつて達成される。反応
は酸化剤の存在下で実施される。使用される酸化
剤としては例えばクロム酸、無水クロム酸、無水
クロム酸―ピリジン錯塩、無水クロム酸―濃硫酸
―水、重クロム酸ナトリウム等のクロム酸類；特
にクロム酸―硫酸及びピリジン―クロム酸―塩酸
の系が好適に用いられる。使用される溶剤として
は本反応に関与しなければ特に限定はないが、例
えば酢酸、酢酸―無水酢酸などの有機酸または有
機酸と有機酸無水物との混合溶剤；ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化
炭化水素類、アセトン、メチルイソブチルケトン
などのケトン類が好適である。反応温度は特に限
定はないが副反応を抑えるためには比較的低温で
行なうのが望ましく、通常は０℃乃至室温で行な
われる。 反応終了後、目的化合物は常法によつて反応混
合物から採取される。例えば反応混合物より減圧
で溶剤を留去することによつて得ることができ
る。このものは常法例えば再結晶法等によつて精
製することができる。 第六工程は前記一般式（H）を有する化合物
を製造する工程であり、前記一般式（）を有す
る化合物の水酸基の保護基R4を除去することに
よつて達成される。反応は塩基の存在下で実施さ
れる。 使用される塩基としては、アンモニア、モノメ
チルアミンまたはジエチルアミンのようなアミン
類；ナトリウムメトキシドまたはナトリウムエト
キシドのようなアルカリ金属アルコキシド；水酸
化ナトリウムまたは水酸化カルシウムのようなア
ルカリ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物等
が好適に使用される。反応は溶剤の存在下または
不存在下で実施されるが反応を円滑に行なうには
溶剤を使用する方が好ましく使用される溶剤とし
ては本反応に関与しなければ特に限定はなく、例
えば水；メタノールまたはエタノールのような低
級アルコール類；アセトンまたはメチルイソブチ
ルケトンのようなケトン類；およびこれらの溶剤
の混合溶剤が好適に使用される。反応温度は特に
限定はなく室温乃至溶剤の還流温度で行なわれ
る。 反応終了後、目的化合物は常法により反応混合
物より採取される。例えば反応混合物を酸性とな
した後、酢酸エチルのような溶剤で抽出し抽出液
より溶剤を留去することによつて得られる。粗製
の目的化合物は常法例えば再結晶法、カラムクロ
マトグラフイ等によつて精製することができる。 この発明の新規なイソオキサゾール化合物
（）の製法を実施例および参考例を示して更に
詳細に説明するが、これらの例は本発明を限定す
るものではない。 実施例 １ ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―５―メ
チル―２―フエニル―４―イソオキサゾリン―
３―オン Ｎ―フエニルアセトアセトヒドロキサム酸1.0
ｇをベンゼン40mlに溶解後、トリエチルアミン
1.10ｇ、次いで２，４―ジクロルベンゾイルクロ
リド1.19ｇを加えた。反応液を室温で６時間撹拌
後、水洗乾燥し、溶剤を留去し残留物をシリカゲ
ル・カラムクロマトグラフイ（溶出剤；ｎ―ヘキ
サン；アセトン＝30：１）で精製し融点141.5〜
143℃を有する目的化合物を1.60ｇ得た（収率
88.9％）。 元素分析値（％） C17H11Cl2NO3として 計算値Ｃ，58.64；Ｈ，3.18；Ｎ，4.02 実測値Ｃ，58.62；Ｈ，2.93；Ｎ，3.95 上記実施例１の方法に準じて次の化合物が製造
された。
フエニル基（該フエニルは適宜１乃至３個の低級
アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子ま
たはニトロ基で置換されていてもよい。）を示し、
R2は水素原子、低級アルキル基またはフエニル
基（該フエニルは適宜１乃至３個の低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子またはニト
ロ基で置換されていてもよい。）を示す。〕を有す
る新規なイソオキサゾール化合物に関するもので
ある。 前記一般式（）の定義において、R1，R2お
よびR3の低級アルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、ｎ―プロピル、イソプロピル、ｎ―
ブチル、イソブチルまたはtert―ブチルのような
炭素数１乃至４個を有する直鎖状または分枝鎖状
のアルキル基があげられる。 R1およびR2およびR3が低級アルキル基を置換
分として有するフエニル基である場合の低級アル
キル基としては、例えばメチル、エチル、ｎ―プ
ロピルまたはイソプロピルのような炭素数１乃至
３個を有するアルキル基があげられる。 R1，R2およびR3が低級アルコキシ基を置換分
として有するフエニル基である場合の低級アルコ
キシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ
―プロポキシまたはイソプロポキシのような炭素
数１乃至３個を有するアルコキシ基があげられ
る。 また、R1，R2およびR3がハロゲン原子を置換
分として有するフエニル基である場合のハロゲン
原子としては、例えば塩素、臭素または弗素があ
げられる。 前記一般式（）において、R2が水素原子で
ある化合物（H）は互変異性体（′H）との平
衡混合物として存在することができる。 （上記式中、R1およびR3は前述したものと同
意義を示す。） この発明の新規なイソオキサゾール化合物
（）は、農園芸用殺菌剤または水田用除草剤と
して有用な化合物である。 この発明の新規イソオキサゾール化合物として
は、例えば次のものがあげられる。 １ ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―５―
メチル―２―フエニル―４―イソオキサゾリン
―３―オン ２ ５―メチル―２―フエニル―４―ｐ―トルオ
イル―４―イソオキサゾリン―３―オン ３ ５―メチル―２―フエニル―４―ｍ―トルオ
イル―４―イソオキサゾリン―３―オン ４ ４―ベンゾイル―５―メチル―２―フエニル
―４―イソオキサゾリン―３―オン ５ ４―（２，４―ジメチルベンゾイル）―５―
メチル―２―フエニル―４―イソオキサゾリン
―３―オン ６ ４―（２―クロルベンゾイル）―５―メチル
―２―フエニル―４―イソオキサゾリン―３―
オン ７ ４―（４―ブロムベンゾイル）―５―メチル
―２―フエニル―４―イソオキサゾリン―３―
オン ８ ―メチル―２―フエニル―４―（３，４，５
―トリメトキシベンゾイル―４―イソオキサゾ
リン―３―オン ９ ４―（３，５―ジニトロベンゾイル）―５―
メチル―２―フエニル―４―イソオキサゾリン
―３―オン 10 ５―メチル―４―（２―メトキシベンゾイ
ル）―２―フエニル―４―イソオキサゾリン―
３―オン 11 ４―ベンゾイル―２―（４―クロルフエニ
ル）―５―メチル―４―イソオキサゾリン―３
―オン 12 ４―ベンゾイル―５―メチル―２―ｐ―トリ
ル―４―イソオキサゾリン―３―オン 13 ４―ベンゾイル―５―メチル―２―ｍ―トリ
ル―４―イソオキサゾリン―３―オン 14 ４―ベンゾイル―２―（３―クロルフエニ
ル）―５―メチル―４―イソオキサゾリン―３
―オン 15 ４―ベンゾイル―２―（３，５―ジクロルフ
エニル）―５―メチル―４―イソオキサゾリン
―３―オン 16 ４―ベンゾイル―２―（４―ブロムフエニ
ル）―５―メチル―４―イソオキサゾリン―３
―オン 17 ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―２，
５―ジメチル―４―イソオキサゾリン―３―オ
ン 18 ４―アセチル―５―メチル―２―フエニル―
４―イソオキサゾリン―３―オン 19 ４―アセチル―２，５―ジフエニル―４―イ
ソオキサゾリン―３―オン 20 ４―アセチル―２―（４―クロルフエニル）
―５―フエニル―４―イソオキサゾリン―３―
オン 21 ４―アセチル―５―フエニル―２―ｐ―トリ
ル―４―イソオキサゾリン―３―オン 22 ４―アセチル―５―フエニル―２―ｍ―トリ
ル―４―イソオキサゾリン―３―オン 23 ４―アセチル―２―（３，５―ジクロルフエ
ニル）―５―フエニル―４―イソオキサゾリン
―３―オン 24 ４―アセチル―２―（４―ブロムフエニル）
―５―フエニル―４―イソオキサゾリン―３―
オン 25 ４―アセチル―２―（３―クロルフエニル）
―フエニル―４―イソオキサゾリン―３―オン 26 ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―５―
メチル―４―イソオキサゾリン―３―オン 27 ４―ベンゾイル―５―メチル―４―イソオキ
サゾリン―３―オン 28 ４―ベンゾイル―５―エチル―２―フエニル
―４―イソオキサゾリン―３―オン 29 ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―５―
イソプロピル―２―フエニル―４―イソオキサ
ゾリン―３―オン 30 ４―（４―ブロムベンゾイル）―５―tert―
ブチル―２―メチル―４―イソオキサゾリン―
３―オン 31 ４―（４―クロルベンゾイル）―５―（４―
クロルフエニル）―２―フエニル―４―イソオ
キサゾリン―３―オン 32 ４―（３―ブロムベンゾイル）―５―（３―
ブロムフエニル）―２―フエニル―４―イソオ
キサゾリン―３―オン 33 ２―（３，５―ジクロルフエニル）―４―ｐ
―トルオイル―５―ｐ―トリル―４―イソオキ
サゾリン―３―オン 34 ４―ベンゾイル―２―エチル―５―メチル―
４―イソオキサゾリン―３―オン 35 ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―２―
イソプロピル―５―メチル―４―イソオキサゾ
リン―３―オン 36 ２―tert―ブチル―４―（３，５―ジニトロ
ベンゾイル）―５―メチル―４―イソオキサゾ
リン―３―オン 37 ５―エチル―２―フエニル―４―プロピオニ
ル―４―イソオキサゾリン―３―オン 38 ４―ブチロイル―５―ｎ―プロピル―２―ｐ
―トリル―４―イソオキサゾリン―３―オン 39 ２―（４―ブロムフエニル）―４―イソブチ
ロイル―５―イソプロピル―４―イソオキサゾ
リン―３―オン 40 ５―tert―ブチル―２―（４―クロルフエニ
ル）―４―ピバロイル―４―イソオキサゾリン
―３―オン この発明による新規化合物（）は次のように
して製造することができる。 (1) 前記一般式（）を有する化合物のうち、
R2が水素原子以外の化合物であるときは一般
式 （式中、R1およびR2は前述したものと同意
義を示す。）を有するヒドロキサム酸を一般式 R3―COX （） （式中、R3は前述したものと同意義を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す。）を有するハライド
と塩基の存在下で反応させることにより得るこ
とができる。 上記反応を実施するにあたり、前記一般式
（）を有する化合物を等モル乃至やゝ過剰に
使用し、不活性溶剤中、２倍モル乃至やゝ過剰
の塩基の存在下で両者を接触させることによつ
て行なわれる。 使用される塩基としてはトリエチルアミンま
たはトリｎ―ブチルアミンのような鎖状三級ア
ミン；トリエチレンジアミンまたは１，５―ジ
アザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン―５のよう
な環状三級アミン；カリウム tert―ブトキシ
ドまたはナトリウム イソアミレートのような
アルカリ金属アルコキシド類；ｎ―ブチルリチ
ウムのような有機リチウム試薬；水素化ナトリ
ウムまたは水素化カリウムのような水素化金属
があげられる。反応に使用される溶剤としては
本反応に不活性な溶剤であれば特に限定はな
く、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン
のような芳香族炭化水素類；塩化メチレンまた
はクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素
類；テトラヒドロフランまたはジオキサンのよ
うなエーテル類；アセトニトリル、プロピオニ
トリルまたはベンズニトリルのようなニトリル
類；tert―ブタノールまたはイソアミルアルコ
ールのようなアルコール類；ジメチルホルムア
ミドまたはジメチルアセトアミドのようなアミ
ド類；およびこれらの溶剤の混合溶剤があげら
れる。反応温度は特に限定はなく通常−40℃乃
至60℃程度で行なわれる。反応に要する時間は
通常１乃至15時間である。 反応終了後、目的化合物は常法によつて反応
混合物から採取される。例えば反応混合物を多
量の氷水中に注加し、有機層を分取した後、エ
チルエーテル、ベンゼンまたはトルエンのよう
な溶剤で抽出し、抽出液を先の有機層に合し、
水洗後濃縮することにより得ることができ、更
に必要ならば常法、例えば再結晶法、カラムク
ロマトグラフイ等によつて精製することができ
る。 なお、前記一般式（）の原料化合物はC.
A.59，10058ｇ（1963）記載の方法に準じて製
造される。 (2) 前記一般式（）を有する化合物のうち、
R2が水素原子である化合物（H）は、下記の
ような一連の反応によつて製造することができ
る。 （式中、R1およびR3は前述したものと同意
義を示し、R4は酸残基を示し、Ｘはハロゲン
原子を示す。） すなわちβ―ケトエステル（）をヒドロキ
シルアミンで閉環後、得られたイソオキサゾー
ルの水酸基を保護し、４位のメチレンをハロゲ
ン化後加水分解し二級アルコール（）を得
る。次いで（）を酸化後、保護基を除去して
（H）を得ることができる。 以下、各工程において説明する。 第一工程は前記一般式（）を有する化合物を
製造する工程であり、エステル（）にヒドロキ
シルアミンを等モル乃至やゝ過剰に使用し、不活
性溶剤中エステルと等モル乃至２倍モルの塩基の
存在下、両者を接触させるとによつて達成され
る。 使用される塩基としては水酸化ナトリウムまた
は水酸化カリウムのようなアルカリ金属の水酸化
物；水酸化カルシウムまたは水酸化マグネシウム
のようなアルカリ土類金属の水酸化物等が好適に
用いられる。反応は溶剤の存在下で好適に行なわ
れる。使用される溶剤としては本反応に関しなけ
れば特に限定はなく例えば水；メタノールまたは
エタノールのような低級アルコール類；アセトン
またはメチルエチルケトンのようなケトン類；ジ
メチルホルムアミドまたはジメチルアセトアミド
のようなアミド類およびこれらの溶剤の混合溶剤
があげられる。反応温度は特に限定はなく通常−
50℃乃至０℃程度で行なわれる。反応に要する時
間は約２乃至５時間である。 反応終了後、目的化合物は常法によつて反応混
合物から採取される。例えば反応混液を多量の水
に注加後、目的化合物が結晶として析出するとき
はこれを取することにより、析出しないときは
エチルエーテルのような溶剤で抽出後抽出液より
溶剤を留去することによつて得られる。粗製の目
的化合物は常法例えば再結晶法、カラムクロマト
グラフイ等によつて精製することもできる。 第二工程は前記一般式（）を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式（を有する化
合物の水酸基を保護することによつて達成され
る。反応は前記一般式（）を有する化合物を水
酸基の保護基を形成する化合物（）と塩基の存
在下接触させることによつて行なわれる。 使用される水酸基の保護基を形成する化合物と
しては例えばカルボン酸、スルホン酸もしくはリ
ン酸のような酸のハライドがあげられる。使用さ
れる塩基としては例えばトリエチルアミンまたは
トリ―ブチルアミンのような鎖状三級アミン；ト
リエチレンジアミンまたは１・５―ジアザビシク
ロ〔5.4.0〕ウンデセン―５のような環状三級ア
ミン等が特に限定なく使用される。反応は溶剤の
存在下で好適に行われる。使用される溶剤として
は本反応に関与しなければ特に限定はなく、例え
ばベンゼンまたはトルエンのような芳香族炭化水
素類；メチレンクリドまたはクロロホルムのよう
なハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフランま
たはジオキサンのようなエーテル類；アセトニト
リルまたはプロピオニトリルのようなニトリル
類；酢酸エチルまたはれらの溶剤の混合溶剤が好
適に使用される。反応温度は特に限定はなく通常
室温乃至60℃程度で行われる。反応に要する時間
は通常１乃至４時間である。 反応終了後、目的化合物は常法により反応混合
物から採取される。例えば反応混合物を多量の水
中に投入し、有機層を分取し、水洗した後適当な
乾燥剤で乾燥し、溶剤を留去することによつて得
ることができる。 第三工程は前記一般式（）を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式（）を有する
化合物を、適当な溶剤中でハロゲン化剤と接触さ
せることによつて達成される。 使用されるハロゲン化剤としては例えばＮ―ブ
ロムサクシンイミド、Ｎ―クロルサクシンイミド
のようなＮ―ハロサククシンイミドおよびハロゲ
ン分子等が好適に用いられる。反応に使用される
溶剤としては本反応に関与しないものであれば特
に限定はなく、例えばベンゼンまたはクロルベン
ゼンのような芳香族炭化水素類；四塩化炭素また
はジクロルエタンのようなハロゲン化炭化水素類
があげられる。本反応は化学量論的量のハロゲン
化剤にて遂行されるが、反応を速やかに行なうた
めに通常過剰量（約1.1〜1.5倍モル）を使用する
のが好ましい。また、反応は触媒量の過酸化ベン
ゾイル、アゾイソブチロニトリルのようなラジカ
ル開始剤を添加するか、光を照射することによつ
て有利に行われ、溶剤の還流温度で0.5乃至４時
間加熱することにより完結する。 反応終了後、目的化合物は常法によつて反応混
合物から採取される。例えば反応混合物より不溶
物を除去し液を濃縮することにより固形物とし
て得ることができるが、この一連の方法において
は単離精製することなくそのまま次の工程の原料
化合物の溶液として使用することができる。 第四工程は前記一般式（）を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式（）を有する
化合物を加水分解することによつて達成される。 反応は等モル乃至やゝ過剰の硝酸銀またはトリ
フルオロ酢酸銀のような銀剤；塩化銅または酢酸
銅のような銅剤；塩化水銀または酢酸水銀のよう
な水銀剤及び基質の２乃至４倍重量のシリカゲル
の存在下で実施される。使用される溶剤としては
tertブタノールまたはイソアミルアルコールのよ
うなアルコール類；アセトンまたはメチルイソブ
チルケトンのようなケトン類；アセトニトリルま
たはプロピオニトリルのようなニトリル類；およ
び酢酸エチルのような水と混和する有機溶剤と水
との混合溶剤が好適に用いられる。反応は触媒量
の酸、例えば塩酸または硫酸のような鉱酸を滴加
することにより加速されるとがある。反応温度は
特に限定はないが通常反応は室温付近で行なわれ
る。反応に要する時間は15乃至50時間である。 反応終了後、目的化合物は常法により反応混合
物から採取される。例えば反応混合物より不溶物
を去し、液を多量の水で希釈後塩化メチレン
のような溶剤で抽出し、抽出液より溶剤を留去す
ることによつて得ることができる。このものは更
に再結晶法、カラムクロマトグラフイ等の常法に
よつて精製しその鈍品を得ることができる。 第五工程は前記一般式（）を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式（）を有する
化合物を酸化することによつて達成される。反応
は酸化剤の存在下で実施される。使用される酸化
剤としては例えばクロム酸、無水クロム酸、無水
クロム酸―ピリジン錯塩、無水クロム酸―濃硫酸
―水、重クロム酸ナトリウム等のクロム酸類；特
にクロム酸―硫酸及びピリジン―クロム酸―塩酸
の系が好適に用いられる。使用される溶剤として
は本反応に関与しなければ特に限定はないが、例
えば酢酸、酢酸―無水酢酸などの有機酸または有
機酸と有機酸無水物との混合溶剤；ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化
炭化水素類、アセトン、メチルイソブチルケトン
などのケトン類が好適である。反応温度は特に限
定はないが副反応を抑えるためには比較的低温で
行なうのが望ましく、通常は０℃乃至室温で行な
われる。 反応終了後、目的化合物は常法によつて反応混
合物から採取される。例えば反応混合物より減圧
で溶剤を留去することによつて得ることができ
る。このものは常法例えば再結晶法等によつて精
製することができる。 第六工程は前記一般式（H）を有する化合物
を製造する工程であり、前記一般式（）を有す
る化合物の水酸基の保護基R4を除去することに
よつて達成される。反応は塩基の存在下で実施さ
れる。 使用される塩基としては、アンモニア、モノメ
チルアミンまたはジエチルアミンのようなアミン
類；ナトリウムメトキシドまたはナトリウムエト
キシドのようなアルカリ金属アルコキシド；水酸
化ナトリウムまたは水酸化カルシウムのようなア
ルカリ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物等
が好適に使用される。反応は溶剤の存在下または
不存在下で実施されるが反応を円滑に行なうには
溶剤を使用する方が好ましく使用される溶剤とし
ては本反応に関与しなければ特に限定はなく、例
えば水；メタノールまたはエタノールのような低
級アルコール類；アセトンまたはメチルイソブチ
ルケトンのようなケトン類；およびこれらの溶剤
の混合溶剤が好適に使用される。反応温度は特に
限定はなく室温乃至溶剤の還流温度で行なわれ
る。 反応終了後、目的化合物は常法により反応混合
物より採取される。例えば反応混合物を酸性とな
した後、酢酸エチルのような溶剤で抽出し抽出液
より溶剤を留去することによつて得られる。粗製
の目的化合物は常法例えば再結晶法、カラムクロ
マトグラフイ等によつて精製することができる。 この発明の新規なイソオキサゾール化合物
（）の製法を実施例および参考例を示して更に
詳細に説明するが、これらの例は本発明を限定す
るものではない。 実施例 １ ４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―５―メ
チル―２―フエニル―４―イソオキサゾリン―
３―オン Ｎ―フエニルアセトアセトヒドロキサム酸1.0
ｇをベンゼン40mlに溶解後、トリエチルアミン
1.10ｇ、次いで２，４―ジクロルベンゾイルクロ
リド1.19ｇを加えた。反応液を室温で６時間撹拌
後、水洗乾燥し、溶剤を留去し残留物をシリカゲ
ル・カラムクロマトグラフイ（溶出剤；ｎ―ヘキ
サン；アセトン＝30：１）で精製し融点141.5〜
143℃を有する目的化合物を1.60ｇ得た（収率
88.9％）。 元素分析値（％） C17H11Cl2NO3として 計算値Ｃ，58.64；Ｈ，3.18；Ｎ，4.02 実測値Ｃ，58.62；Ｈ，2.93；Ｎ，3.95 上記実施例１の方法に準じて次の化合物が製造
された。
【表】
【表】
実施例 ２
４―（２，４―ジクロルベンゾイル）―５―メ
チル―４―イソオキサゾリン―３―オン ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（２，４
―ジクロルベンゾイル）―５―メチルイソオキサ
ゾール507mgをメタノール16mlに溶解後、ナトリ
ウムメトキシド204mgを加え室温で18時間撹拌し
た。反応液を塩酸々性後エーテル抽出し、水洗乾
燥後濃縮乾固し、塩化メチレンより再結し融点
160〜161℃を有する目的化合物を282mg得た（収
率84.2％）。 元素分析値（％） C11H7Cl2NO3として 計算値Ｃ，48.56；Ｈ，2.59；Ｎ，5.15 実測値Ｃ，48.86；Ｈ，2.77；Ｎ，4.80 実施例 ３ ４―ベンゾイル――メチル―４―イソオキサゾ
リン―３―オン ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―ベンゾイ
ル―５―メチルイソオキサゾール1.05ｇをアセト
ン25mlに溶解後、29％アンモニア水11mlを水冷下
に加え室温で4.時間撹拌した。次いでアセトンを
留去し塩酸々性後エーテルで抽出し、エーテル層
を炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出し、酸性化し
た後塩化メチレンで再抽出し融点148〜150℃を有
する目的化合物0.63ｇを得た（収率100％）。 元素分析値（％） C11H9NO3として 計算値Ｃ，65.02；Ｈ，4.43；Ｎ，6.90 実測値Ｃ，65.14；Ｈ，4.61；Ｎ，6.90 参考例 １ ４―（２，４―ジクロルベンジル）―３―ヒド
ロキシ―５―メチルイソオキサゾール 水酸化ナトリウム1.43ｇを水15mlとメタノール
30mlの混液に溶解後、−25〜−30℃でエチル ２
―（２，４―ジクロルベンジル）アセトアセテー
ト10ｇ、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩2.89ｇ
に水酸化ナトリウム1.71ｇを加え中和した水溶液
５mlを滴加した。２時間撹拌後、塩酸20mlを加え
80℃で１時間加熱し、1/2容まで濃縮した後水50
mlで希釈し、ｎ―ヘキサンで抽出を行ない原料を
回収した後更にエーテルで抽出した。抽出液を乾
燥し減圧下で濃縮後シリカゲル・カラムクロマト
グラフイ（溶出剤：ｎ―ヘキサン：イソプロピル
エーテル＝２：１）で精製し融点175〜177℃を有
する目的化合物4.20ｇを得た（収率47.4％）。 元素分析値（％） C11H7Cl2NO2として 計算値Ｃ，51.56；Ｈ，3.49；Ｎ，5.46 実測値Ｃ，51.57；Ｈ，3.65；Ｎ，5.29 上記参考例１の方法に準じて次の化合物が製造
された。 ４―ベンジル―３―ヒドロキシ―５―メチルイ
ソオキサゾール， m.p.100〜104℃ 参考例 ２ ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（２，４
―ジクロルベンジル）―５―メチルイソオキサ
ゾール ４―（２，４―ジクロルベンジル）―３―ヒド
ロキシ―５―メチルイソオキサゾール0.5ｇをテ
トラヒドロフラン30mlに溶解後、氷冷下トリエチ
ルアミン0.22ｇ、次いでベンゼンスルホニルクロ
リド0.38ｇを加えた。室温で3.5時間撹拌後、減
圧下に濃縮し、多量の水を注加しエーテルで抽出
した。抽出液は水、１％塩酸、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、次いで水で順次洗浄後濃縮し、残
留物をシリカゲル・カラムクロマトグラフイ（溶
出剤；ベンゼン）で精製し油状（n24 D1.5750）の
目的化合物0.57ｇを得た（収率74.1％）。 元素分析値（％ C17H13Cl2NO4Sとして 計算値Ｃ，51.27；Ｈ，3.29；Ｎ，3.52 実測値Ｃ，51.04；Ｈ，3.34；Ｎ，3.38 上記参考例２の方法に準じて次の化合物が製造
された。 ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―ベンジル
―５―メチルイソオキサゾール， n24 D1.5642 参考例 ３ ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（α―ヒ
ドロキシ―２，４―ジクロルベンジル）―５―
メチルイソオキサゾール ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（２，４
―ジクロルベンジル）―５―メチルイソオキサゾ
ール1.02ｇを四塩化炭素15mlに溶解後、Ｎ―ブロ
ムサクシンイミド0.48ｇを加え80℃に加熱した。
次いで過酸化ベンゾイル0.03ｇを加え１時間加熱
還流した後過し、液に硝酸銀1.09ｇを溶解し
た水溶液３mlを加え、更に両者が均一液となるま
でアセトンを加えて室温で48時間撹拌した。反応
液を濃縮後エーテルで抽出し、抽出液を水洗乾燥
後シリカゲル・カラムクロマトグラフイ（溶出
剤；ベンゼン；クロロホルム＝５：１）で精製し
融点98〜103℃を有する目的化合物0.58ｇを得た
（収率55.3％）。 元素分析値（％） C17H13Cl2NO5Sとして 計算値Ｃ，49.29；Ｈ，3.16；Ｎ，3.38 実測値Ｃ，49.17；Ｈ，3.15；Ｎ，3.40 上記参考例３の方法に準じて次の化合物が製造
された。 ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（α―ヒ
ドロキシベンジル）―５―メチルイソオキサゾー
ル， n24 D1.5682 参考例 ４ ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（２，４
―ジクロルベンゾイル）―５―メチルイソオキ
サゾール ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（α―ヒ
ドロキシ―２，４―ジクロルベンジル）―５―メ
チルイソオキサゾール1.24ｇをアセトン20mlに溶
解した溶液に、硫酸0.8mlおよびクロム酸0.81ｇ
を水４mlに溶解して調整した溶液を氷冷下滴加し
た。室温で2.5時間撹拌後氷水120mlに注加し、塩
化メチレンで抽出し、抽出液を水洗乾燥後濃縮
し、残留物をシリカゲル・カラムクロマトグラフ
イ（溶出剤；ベンゼン；クロロホルム＝４：１）
で精製し融点90〜91℃を有する目的化合物1.23ｇ
を得た（収率100％）。 元素分析値（％） C17H11Cl2NO5Sとして 計算値Ｃ，49.53；Ｈ，2.69；Ｎ，3.40 実測値Ｃ，49.23；Ｈ，2.77；Ｎ，3.49 上記参考例４の方法に準じて次の化合物が製造
された。 ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―ベンゾイ
ル―５―メチルイソオキサゾール， m.p.84.5〜85.5℃
チル―４―イソオキサゾリン―３―オン ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（２，４
―ジクロルベンゾイル）―５―メチルイソオキサ
ゾール507mgをメタノール16mlに溶解後、ナトリ
ウムメトキシド204mgを加え室温で18時間撹拌し
た。反応液を塩酸々性後エーテル抽出し、水洗乾
燥後濃縮乾固し、塩化メチレンより再結し融点
160〜161℃を有する目的化合物を282mg得た（収
率84.2％）。 元素分析値（％） C11H7Cl2NO3として 計算値Ｃ，48.56；Ｈ，2.59；Ｎ，5.15 実測値Ｃ，48.86；Ｈ，2.77；Ｎ，4.80 実施例 ３ ４―ベンゾイル――メチル―４―イソオキサゾ
リン―３―オン ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―ベンゾイ
ル―５―メチルイソオキサゾール1.05ｇをアセト
ン25mlに溶解後、29％アンモニア水11mlを水冷下
に加え室温で4.時間撹拌した。次いでアセトンを
留去し塩酸々性後エーテルで抽出し、エーテル層
を炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出し、酸性化し
た後塩化メチレンで再抽出し融点148〜150℃を有
する目的化合物0.63ｇを得た（収率100％）。 元素分析値（％） C11H9NO3として 計算値Ｃ，65.02；Ｈ，4.43；Ｎ，6.90 実測値Ｃ，65.14；Ｈ，4.61；Ｎ，6.90 参考例 １ ４―（２，４―ジクロルベンジル）―３―ヒド
ロキシ―５―メチルイソオキサゾール 水酸化ナトリウム1.43ｇを水15mlとメタノール
30mlの混液に溶解後、−25〜−30℃でエチル ２
―（２，４―ジクロルベンジル）アセトアセテー
ト10ｇ、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩2.89ｇ
に水酸化ナトリウム1.71ｇを加え中和した水溶液
５mlを滴加した。２時間撹拌後、塩酸20mlを加え
80℃で１時間加熱し、1/2容まで濃縮した後水50
mlで希釈し、ｎ―ヘキサンで抽出を行ない原料を
回収した後更にエーテルで抽出した。抽出液を乾
燥し減圧下で濃縮後シリカゲル・カラムクロマト
グラフイ（溶出剤：ｎ―ヘキサン：イソプロピル
エーテル＝２：１）で精製し融点175〜177℃を有
する目的化合物4.20ｇを得た（収率47.4％）。 元素分析値（％） C11H7Cl2NO2として 計算値Ｃ，51.56；Ｈ，3.49；Ｎ，5.46 実測値Ｃ，51.57；Ｈ，3.65；Ｎ，5.29 上記参考例１の方法に準じて次の化合物が製造
された。 ４―ベンジル―３―ヒドロキシ―５―メチルイ
ソオキサゾール， m.p.100〜104℃ 参考例 ２ ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（２，４
―ジクロルベンジル）―５―メチルイソオキサ
ゾール ４―（２，４―ジクロルベンジル）―３―ヒド
ロキシ―５―メチルイソオキサゾール0.5ｇをテ
トラヒドロフラン30mlに溶解後、氷冷下トリエチ
ルアミン0.22ｇ、次いでベンゼンスルホニルクロ
リド0.38ｇを加えた。室温で3.5時間撹拌後、減
圧下に濃縮し、多量の水を注加しエーテルで抽出
した。抽出液は水、１％塩酸、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、次いで水で順次洗浄後濃縮し、残
留物をシリカゲル・カラムクロマトグラフイ（溶
出剤；ベンゼン）で精製し油状（n24 D1.5750）の
目的化合物0.57ｇを得た（収率74.1％）。 元素分析値（％ C17H13Cl2NO4Sとして 計算値Ｃ，51.27；Ｈ，3.29；Ｎ，3.52 実測値Ｃ，51.04；Ｈ，3.34；Ｎ，3.38 上記参考例２の方法に準じて次の化合物が製造
された。 ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―ベンジル
―５―メチルイソオキサゾール， n24 D1.5642 参考例 ３ ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（α―ヒ
ドロキシ―２，４―ジクロルベンジル）―５―
メチルイソオキサゾール ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（２，４
―ジクロルベンジル）―５―メチルイソオキサゾ
ール1.02ｇを四塩化炭素15mlに溶解後、Ｎ―ブロ
ムサクシンイミド0.48ｇを加え80℃に加熱した。
次いで過酸化ベンゾイル0.03ｇを加え１時間加熱
還流した後過し、液に硝酸銀1.09ｇを溶解し
た水溶液３mlを加え、更に両者が均一液となるま
でアセトンを加えて室温で48時間撹拌した。反応
液を濃縮後エーテルで抽出し、抽出液を水洗乾燥
後シリカゲル・カラムクロマトグラフイ（溶出
剤；ベンゼン；クロロホルム＝５：１）で精製し
融点98〜103℃を有する目的化合物0.58ｇを得た
（収率55.3％）。 元素分析値（％） C17H13Cl2NO5Sとして 計算値Ｃ，49.29；Ｈ，3.16；Ｎ，3.38 実測値Ｃ，49.17；Ｈ，3.15；Ｎ，3.40 上記参考例３の方法に準じて次の化合物が製造
された。 ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（α―ヒ
ドロキシベンジル）―５―メチルイソオキサゾー
ル， n24 D1.5682 参考例 ４ ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（２，４
―ジクロルベンゾイル）―５―メチルイソオキ
サゾール ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―（α―ヒ
ドロキシ―２，４―ジクロルベンジル）―５―メ
チルイソオキサゾール1.24ｇをアセトン20mlに溶
解した溶液に、硫酸0.8mlおよびクロム酸0.81ｇ
を水４mlに溶解して調整した溶液を氷冷下滴加し
た。室温で2.5時間撹拌後氷水120mlに注加し、塩
化メチレンで抽出し、抽出液を水洗乾燥後濃縮
し、残留物をシリカゲル・カラムクロマトグラフ
イ（溶出剤；ベンゼン；クロロホルム＝４：１）
で精製し融点90〜91℃を有する目的化合物1.23ｇ
を得た（収率100％）。 元素分析値（％） C17H11Cl2NO5Sとして 計算値Ｃ，49.53；Ｈ，2.69；Ｎ，3.40 実測値Ｃ，49.23；Ｈ，2.77；Ｎ，3.49 上記参考例４の方法に準じて次の化合物が製造
された。 ３―ベンゼンスルホニルオキシ―４―ベンゾイ
ル―５―メチルイソオキサゾール， m.p.84.5〜85.5℃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 〔式中、R1およびR3は低級アルキル基または
フエニル基（該フエニルは適宜１乃至３個の低級
アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子ま
たはニトロ基で置換されていてもよい。）を示し、
R2は水素原子、低級アルキル基またはフエニル
基（該フエニルは適宜１乃至３個の低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子またはニト
ロ基で置換されていてもよい。）を示す。〕で表わ
されるイソオキサゾール化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14670680A JPS5770878A (en) | 1980-10-20 | 1980-10-20 | Isoxazole compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14670680A JPS5770878A (en) | 1980-10-20 | 1980-10-20 | Isoxazole compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5770878A JPS5770878A (en) | 1982-05-01 |
| JPS6364429B2 true JPS6364429B2 (ja) | 1988-12-12 |
Family
ID=15413695
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14670680A Granted JPS5770878A (en) | 1980-10-20 | 1980-10-20 | Isoxazole compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5770878A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5656573A (en) * | 1989-09-11 | 1997-08-12 | Rhone-Poulenc Agriculture Ltd. | Herbicidal 4-substituted isoxazoles |
| US5747424A (en) * | 1989-09-11 | 1998-05-05 | Rhone-Poulenc Agriculture Ltd. | Herbicidal 4-substituted isoxazol |
| US5650533A (en) * | 1989-09-11 | 1997-07-22 | Rhone-Poulenc Agriculture Ltd. | Intermediates to herbicidal 4-substituted isoxazoles |
-
1980
- 1980-10-20 JP JP14670680A patent/JPS5770878A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5770878A (en) | 1982-05-01 |
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